用於處理或加工矽材料的方法和設備的製作方法
2023-07-01 10:23:51
專利名稱：用於處理或加工矽材料的方法和設備的製作方法
用於處理或加工矽材料的方法和設備
應用領域和現有技術
本發明涉及一種用於處理或加工矽材料的方法和設備。 由現有技術已知的一種處理方法和一種適合於實施該方法的i殳備 被用於清洗矽原材料。尤其是可以以不同大小的矽碎片或碎塊的形式呈 現的矽原材料通過該處理方法進行預處理，以便進行後續的加工，例如 用於由此製造出用於半導體製造的矽晶片或者用於太陽能電池製造的 矽片。為了進行處理，矽材料被運送到處理室中和在那裡用一種或多種 液體的和/或氣態的處理介質或處理介質組合物進行處理，以便除去表面
上的汙物如例如金屬殘餘物和/或氧化層。在使用液體處理介質的情況下 不能夠保證矽材料的所有表面區域都被處理介質潤溼。此外液體處理介 質的殘餘物或被處理介質溶解脫落的雜質雖然要經歷後續的沖洗過程 但是仍然可能保留在矽材料的表面上。
任務和技術方案
本發明的任務是提供一種開頭所述的設備以及一種開頭所述的方 法，通過它們可以避免現有技術中的問題和尤其是可以實現矽材料的提 高的清洗效果。
該任務通過一種具有權利要求1的特徵的方法以及通過一種具有權 利要求11的特徵的設備解決。本發明的有利的以及優選的實施例是其 它權利要求的主題和在以下進行詳細描述。方法和設備部分地共同地描 述，但是這些描述以及相應的特徵與該方法和設備是相獨立的。權利要 求書的全文通過明確的引用成為說明書的內容。
按照本發明的一個第一方面，設置一種用於處理或加工矽材料的方
法，其包括一個清洗過程，其中該清洗過程具有步驟:用第一液體處理介 質潤溼在第一空間方位上定向的矽材料，藉助於迴轉裝置自動化地改變 矽材料的方位，在改變的方位上用第一液體處理介質潤溼矽材料。矽材 料，其尤其是以具有小於10cm的典型的稜邊長度和小於1000cn^的典 型的體積的不規則的碎片的形式，亦即大約拳頭大的和更小的碎塊或碎 片呈現，將首先在一個第一空間定向上用第一液體處理介質潤溼。矽材
料的空間定向由通過將碎塊輸送到處理室中時任意地產生，在該處理室 中實施清洗過程。碎塊例如通過一個接觸面或通過多個接觸點放置一個 支座上和在該空間定向上用液體處理介質潤溼，尤其是被噴射。雖然矽 材料被噴射，其優選從多個空間方向用多個噴嘴進行，該噴嘴尤其是可 以將噴射流或噴霧噴灑到矽材料上，但是由於受到各單個的碎塊的外輪 廓的限制，不能夠保證通常不規則地形成的矽材料碎塊的所有表面段都 -故液體的處理介質潤溼。
為了能夠實現有利的清洗效果，在用處理介質進行了第 一 潤溼之後 藉助於迴轉裝置有利地自動化地改變矽材料的方位，從而矽材料現在以
一個不同的接觸面或另外的接觸點放置在支座上和由此處於一個改變 了的空間方位是，亦即處於不同的位置。由此在再次噴灑液體處理介質 時，在位置改變之前不能夠被潤溼的那些表面段也能夠被潤溼。在本發
明的一個優選的實施形式中，迴轉裝置這樣地構造，至少50%的矽材料 在迴轉過程中經歷了一次至少20度的位置改變。在本發明的一個特別 優選的實施形式中，規定，至少75%的矽材料在迴轉過程中經歷一次至 少20度的位置改變。
在本發明的實施例中規定，在清洗過程中在至少三個潤溼工序之間 進行至少兩次方位改變。通過至少三個清洗工序，即通過針對矽材料的 一個在時間順序上的三個潤溼工序和在各個清洗工序之間分別設置的 方位改變，可以以高的可靠性實現用處理介質對矽材料的全部外表面進 行至少近似完全的潤溼。在清洗工序之間通過迴轉裝置各引起一次方位
