Cip自動清洗方法
2023-06-29 19:15:41
專利名稱：Cip自動清洗方法
技術領域：
本發明涉及一種CIP自動清洗方法。
背景技術：
中藥煎煮機替代傳統的手工煎煮中藥，使人們從既費時又繁雜的手工煎煮勞動中 解脫出來，並為廣大患者帶來了諸多便利。為此，中藥煎煮機在各地醫院及部分藥店被普遍 使用。中藥煎煮機在反覆煎煮中藥的過程中，由於在一定的溫度及壓力條件下，各種藥物容 易發生化學反應，使用一段時間，中藥煎煮機的內膽壁上就會形成一層中藥凝沉物。使用時 間越長，凝沉物越厚，從而影響藥物的治療效果。因此，煎煮機內膽須經常清洗。從目前現 狀看，一般的醫院均設有中藥煎煮機，其內膽的清洗全部靠手工完成，清洗時耗時、費力，且 內膽壁上的中藥凝沉物不易洗淨。在頻繁的手工清洗過程中，還會出現不良物侵入的可能， 對中藥湯劑造成質量隱患。 目前使用的清洗方法比較傳統，採用手動清洗，由於清洗手段落後，造成清洗的質 量達不到要求、留有清洗死角等缺陷，嚴重影響生產效率和產品質量。傳統的清洗方法採用 手動清洗，一種是普通清洗，另一種是高壓清洗。普通清洗其缺點是清洗不乾淨，耗費時 間，易造成設備表面刮痕，清洗液濃度控制不準確；高壓清洗，雖然對濾網、設備凸緣和鑽孔 物體清洗有一定效果，但是清洗時會產生有害氣霧。兩種方法都會對操作員人身造成不良 影響和傷害。 總之，傳統的手動清洗中藥罐方法存在著很多的缺陷，已經不能適應現代企業高 效率、高品質的生產需要。 同理，除了製藥生產線存在上述問題，乳品生產線和食品生產線也存在相同的問 題。
發明內容
本發明的目的是解決製藥生產線、乳品生產線和食品生產採用傳統的手動清洗方 法留有清洗死角、效率低，不能適應現代企業高效率、高品質的生產需要的問題，提供了CIP 自動清洗方法。 本發明方法分上位機程序模塊和下位機程序模塊兩部分進行控制 上位機程序模塊包括人機互動模塊、資料庫應用程式模塊、數據處理模塊、數據
庫和下位機程序接口模塊， 人機互動模塊，用於實現人機互動，操作員通過人機互動模塊下達清洗命令給數 據庫應用程式模塊，同時還用於接收資料庫應用程式模塊反饋的備選清洗方案，由操作員 從備選清洗方案中選定清洗方案並將其下達給數據處理模塊， 資料庫應用程式模塊，用於接收人機互動模塊下達的清洗命令，並根據所述清洗 命令調用資料庫中存放的清洗設備的標識、清洗方法參數來確定備選清洗方案，並將所述 備選清洗方案反饋給人機互動模塊，
數據處理模塊，用於接收人機互動模塊輸出的、操作員確定的清洗方案，還用於輸 出所述確定的清洗方案給下位機程序接口模塊， 下位機程序接口模塊，用於接收數據處理模塊輸出的清洗方案，還用於將其輸出 給下位機程序模塊中的上位機程序接口模塊， 下位機程序模塊包括上位機程序接口模塊、CIP指令處理模塊、CIP參數處理模 塊、CIP站內控制模塊、CIP現場控制模塊、狀態檢測_報警_聯動保護_中斷模塊和I/O信 號處理模塊， 上位機程序接口模塊，用於接收下位機程序接口模塊輸出的清洗方案，還用於將 所述清洗方案輸出給CIP指令處理模塊、CIP參數處理模塊、狀態檢測-報警-聯動保護-中 斷模塊和1/0信號處理模塊， CIP指令處理模塊和CIP參數處理模塊，用於接收上位機程序接口模塊輸出的清 洗方案，進行分析處理，並根據CIP站內控制模塊反饋的I/O信號將處理指令發送給CIP現 場控制模塊， CIP站內控制模塊，用於接收1/0信號處理模塊輸出的1/0信號，並將接收的I/O 