精神病患者足療盆的製作方法

2023-10-17 12:35:59 1

專利名稱：精神病患者足療盆的製作方法
技術領域：
本實用新型屬於醫療技術領域，涉及一種精神病患者足療盆。
技術背景足療對於精神病患者來說是一種較為常用的心理加藥理治療方 法，臨床使用的足療盆，盆體的上面呈敞口狀。由於精神患者的行為非同常人， 足療時，腳在盆中亂踩、亂動，經常會發生藥液飛濺出盆外、造成藥液浪費、 弄髒地面等現象。發明內容本實用新型的目的是解決現有技術足療盆藥液浪費、弄髒地面 等技術問題，提供一種新型精神病患者足療盆，以克服現有技術的不足。為了實現上述目的，本實用新型精神病患者足療盆，是在現有技術的基礎 上改進實現的，它包括盆體，其要點是盆體的上面設有密封蓋，密封蓋上設有 雙腳進出口，為了提高足療效果，盆體的底面上設有腳底穴位按摩凸起，腳底 穴位按摩凸起位於雙腳進出口的下方。本實用新型結構設計合理、使用方便，足療時，患者將雙腳從密封蓋上的 雙腳進出口伸進盆內，腳底正好踏在穴位按摩凸起上，既是患者腳在盆中亂踩、 亂動，也不會發生藥液飛濺出盆外、造成藥液浪費、弄髒地面的現象，而且腳 底下面的穴位按摩凸起對雙腳還起到按摩作用，使足療效果更好。


附圖是本實用新型結構示意圖。
具體實施方式
根據附圖，本實用新型它包括盆體1,盆體1的上面設有密封蓋2，密封蓋2上設有雙腳進出口 3、 5,盆體的底面7上設有腳底穴位按摩 凸起4、 6，腳底穴位按摩凸起4、 6位於雙腳進出口 3、 5的下方。
權利要求1、 一種精神病患者足療盆，是在現有技術的基礎上改進實現的，它包括盆 體，其特徵是盆體的上面設有密封蓋，密封蓋上設有雙腳進出口，盆體的底面 上設有腳底穴位按摩凸起，腳底穴位按摩凸起位於雙腳進出口的下方。
專利摘要本實用新型公開了一種精神病患者足療盆，是在現有技術的基礎上改進實現的，它包括盆體，其要點是盆體的上面設有密封蓋，密封蓋上設有雙腳進出口，為了提高足療效果，盆體的底面上設有腳底穴位按摩凸起，腳底穴位按摩凸起位於雙腳進出口的下方。本實用新型結構設計合理、使用方便，足療時，患者將雙腳從密封蓋上的雙腳進出口伸進盆內，腳底正好踏在穴位按摩凸起上，既是患者腳在盆中亂踩、亂動，也不會發生藥液飛濺出盆外、造成藥液浪費、弄髒地面的現象，而且腳底下面的穴位按摩凸起對雙腳還起到按摩作用，使足療效果更好。
文檔編號A61H7/00GK201020004SQ20072000509
公開日2008年2月13日 申請日期2007年2月26日 優先權日2007年2月26日
發明者傅雲婕, 王桂霞 申請人:王桂霞