溼下。由此一定數量的清洗工序對應於一定數量的n-l次方位改變。
在本發明的另 一個實施例中規定，用處理介質潤溼矽材料也至少在 方位改變期間進行。在方位改變期間，該方位改變相當於矽材料的各單 個碎塊相對於支座的相對運動，那些可能既沒有在第一空間定向上也沒
理介質潤溼。由此可以達到一種通過很小次數的方位改變，尤其是只有 一次方位改變的特別有利的清洗效果。
在本發明的另一個實施例中規定，在一個第一清洗過程之後設置至 少 一個或多個尤其是相同方式進行的採用不同的處理介質的清洗過程， 其中設置至少一個用處理介質對矽材料進行的第一潤溼，至少一次矽材料的方位改變和至少另 一 個用處理介質對矽材料進行的潤溼。通過串聯 多個清洗過程，其尤其是實施各至少兩個潤溼工序和至少一個在其之間
除不同的雜質。
在本發明的另 一 個實施例中規定，作為處理介質使用以下組中的至
少一種物質:氫氟酸(HF),鹽酸(HC1),硝酸(HN03),鉀鹼液(NaOH),尤 其是在水溶液中。採用這些處理介質可以從矽材料的外表面上去除氧化 層，金屬離子和其它雜物。這些物質尤其是在水溶液中使用，以便能夠 產生確定的不是太強烈的清洗效果。這些物質也可以相互混合在置於水 溶液中，以便可以獲得一種組合的清洗效果。
在本發明的另 一 個實施例中規定，對於第 一 清洗過程使用溶解在水 中的氫氟酸(HF(aq))或溶解在水中的硝酸(HN03(aq))作為處理介質，對於 第二清洗過程使用溶解在水中的鉀鹼液(NaOH(aq))作為處理介質和對於 第三清洗過程使用溶解在水中的鹽酸(HCI(aq))作為處理介質。在前後設
材料的外表面上的有關的汙物。
在本發明的另一個實施例中規定，在至少一個，尤其是在每個清洗 過程之後利用沖洗裝置實施一個沖洗過程，尤其是採用去離子化的水。 通過一個衝洗過程，它可以在改變或不改變矽材料的方位下實施，由處 理介質從外表面除掉的汙物以及處理介質本身可以;故除去和由此不會 妨礙在後續的清洗過程中繼續清洗矽材料。此外防止了在前一個清洗步 驟中的處理介質的殘餘物在下一個清洗步驟中與在那裡使用的處理介 質以不希望的方式發生反應。
衝洗過程可以在與清洗過程相同的處理室中進行，同樣可以^見定， 為了進行衝洗過程將矽材料運送到 一個具有用於沖洗介質的配量孔口 的分開的沖洗室中。在本發明的 一 個優選的實施形式中環形地設置噴 嘴，這種設置可以實現至少近乎全方位地將衝洗介質噴灑到矽材料上。
在本發明的另 一 個實施例中規定，該 一 個或多個清洗過程通過基本 上連續地尤其是自動化地輸送矽材料，通過用處理介質基本上連續地潤 溼矽材料和通過對矽材料的至少一次方位改變，尤其是在清洗室中，進 行實施。通過一種連續的輸送可以在一個短的時間段中有效地清洗大量 的矽材料。連續的輸送矽材料是指，使矽材料藉助於輸送裝置在至少一
個空間方向運動和在此情況下通過至少一個第一潤溼裝置， 一個迴轉裝 置和一個第二潤溼裝置。潤溼裝置構造成基本上連續地將處理介質施加 到矽材料的外表面上，而迴轉裝置構造成基本上連續地改變矽材料的方 位。通過使連續的輸送矽材料與連續的潤溼和連續的方位改變進行組 合，各單個的矽材料碎塊在通過笫 一 潤溼裝置時經受到用處理介質進行 的第一潤溼。接著發生方位改變的迴轉過程和然後在通過第二潤溼裝置 時另一次施加處理介質。由此可以實施連續的清洗過程，但是它禍:i正了 對矽材料的至少幾乎全部表面段的可靠的清洗。