信號反饋給CIP指令處理模塊和CIP參數處理模塊， CIP現場控制模塊，用於接收CIP指令處理模塊和CIP參數處理模塊輸出的I/O指 令，並用於將所述I/O指令輸出給I/O信號處理模塊， 1/0信號處理模塊，用於接收上位機程序接口模塊輸出的清洗方案和CIP控制系 統的各種傳感器輸出的信號，所述信號包括溫度、壓力、液位、電機速度、K1值和離子濃度信 號，還用於接收CIP現場控制模塊和狀態檢測_報警_聯動保護_中斷模塊發送的I/O指 令，還用於將所述I/O指令發送給CIP控制系統的各種執行機構， 狀態檢測-報警-聯動保護_中斷模塊，用於接收上位機程序接口模塊輸出的清 洗方案和狀態檢測，還用於對檢測的狀態進行分析處理，還用於根據狀態檢測結果輸出I/O 指令給I/0信號處理模塊。
本發明的優點 1 、清洗效率高，清洗效果好，不留清洗死角。
2、清洗液濃度控制準確，避免對操作人員的傷害。
3、提高清洗液的使用率，節省原料費用。 4、整個清洗過程自動控制，節省大量的人工費用，能適應現代企業高效率、高品質 的生產需要。
圖1是本發明方法程序框圖，圖2是本發明方法所涉及系統的結構示意圖，圖3是 CIP系統硬體結構圖。
具體實施例方式
具體實施方式
一 下面結合圖l至圖3說明本實施方式，本實施方式方法分上位機 程序模塊和下位機程序模塊兩部分進行控制 上位機程序模塊包括人機互動模塊、資料庫應用程式模塊、數據處理模塊、數據
5庫和下位機程序接口模塊， 人機互動模塊，用於實現人機互動，操作員通過人機互動模塊下達清洗命令給數 據庫應用程式模塊，同時還用於接收資料庫應用程式模塊反饋的備選清洗方案，由操作員 從備選清洗方案中選定清洗方案並將其下達給數據處理模塊，
其中 人機互動模塊包括權限管理模塊、工藝流程畫面管理模塊、操作指令管理模塊、參
數設定模塊、報警管理模塊和歷史數據應用模塊， 權限管理模塊，用於人機互動時的權限管理， 工藝流程畫面管理模塊，用於根據選定的清洗方案呈現相應的工藝流程，
操作指令管理模塊，用於操作員選擇相應操作指令， 參數設定模塊，用於操作員選擇相應的參數，管道清洗、設備清洗或濃縮器清洗的
參數不同，根據不同類型的清洗菜單設定相關參數，包括每種物料的排汙時間、循環時間、
頂液時間、清洗次數和清洗壓力， 報警管理模塊，用於顯示各種類型報警， 歷史數據應用模塊，存儲歷史數據以供調用。 資料庫應用程式模塊，用於接收人機互動模塊下達的清洗命令，並根據所述清洗 命令調用資料庫中存放的清洗設備的標識、清洗方法參數來確定備選清洗方案，並將所述 備選清洗方案反饋給人機互動模塊， 數據處理模塊，用於接收人機互動模塊輸出的、操作員確定的清洗方案，還用於輸 出所述確定的清洗方案給下位機程序接口模塊， 下位機程序接口模塊，用於接收數據處理模塊輸出的清洗方案，還用於將其輸出 給下位機程序模塊中的上位機程序接口模塊， 下位機程序模塊包括上位機程序接口模塊、CIP指令處理模塊、CIP參數處理模 塊、CIP站內控制模塊、CIP現場控制模塊、狀態檢測_報警_聯動保護_中斷模塊和I/O信 號處理模塊， 上位機程序接口模塊，用於接收下位機程序接口模塊輸出的清洗方案，還用於將 所述清洗方案輸出給CIP指令處理模塊、CIP參數處理模塊、狀態檢測-報警-聯動保護-中 斷模塊和1/0信號處理模塊， CIP指令處理模塊和CIP參數處理模塊，用於接收上位機程序接口模塊輸出的清 洗方案，進行分析處理，並根據CIP站內控制模塊反饋的I/O信號將處理指令發送給CIP現 場控制模塊， CIP站內控制模塊，用於接收1/0信號處理模塊輸出的1/0信號，並將接收的I/O 信號反饋給CIP指令處理模塊和CIP參數處理模塊，
其中 CIP站內控制模塊包括CIP站內工藝參數庫、酸鹼調配模塊、循環保溫模塊、補液 排液模塊和供回液調節模塊， CIP站內工藝參數庫，用於存儲站內工藝參數，將接收的1/0信號與CIP站內工藝 參數庫中數據進行比對，並根據清洗方案的工藝流程決定執行酸鹼調配模塊、循環保溫模 塊、補液排液模塊或供回液調節模塊中的一種，
酸鹼調配模塊，用於進行酸液調配或鹼液調配，
循環保溫模塊，用於系統的循環保溫控制，
補液排液模塊，用於系統的補液或排液控制，
供回液調節模塊，用於系統的供液或回液控制。 CIP現場控制模塊，用於接收CIP指令處理模塊和CIP參數處理模塊輸出的I/O指 令，並用於將所述I/O指令輸出給I/O信號處理模塊，
其中 CIP現場控制模塊包括CIP現場工藝參數庫、清洗設備狀態檢測模塊、清洗液分 配模塊、清洗過程控制模塊和清洗設備自控程序分類調用接口模塊， CIP現場工藝參數庫，用於存儲現場工藝參數，根據CIP指令處理模塊和CIP參數 處理模塊下達的1/0指令調用本庫中的數據，並根據所調用的數據輸出1/0指令給I/0信 號處理模塊，通過控制相應執行機構的開關閥、調節閥、電機啟停或電機速度調節來實現設 備的清洗方案， 清洗設備狀態檢測模塊，用於檢測清洗設備的狀態，還根據設備狀態檢測結果輸 出I/O指令給I/O信號處理模塊， 清洗液分配模塊，用於控制清洗液的輸出量，所述清洗液的輸出量包括冷水量、熱 水量、純水量、酸液量和鹼液量， 清洗過程控制模塊，用於控制清洗的過程，清洗的工藝過程依次為輸出純水、酸 液、純水、鹼液和熱水， 清洗設備自控程序分類調用接口模塊，用於識別待清洗設備，為控制該設備的相 關動作提供接口。 1/0信號處理模塊，用於接收上位機程序接口模塊輸出的清洗方案和CIP控制系 統的各種傳感器輸出的信號，所述信號包括溫度、壓力、液位、電機速度、K1值和離子濃度信 號，還用於接收CIP現場控制模塊和狀態檢測_報警_聯動保護_中斷模塊發送的I/O指 令，還用於將所述I/O指令發送給CIP控制系統的各種執行機構。 狀態檢測-報警-聯動保護_中斷模塊，用於接收上位機程序接口模塊輸出的清 洗方案和狀態檢測，還用於對檢測的狀態進行分析處理，還用於根據狀態檢測結果輸出I/O 指令給I/O信號處理模塊，實現報警、聯動保護和中斷功能。 狀態檢測-報警-聯動保護_中斷模塊中的符號"-"表示並列的意思，此模塊具有 的功能為狀態檢測、報警、聯動保護和中斷，為了在敘述時和與其並列的別的模塊區分開， 因此用"-"代替"、"。 CIP清洗(Cleaning In Place)設備(罐體.管道.泵等)及整個生產線在無須 人工拆開或打開的前提下，在閉合的迴路中進行循環清洗.消毒。原位清洗簡稱CIP，又稱 在位清洗或自動清洗。原位清洗是指不用拆開或移動裝置，即採用高溫、高濃度的洗淨液， 對設備裝置加以強力作用，把與食品的接觸面洗淨的方法。 CIP在線清洗自動控制系統，整個過程不拆卸生產設備，用清洗液對設備進行清洗 和消毒，自動清洗生產設備，採用智能控制模型進行全自動控制，並且與生產過程控制系統 相互協調。通過先進的檢測設備和執行設備精確控制清洗液，對所有接觸過物料的設備和 管道進行清洗，控制系統保證了清洗液具有一定的流速形成循環，確保了清洗可靠。