在本發明的另 一個實施例中規定，矽材料為了改變空間方位輛^人第 一輸送裝置輸送到一個相間隔地布置的第二輸送裝置上，後者布置在第 一輸送裝置下方，從而矽材料從第 一輸送裝置在改變空間方位的情況下 落到第二輸送裝置上。通過將輸送裝置間隔開使得矽材料在輸送裝置之 間運動一個路段，此時它至少短時間地不與支座，即不與其中一個l命送 裝置接觸。通過使矽材料從第 一輸送裝置上離開和達到或帶到第二輸送 裝置上完成希望的方位改變。優選輸送裝置在垂直方向上相互相間隔 地，即相互上下地布置，從而矽材料從第一輸送裝置落到第二輸送裝置 上和由此改變它的空間定向或位置。方位改變也可以通過前後布置的輸 送裝置的不同的速度，尤其是通過各後置的輸送裝置的更高的速度變得 更加有利。
在本發明的另一個實施例中規定，在至少一個清洗過程之後和/或在 至少一個沖洗過程之後對矽材料進行一個乾燥過程。由此可以防止通過
處理介質或沖洗介質的水分殘餘物將汙物重新粘附在矽材料的外表面 上。此外尤其是對於處理介質的殘餘物可以減小或停止各處理介質與矽 材料的外表面的繼續反應。乾燥過程優選設置高溫空氣乾燥或紅外線幹 燥，其中矽材料被連續地運送通過一個乾燥室，在該乾燥室中進行乾燥過程。
按照本發明的另一個方面，設有一種用於處理矽材料的設備，尤其 是用於實施前述的方法，該設備包括至少一個用於在至少一個輸送方向 上輸送矽材料的輸送裝置，包括至少一個與該輸送裝置配置的用於改變 矽材料的空間方位的迴轉裝置和包括至少 一個分別在輸送方向上在回 轉裝置之前和在輸送方向上在迴轉裝置之後布置的用於用處理介質潤 溼矽材料的潤溼裝置。該尤其是自動的輸送裝置能夠在至少一個輸送方
向上連續地輸送矽材料。矽材料的輸送可以尤其是沿著直線的或曲線的 空間線上進行。自動化的輸送可以尤其是通過外力驅動的輸送裝置實 施，例如採用電動驅動裝置。迴轉裝置可以主動地或被動地構造。在主
改變，例如通過一個抓臂，它抓住矽材料和主動地改變空間定向。在被 動的迴轉裝置中例如將由於輸送而總是存在的運動能量和/或矽材料的 潛在的位能用於方位改變，由此可以實現設計結構簡單的迴轉裝置。
在本發明的另一個實施例中規定，輸送裝置具有環行的、無頭的輸 送帶，其包括一個上分支和一個下分支，其中上分支與水平方向成4兌角 地定向和用於運送矽材料。上分支和下分支由無頭的、環形的、由柔性 的材料製造的、環行的帶子形成。輸送帶的上分支是向上與輸送裝置背 離指向的、可以在輸送方向上運動的表面區域，它的面法線基本上在垂 直方向上向上地指向。該表面區域用作為矽材料的支座並且沒有其它的 輔助機構。面法線可以尤其是與垂直線成一個銳角，亦即，矽材料在輸 送期間克服一個高度差。藉助於無頭的輸送帶和例如作為電機構造的驅 動裝置可以在很小的時間內輸送大量的矽材料。
在本發明的另一個實施例中規定，輸送帶用一種可以讓處理介質通 過的材料，尤其是網狀材料，構成。由此保證處理介質在噴灑到矽材料 的外表面上之後可以滴出，而不會聚積在矽材料的下側和作為封閉的表 面構造的支座之間。由此可以尤其是避免，在矽材料的下側上聚積,皮處 理介質除掉的雜質。在本發明的一個優選的實施形式中規定，藉助於在 上分支的下方布置的用於處理介質的潤溼裝置也可以藉助於基本上垂 直向上的噴射流潤溼矽材料的下側。通過輸送帶的可以透過的構造，由 此可以不僅在珪材料的下側上增多汙物而且可以有利地潤溼矽材並牛的 下側。
在本發明的另一個實施例中規定，作為迴轉裝置構造至少一個與輸 送方向成銳角地布置的、與上分支的表面正交地和相鄰地定向的導4九， 用於矽材料的方位改變。此時涉及的是一種被動的迴轉裝置，它以偏轉 板的方式將一個基本上垂直於輸送方向指向的力施加到矽材料上和由 此可以引起方位改變。為此目的，導軌與上分支的表面相鄰地布置，從 而它可以覆蓋至少幾乎全部放置在上分支上的矽材料的碎塊。導軌具有 一個偏轉表面，它與輸送方向成一個銳角和它的面法線基本上水平地定
向。通過輸送裝置在輸送方向輸送的矽材料以銳角撞擊到導軌上和由此 受到與輸送方向正交的力的作用，由此可以產生方位改變。通過在導軌 和輸送方向之間的角度的可調節性可以確定矽材料在導軌上撞擊的強 度和由此確定通過導軌引起的迴轉過程的效果。在本發明的 一個優選的 實施形式中多個，不同地定向的導軌前後地布置在上分支上，以{更{呆證 矽材料的可靠的方位改變。
在本發明的另一個實施例中規定，迴轉裝置通過設置至少兩個尤其 是在輸送方向重疊地布置的輸送帶形成，用於引起矽材料的方位改變。 該至少兩個輸送帶可以尤其是相互相間隔地布置，從而矽材料在之輸送 帶間運動一段自由的路段，在該情況下它至少短時間地不與支座，亦即 不與其中 一個輸送裝置接觸。矽材料離開第 一輸送帶和到達第二輸送帶 上，由此引起希望的方位改變。優選輸送帶在垂直方向上相互相間隔， 從而矽材料從第 一輸送帶上以至少近似自由落體的情況下落到第二輸 送帶上和由此改變它的空間定向。也可以通過前後布置的輸送帶的不同 的速度，尤其是通過後置的輸送帶的較高的速度使方位改變有利地實 現。在本發明的一個有利的實施形式中規定，相互跟隨的輸送帶相互成 一定角度地定向，亦即，輸送方向不同地、尤其是反向地選擇。
在本發明的另一個實施例中規定，至少一個自動輸送裝置，至少一 個迴轉裝置和至少兩個潤溼裝置設置在一個至少基本上封閉的清洗室 中，用於防止處理介質逸出。由此可以將通常是腐蝕性的處理介質也以 大的壓力施加到矽材料上，尤其是霧化地施加。由此可以實現有利的清 洗效果，同時不會使環境承受處理介質。在本發明的一個有利的實施形 式中在清洗室的 一個進入口處和/或 一個排出口處，通過它們可以將石圭材 料引入到處理室中或者從處理室中輸送出來，設置一個密封裝置，尤其 是形式為柔性的材料條和/或形式為空氣簾或水簾，通過它們可以幾乎完 全地防止被霧化的處理介質從清洗室中出來。
在本發明的另 一 個實施例中規定，將 一 個沖洗裝置組合在清洗室 中。由此可以在一個清洗室中實現用處理介質對矽材料進行的完全集合 的溼式化學清洗和緊接著隨後的衝洗過程。
在本發明的 一個備選的實施例中規定，衝洗裝置由單獨的衝洗模塊 構造和沿著輸送方向布置在清洗室之後。這可以實現對處理介質和沖洗 介質的分開的處理，它們可以收集在分開的模塊中，從而可以對各個介 質分別進行一種特定適合的處理。此外在這種清洗室和沖洗裝置的i殳置