與傳統的清洗方法相比較，CIP在線清洗自控系統優勢如下 1)清洗效率高，清洗效果好，不留清洗死角。 2)清洗液濃度控制準確，避免對操作人員的傷害。 3)提高清洗液的使用率，節省原料費用。 4)整個清洗過程自動控制，節省大量的人工費用。 基於CIP在線清洗自控系統的性能優勢，以及市場的迫切需求，結合我室民品項 目開發經驗，開發一套CIP在線清洗自控系統和仿真演示軟體是可行的。
下面結合圖1和圖2具體說明本系統的組成及工藝控制過程
CIP系統主要由兩部分組成。 第一部分是CIP站。CIP站由一個較大的空間和空間內為完成CIP功能而配備的 各種實體設備組成。主要設備有純水罐1、熱水罐2、酸液罐3、鹼液罐4、濃鹼罐5、濃酸罐 6、中和罐7、計量泵8、變頻循環泵9、自吸泵10、換熱器11和過濾器12，各設備通過管道和 控制閥門及各種檢測儀表連接成一套系統。CIP站主要實現的功能有 i.配置符合要求的清洗液，如配置在某一溫度下某ra值的酸液或鹼液。 2.存放清洗液、補充新的清洗液、排放因循環使用而不合格的清洗液。
3.向需要清洗的設備輸送被指定的清洗液。
4.保證清洗液的供液壓力達到要求。
5.按要求回收或排放清洗液。 第二部分是CIP外線。CIP外線由供液母管、回液母管、遠端循環回液裝置等組成， CIP外線供液母管和回液母管通過分支的控制閥門連接至需清洗設備。CIP外線主要實現 的功能有 1.向不同的被清洗設備分配清洗液。
2.從不同的被清洗設備回收清洗液。
3.根據CIP流程清洗指定的被清洗設備。 CIP在線清洗自控系統包括純水罐1、熱水罐2、酸液罐3、鹼液罐4、濃鹼罐5、濃酸
罐6、中和罐7、計量泵8、變頻循環泵9、自吸泵10、換熱器11和過濾器12， 純水罐1、熱水罐2、酸液罐3和鹼液罐4中每個罐均配置有自來水進水閥ASOl、
純化水進水閥AS02、直接排汙閥AS03、配置用閥AS04、回流液管道排出閥AS05和清洗閥
AS06， 自來水進水閥AS01控制自來水進入純水罐1、熱水罐2、酸液罐3或鹼液罐4中， 純化水進水閥AS02控制純化水進入純水罐1、熱水罐2、酸液罐3或鹼液罐4中，直接排汙 閥AS03將純水罐1、熱水罐2、酸液罐3或鹼液罐4的液體直接排出，配置用閥AS04用於配 置酸液或鹼液，回流液管道排出閥AS05用於控制純水罐1、熱水罐2、酸液罐3或鹼液罐4 通過回流液排放管道排放廢液，清洗閥AS06用於控制純水罐1、熱水罐2、酸液罐3或鹼液 罐4清洗液的輸出供給， 中和罐7配置有自來水進水閥ASO1 、純化水進水閥AS02、直接排汙閥AS03、配置用 閥AS04和回流液管道排出閥AS05。 自來水進水閥AS01控制自來水進入中和罐7中，純化水進水閥AS02控制純化水 進入中和罐7中，直接排汙閥AS03將中和罐7的液體直接排出，配置用閥AS04用於配置酸
8液或鹼液，回流液管道排出閥AS05用於控制中和罐7通過回流液排放管道排放廢液。
濃鹼罐5配置有配鹼閥AS08、濃酸罐6配置有配酸閥AS07、配酸閥AS07和配鹼閥 AS08的出口端共同與計量泵8的吸入側相連接，計量泵8的排出側通過配置用閥AS04與其 它罐體相連通， 純水罐1、熱水罐2、酸液罐3和鹼液罐4的清洗出口端通過清洗閥AS06與變頻循 環泵9相連，變頻循環泵9排出的清洗液由換熱器11進行循環加熱，換熱器11的出水端通 過清洗液供液閥門CIP-J與待清洗設備的進液端相連，待清洗設備的出液端經清洗液回液 閥門CIP-H連接自吸泵10的吸入側，自吸泵10的排出側與過濾器12的輸入端相連，過濾 器12的輸出端連接回液排放管道。 濃鹼罐5還配置有蒸汽加熱閥門AS-R，用於控制輸入蒸汽，給濃鹼罐5中的濃鹼 加熱，經濃鹼罐5後的蒸汽冷凝水排出。濃鹼罐5為鹼液罐4配置設定PH值的鹼液提供濃 鹼，濃鹼罐5中的濃鹼通過配酸閥AS07、計量泵8及鹼液罐4的配置用閥AS04進入鹼液罐 4。 鹼液配置過程 鹼液罐4還配置有鹼濃度計、液位變送器和熱電阻，鹼濃度計與計量泵8形成一個 閉環控制，通過鹼液罐4內鹼濃度的變化，計算機可自動計算出需要的加水量和加鹼量，來