中分別運行的清洗過程和沖洗過程不會以不希望的方式產生相互影響。 在本發明的另一個實施例中規定，沖洗裝置，乾燥裝置和清洗室模 塊式地和相互可以以任意的順序耦聯地構造。由此可以實現採用不同的 處理介質的可以預先自由給定的順序的清洗過程和必要時在該清洗過 程之間設置衝洗和/或乾燥過程。這可以使要處理的矽材料的不同的清洗 要求得到有利的適配。在本發明的另一個實施例中規定，輸送裝置配置 有一個接納站和/或一個輸出站，它們用於輸入和/或運出矽材料。4妾納 站和輸出站可以由輸送帶構造和可以實現將矽材料連續地運送到至少 一個清洗室中和將處理過的矽材料從清洗室或後置的衝洗裝置或乾燥 裝置中運出。
中獲得，其中各單個特徵可以本身單獨地或者:、衝目互組合的形式多個地 在本發明的實施形式中和在其它領域中實施和展示為有利的以及本身 可以保護的實施方案，對其在此要求了保護。本申請劃分成各個段落以 及加有小標題在此所做的陳述下不限制它的 一般的有效性。
附圖的簡單說明
在附圖中示意示出了本發明的一個實施例並且在下面進行詳細描
述。附圖中所示
圖l是一個清洗室的示意視圖，包括一個後置的衝洗裝置和多個作 為輸送帶構造的輸送裝置。
實施例的詳細描述
用於處理矽材料3的設備1具有多個相互前後逐段地在垂直方向上 重疊地布置的自動輸送裝置，它們構造成輸送帶2.1至2.7和用於在至 少一個輸送方向4上輸送矽材料3。藉助於輸送帶2.1至2.7矽材料3可 以被輸送通過清洗室5和後置的衝洗室6和用處理介質7以及衝洗介質 8力口載。
第一輸送帶2.1作為接納站進行構造和用於將矽材料3運送到清洗 室5中。第一輸送帶2.1在垂直方向上布置在第二輸送帶2.2的上方並 且重疊，從而矽材料3可以從第一輸送帶2.1沿著一個短的自由下落路
程落到第二輸送帶2.2上。所有的輸送帶2.1至2.7是共同的，使得矽材 料3可以在柔性的，網眼形的和由此液體可通過的帶子10的上分支9 的與輸送帶2.1至2.7背離指向的表面上進行輸送。此時上分支9的表 面的面法線11至少基本上在垂直方向14上定向，從而可以通過環4亍的 帶子10在至少主要為水平方向上進行矽材料3的運送。為了能夠緊湊 地設置輸送帶2.2至2.6和由此使清洗室5和後置的衝洗室6保持^艮小 的空間需求，輸送帶2.2至2.6分別相互平行地定向和面法線11與垂直 線14之間成一個銳角，例如5度至30度的角。 a
第二輸送帶2.2以及其它輸送帶2.3和2.4分別配置一個潤溼裝置。 藉助於構造成噴嘴裝置12的潤溼裝置，它們部分地在垂直方向上布置 在上分支9上方和部分地在垂直方向上布置在上分支9下方，可以至少 大致全方位地用處理介質7對矽材料3進行潤溼。處理介質7通過介質 管道13供給到噴嘴裝置12,藉助於壓力加載通過沒有詳細示出的噴嘴 孔口作為霧化的噴射錐在上分支9的方向上和由此在矽材料3的方向上 散布和噴射到矽材料3上。通過在在清洗室5中設置噴嘴裝置12可以 在高壓下用處理介質7對矽材料3進行潤溼，同時由此被霧化的處理介 質不會不受控制地跑到環境中。噴嘴裝置12分別與輸送帶2.2， 2.3和 2.4配置，其中噴嘴裝置12的噴射錐也分別覆蓋輸送帶2.2和2.3的端 部區域。由此保證，矽材料3在通過級聯式的輸送帶裝置時產生的方位 改變期間也由處理介質7潤溼。
多餘的處理介質7和帶有從矽材料上脫落的雜質的處理介質7可以 在垂直方向上向下滴出和由此被收集到一個沒有詳細示出的收集或處 理池中，用於處理或加工已使用的處理介質7。噴嘴裝置12用於連續地 供給處理介質7，從而在輸送帶2.2至2.4上輸送的矽材料同樣近似連續 地-故處理介質潤溼。