調節計量泵8的給定量，以及加水量，從而達到將鹼液罐4內的鹼濃度自動調節到設定ra
值，實現自動配鹼。 液位變送器用於鹼液罐4的加水量控制和出液控制，熱電阻和蒸汽加熱閥AS-R形 成閉環控制，通過檢測鹼液罐4中溫度的高低來決定蒸汽加熱閥門AS-R的開關，最終將鹼 液罐4中鹼液的溫度控制在設定值範圍內。當設備進行CIP時，實時檢測液位變化，當液 位低於設定值則清洗暫停，並報警，同時彈出菜單提示操作人員啟動配鹼程序，當配鹼結束 後，CIP程序自動恢復。 具體的自動調鹼罐過程控制為按下調鹼啟動按鈕，計算機通過鹼液罐4的鹼液 濃度檢測和液位檢測，計算出鹼液罐所需的加水量和加鹼量，自動開啟鹼液罐4的自來水 進水閥ASOl，通過液位變化計算加水液位，當鹼液罐4加水達到加水液位，關閉自來水進水 閥AS01，開啟蒸汽加熱閥門AS-R，實時檢測濃鹼罐5的溫度變化，通過溫度控制程序計算 決定蒸汽加熱閥門AS-R開啟的時間，最終將溫度控制在設定值範圍內後，啟動自動保溫程 序，將濃鹼罐4的溫度控制在設定值範圍內，開啟計量泵8，自動累積加鹼量，當加鹼量接近 計算加鹼量時，啟動加鹼調節程序，根據鹼液罐4的濃度與設定濃度差值大小來決定計量 泵8的加鹼間隔，最終將鹼液罐4中的鹼濃度調節至設定值，調鹼過程結束。控制程序轉入 保溫儲存狀態。 酸液的配置過程與鹼液配過程基本一致，不同的地方是濃酸罐6不需要加熱。
純水罐1的控制在純水罐1上加裝液位變送器，主要用於純水罐1液位控制，當 純水罐1的液位出現低液位報警時，自動補充冷水。在CIP進行時，實時檢測純水罐1內液 位，當液位低於設定值則清洗暫停，並報警，同時啟動自動補純水程序，當液位達到要求後， CIP程序自動恢復。 熱水罐2的控制在熱水罐2上加裝熱電阻、液位變送器。熱電阻和蒸汽加熱閥門 形成閉環控制，通過檢測熱水罐2中溫度的高低來決定蒸汽加熱閥門的開關，最終將熱水罐2中水的溫度控制在設定值範圍內。液位變送器主要用於加水量的控制，在CIP進行時， 實時檢測熱水罐2內液位，當液位低於設定值則清洗暫停，並報警，同時彈出菜單提示操作 人員啟動配熱水程序，當配熱水結束後，CIP程序自動恢復。 無論哪臺設備，其單次CIP流程均為第1遍用純水、第2遍用酸、第3遍用純水、第
4遍用鹼、第5遍用熱水，流程的主要步驟不會因設備的不同而增加或減少。 第l遍用純水，打開純水罐l的清洗閥AS06通過換熱器11、清洗液供液閥門CIP-J
對待清洗設備13進行衝洗； 第2遍用酸，打開酸液罐3的清洗閥AS06通過換熱器11、清洗液供液閥門CIP-J 對待清洗設備13進行衝洗； 第3遍用純水，打開純水罐1的清洗閥AS06通過換熱器11 、清洗液供液閥門CIP-J 對待清洗設備13進行衝洗； 第4遍用鹼，打開鹼液罐4的清洗閥AS06通過換熱器11、清洗液供液閥門CIP-J 對待清洗設備13進行衝洗； 第5遍用熱水，打開熱水罐2的清洗閥AS06通過換熱器11 、清洗液供液閥門CIP-J 對待清洗設備13進行衝洗。 清洗後的廢液可直接由回液排放管道排掉，也可進入中和罐7中經過中和處理後 排掉。 純水罐1、熱水罐2、酸液罐3、鹼液罐4需要排放的餘液可通過各自設置的直接排 汙閥AS03排掉。 為實現CIP系統的工作自動化而配置的各種儀表、傳感器、執行機構、程序控制 器、計算機等硬體組成的系統是CIP控制系統，如圖3所示。 操作員站20 :供操作員使用的人機接口程序(HMI)部署在此計算機上，包含了若