矽材料3以第一空間定向置於第一輸送帶2.1上和沿輸送方向4被 運送到第二輸送帶2.2上。通過第二輸送帶2.2的垂直向下移置的、重 疊的設置，矽材料3在到達輸送帶2.1的端部區域時沿垂直方向落到第 二輸送帶2.2上，其中矽材料3的空間定向也發生變化，以及發生了轉 動。同樣的情況也適用於其它的輸送帶2.3至2.7,從而矽材料3在每次 ,人前一個到後一個輸送帶2.1至2.7的過渡期間經歷一次方位改變，如 這在
圖1中示意地示出。由此各重疊布置的輸送帶2.1至2.7形成用於
矽材料3迴轉裝置。
輸送帶2.5用於將矽材料3從清洗室5引導到衝洗室6中，在或者 中同樣設有噴嘴裝置12,它至少幾乎在各側上用衝洗介質8,尤其是用 去離子化的水，潤溼矽材料。
在本發明的一個沒有示出的實施形式中設有一個分揀裝置，它對在 一個清洗步驟期間或之後針對各個碎塊的大小分揀被處理的矽材料。優 選分揀裝置與輸出站相配置，從而在矽材料完全清洗之後進行分揀。
權利要求
1.用於處理或加工尤其是固體的矽材料(3)的方法，包括一個清洗過程，其具有步驟:用第一液體處理介質(7)潤溼在第一空間方位上定向的矽材料(3)，藉助於迴轉裝置改變矽材料(3)的方位，在改變的方位上用第一液體處理介質(7)潤溼矽材料(3)。
2. 按照權利要求1所述的方法，其特徵在於，在該清洗過程中進行 至少三個潤溼工序並且在各工序之間進行一次方位改變。
3. 按照權利要求1或2所述的方法，其特徵在於，在方位改變期間 也用處理介質(7)對矽材料(3)進行潤溼。
4. 按照前述權利要求中之一所述的方法，其特徵在於，在一個笫一 清洗過程之後設置至少一個或多個尤其是相同方式進行的採用不同的 處理介質(7)的清洗過程，其中設置至少一個用處理介質(7)對矽材料(3) 進行的第 一潤溼，至少一次矽材料(3)的方位改變和至少另 一個用處理介 質(7)對矽材料(3)進行的潤溼。
5. 按照前述權利要求中之一所述的方法，其特徵在於，作為處理介 質(7)使用以下的組中的至少一種:氫氟酸(氟化氫HF),鹽酸(HC1),硝酸 (HN03),鉀鹼液(NaOH),尤其是在水溶液中。
6. 按照權利要求4或5所述的方法，其特徵在於，對於第一清洗過 程使用溶解在水中的氫氟酸(HF(aq))或溶解在水中的硝酸(HN03(叫))作 為處理介質(7),對於第二清洗過程使用溶解在水中的鉀鹼液(NaOH(aq)) 作為處理介質(7)和對於第三清洗過程使用溶解在水中的鹽酸(HCI(aq)) 作為處理介質(7)。
7. 按照前述權利要求中之一所述的方法，其特徵在於，在至少一個， 尤其是在每個清洗過程之後利用衝洗裝置實施一個衝洗過程，尤其是採 用去離子化的水。
8. 按照前述權利要求中之一所述的方法，其特徵在於，該一個或多理介質(7)基本上^續地潤溼矽材料(3)和通過對矽材料(3)的至少 一次方 位改變，尤其是在清洗室(5)中，進行實施。
9. 按照前述權利要求中之一所述的方法，其特徵在於，矽材料(3)為 了改變空間方位被從第一輸送裝置(2.1， 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, 2.6, 2.7)輸送到一個相間隔地布置的第二輸送裝置(2.1， 2.2， 2.3， 2.4, 2.5， 2.6， 2.7)上,後者布置在第一輸送裝置(2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5， 2.6, 2.7) 下方，從而矽材料從第一輸送裝置(2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5， 2.6, 2.7) 在改變空間方位的情況下落到第二輸送裝置(2.1, 2.2, 2.3, 2.4， 2.5， 2.6， 2.7)上。