幹個可與操作員互動的工藝畫面，操作員可在此進行CIP系統的參數監視、設定，指令下
達、記錄存儲等操作。 開發平臺西門子公司Wincc。 控制器21 :接收操作員下達的操作指令並根據CIP工藝和現場儀表信號控制各種 執行機構動作以實現設備的自動清洗過程。
1/0接口 22 :模擬量信號輸入輸出，數字量信號輸入輸出。 控制器21向上通過工業乙太網連接操作員站20 ;向下通過Profibus工業控制網 連接各I/0接口22。操作員可以在操作員站20的計算機上監控CIP系統的工作，操作員下 達的CIP指令由控制器21內的程序自動執行。在對設備進行CIP的過程中，各種現場儀表 監測的信號如溫度、液位、壓力、ra值等通過I/O站進入控制器21，控制程序對這些信號進 行邏輯分析並根據指定好的CIP方式和先後順序將動作信號由I/O接口 22發給控制系統 的執行機構如閥門的開關、轉速的調節、計時控制、順序的控制等。
權利要求
CIP自動清洗方法，其特徵在於，該方法分上位機程序模塊和下位機程序模塊兩部分進行控制上位機程序模塊包括人機互動模塊、資料庫應用程式模塊、數據處理模塊、資料庫和下位機程序接口模塊，人機互動模塊，用於實現人機互動，操作員通過人機互動模塊下達清洗命令給資料庫應用程式模塊，同時還用於接收資料庫應用程式模塊反饋的備選清洗方案，由操作員從備選清洗方案中選定清洗方案並將其下達給數據處理模塊，資料庫應用程式模塊，用於接收人機互動模塊下達的清洗命令，並根據所述清洗命令調用資料庫中存放的清洗設備的標識、清洗方法參數來確定備選清洗方案，並將所述備選清洗方案反饋給人機互動模塊，數據處理模塊，用於接收人機互動模塊輸出的、操作員確定的清洗方案，還用於輸出所述確定的清洗方案給下位機程序接口模塊，下位機程序接口模塊，用於接收數據處理模塊輸出的清洗方案，還用於將其輸出給下位機程序模塊中的上位機程序接口模塊，下位機程序模塊包括上位機程序接口模塊、CIP指令處理模塊、CIP參數處理模塊、CIP站內控制模塊、CIP現場控制模塊、狀態檢測-報警-聯動保護-中斷模塊和I/O信號處理模塊，上位機程序接口模塊，用於接收下位機程序接口模塊輸出的清洗方案，還用於將所述清洗方案輸出給CIP指令處理模塊、CIP參數處理模塊、狀態檢測-報警-聯動保護-中斷模塊和I/O信號處理模塊，CIP指令處理模塊和CIP參數處理模塊，用於接收上位機程序接口模塊輸出的清洗方案，進行分析處理，並根據CIP站內控制模塊反饋的I/O信號將處理指令發送給CIP現場控制模塊，CIP站內控制模塊，用於接收I/O信號處理模塊輸出的I/O信號，並將接收的I/O信號反饋給CIP指令處理模塊和CIP參數處理模塊，CIP現場控制模塊，用於接收CIP指令處理模塊和CIP參數處理模塊輸出的I/O指令，並用於將所述I/O指令輸出給I/O信號處理模塊，I/O信號處理模塊，用於接收上位機程序接口模塊輸出的清洗方案和CIP控制系統的各種傳感器輸出的信號，所述信號包括溫度、壓力、液位、電機速度、PH值和離子濃度信號，還用於接收CIP現場控制模塊和狀態檢測-報警-聯動保護-中斷模塊發送的I/O指令，還用於將所述I/O指令發送給CIP控制系統的各種執行機構，狀態檢測-報警-聯動保護-中斷模塊，用於接收上位機程序接口模塊輸出的清洗方案和狀態檢測，還用於對檢測的狀態進行分析處理，還用於根據狀態檢測結果輸出I/O指令給I/O信號處理模塊實現報警、聯動保護和中斷功能。