10. 按照前述權利要求中之一所述的方法，其特徵在於，在至少一個 清洗過程之後和/或在至少一個沖洗過程之後對矽材料(3)進行一個乾燥過程。
11. 用於處理矽材料(3)的設備(1),尤其是用於實施前述的方法，包 括至少一個用於在至少一個輸送方向(4)上輸送矽材料(3)的輸送裝置 (2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, 2.6, 2.7),包括至少一個與該輸送裝置(2.1,2.2, 2.3， 2.4， 2.5, 2.6， 2.7)配置的用於改變矽材料(3)的空間方位的回 轉裝置和包括至少一個分別在輸送方向(4)上在迴轉裝置之前和在輸送 方向上在迴轉裝置之後布置的用於用處理介質(7)潤溼矽材料(3)的潤溼 裝置(12)。
12. 按照權利要求11所述的設備，其特徵在於，輸送裝置(2.1, 2.2, 2.3， 2.4， 2.5， 2.6, 2.7)縱向伸長地構造。
13. 按照權利要求11或12所述的設備，其特徵在於，輸送裝置(2.1， 2.2， 2.3， 2.4, 2.5, 2.6, 2.7)具有環行的、無頭的輸送帶，其包括一個 上分支(9)和一個下分支，其中上分支(9)與水平方向成一個銳角地定向和 用於運送矽材料(3)。
14. 按照權利要求13所述的設備，其特徵在於，輸送帶(2.1, 2.2,2.3, 2.4, 2.5， 2.6, 2.7)由一種可使處理介質(7)通過的材料，尤其是網 狀材料，構成。
15. 按照權利要求13或14所述的設備，其特徵在於，作為迴轉裝置 構造有至少一個在與輸送方向(4)成銳角地布置的、與上分支(9)的表面正 交地和相鄰地定向的導軌，用於矽材料(3)的方位改變。
16. 按照權利要求13或14所述的設備，其特徵在於，迴轉裝置通過 設置至少兩個尤其是在輸送方向(4)重疊地布置的輸送帶(2.1， 2.2, 2.3, 2.4， 2.5， 2.6, 2.7)形成，用於引起矽材料(3)的方位改變。
17. 按照權利要求13至16中之一所述的設備，其特徵在於，至少一 個自動輸送裝置(2.1, 2.2, 2.3, 2.4， 2.5， 2.6， 2.7),至少一個迴轉裝 置和至少兩個潤溼裝置(12)設置在一個至少基本上封閉的清洗室(5)中， 用於防止處理介質(7)跑出，其中優選將一個衝洗裝置(12)組合到清洗室(5)中。
全文摘要
一種用於處理或加工矽材料(3)的方法，用於實施一個清洗過程，其具有以下步驟用第一液體處理介質(7)潤溼在第一空間方位上定向的矽材料(3)，藉助於迴轉裝置自動化地改變矽材料(3)的方位，在改變的方位上用第一液體處理介質(7)潤溼矽材料(3)。還公開了一種相應的清洗設備(1)。
文檔編號C01B33/00GK101374763SQ200780003303
公開日2009年2月25日 申請日期2007年1月23日 優先權日2006年1月23日
發明者H·卡普勒 申請人:吉布爾·施密德有限責任公司