2. 根據權利要求1所述的cip自動清洗方法，其特徵在於，人機互動模塊包括權限管理模塊、工藝流程畫面管理模塊、操作指令管理模塊、參數設定模塊、報警管理模塊和歷史數 據應用模塊，權限管理模塊，用於人機互動時的權限管理，工藝流程畫面管理模塊，用於根據選定的清洗方案呈現相應的工藝流程圖，操作指令管理模塊，用於操作員選擇相應操作指令，參數設定模塊，用於操作員選擇相應的參數，管道清洗、設備清洗或濃縮器清洗的參數 不同，根據不同類型的清洗菜單設定相關參數，包括每種物料的排汙時間、循環時間、頂液 時間、清洗次數和清洗壓力，報警管理模塊，用於顯示各種類型報警，歷史數據應用模塊，存儲歷史數據以供調用。
3. 根據權利要求1所述的CIP自動清洗方法，其特徵在於，CIP站內控制模塊包括CIP 站內工藝參數庫、酸鹼調配模塊、循環保溫模塊、補液排液模塊和供回液調節模塊，CIP站內工藝參數庫，用於存儲站內工藝參數，將接收的I/0信號與CIP姑內工藝參數 庫中數據進行比對，並根據清洗方案的工藝流程決定執行酸鹼調配模塊、循環保溫模塊、補 液排液模塊或供回液調節模塊中的一種，酸鹼調配模塊，用於進行酸液調配或鹼液調配，循環保溫模塊，用於系統的循環保溫控制，補液排液模塊，用於系統的補液或排液控制，供回液調節模塊，用於系統的供液或回液控制。
4. 根據權利要求1所述的CIP自動清洗方法，其特徵在於，CIP現場控制模塊包括CIP 現場工藝參數庫、清洗設備狀態檢測模塊、清洗液分配模塊、清洗過程控制模塊和清洗設備 自控程序分類調用接口模塊，CIP現場工藝參數庫，用於存儲現場工藝參數，根據CIP指令處理模塊和CIP參數處理 模塊下達的1/0指令調用本庫中的數據，並根據所調用的數據輸出1/0指令給I/0信號處 理模塊，通過控制相應執行機構的開關閥、調節閥、電機啟停或電機速度調節來實現設備的 清洗方案，清洗設備狀態檢測模塊，用於檢測清洗設備的狀態，還根據設備狀態檢測結果輸出I/O 指令給I/0信號處理模塊，清洗液分配模塊，用於控制清洗液的輸出量，所述清洗液的輸出量包括冷水量、熱水 量、純水量、酸液量和鹼液量，清洗過程控制模塊，用於控制清洗的過程，清洗的工藝過程依次為輸出純水、酸液、純 水、鹼液和熱水，清洗設備自控程序分類調用接口模塊，用於識別待清洗設備，為控制該設備的相關動 作提供接口 。
全文摘要
CIP自動清洗方法，本發明是為了解決製藥生產線、乳品生產線和食品生產採用傳統的手動清洗方法留有清洗死角、效率低，不能適應現代企業高效率、高品質的生產需要的問題。本發明方法分為上位機程序和下位機程序完成控制，上位機程序主要為操作用戶提供人機接口，通過若干幅工藝畫面為操作人員使用CIP系統提供生動直觀、功能豐富的集成使用環境。下位機程序主要接收上位機程序發出的指令，根據下達的指令、現場儀表執行機構信號按CIP清洗規範自動執行相應的操作程序。單次CIP流程均為第1遍用純水、第2遍用酸、第3遍用純水、第4遍用鹼、第5遍用熱水。
文檔編號G05B19/418GK101763093SQ200910217438
公開日2010年6月30日 申請日期2009年12月28日 優先權日2009年12月28日
發明者傅琳, 劉慶閣, 明維國, 欒洋, 王景義, 石建平 申請人:中國船舶重工集團公司第七 三研究所