一種鍍液槽基板的引導遮蔽裝置的製作方法
2023-12-06 12:45:11
專利名稱：一種鍍液槽基板的引導遮蔽裝置的製作方法
技術領域：
一種鍍液槽基板的弓I導遮蔽裝置技術領域[0001]本實用新型涉及一種用於全自動垂直連續電鍍線路中的鍍液槽基板的引導遮蔽裝置O背景技術[0002]全自動垂直連續電鍍線為目前國內最先進的電鍍設備，對於鍍銅槽基板引導遮 蔽裝置方面，在現有技術中引導裝置是為防止基板101偏離噴灑中間位置而設計的，如 附圖1所示其採用銅框掛架102，基板101四周均被固定，故引導裝置是引導銅框掛架的 引導槽103，104是入水控制球閥；對於遮蔽系統，現有技術採用「陽極隔膜」方式，如 附圖2所示，鈦籃201中放銅球，與陽極電流接通，經電離及藥水反應會釋放銅離子，基 板經掛架與陰極接通電流後，在電壓的作用，銅離子向基板移動，藥液中非銅離子向裝 鈦籃的陽極方向移動，藥液中離子的移動會產生電流，在基板四周的邊緣，因「尖端放 電」現象，基板四周邊緣處電流會增強，從而造成基板四周邊緣鍍銅較厚。在連續電鍍 設備中，基板是不斷運動的，在運動方向基板的位置不斷變換，此種「尖端放電」現象 造成的鍍銅不均勻現象尚不明顯，但是在基板的下端邊緣，在連續運動過程中上下位置 亦未發生改變，因而此處鍍銅量加大現象較為明顯。其中202是陽極隔膜，203是鍍銅 槽，204是入水控制球閥，還有其它廠商採用陽極隔膜方式，但並沒有起到良好的減弱此 處尖端放電現象，鍍銅均勻性會被降低。發明內容[0003]本實用新型的目的在於提供一種鍍銅槽基板引導遮蔽裝置，該裝置可防止基板 在移動的過程中搖擺不定，還可避免「尖端放電」現象，增加鍍銅的均勻性。[0004]本實用新型的目的通過以下技術的措施來實現一種鍍液槽基板的引導遮蔽裝 置，該引導遮蔽裝置包括引導遮蔽機構，所述的引導遮蔽機構包括支撐框架、引導條和 遮蔽板，所述的支撐框架由橫向設置的橫支撐板和豎向設置的豎支撐板組成，所述的豎 支撐板與橫支撐板固定連接，所述的橫支撐板為一對板，所述的豎支撐板為多對板，所 述的多對豎支撐板中的每一對豎支撐板上均設有用於安裝引導條的安裝託板，所述的引 導條中間貫通開有供基板穿過的條形口，所述的遮蔽板為一對板，所述的一對遮蔽板平 行設置在所述一對橫支撐板的外圍，並且與所述的橫支撐板固定連接。[0005]作為本實用新型的一種改進所述每對豎支撐板上設置的安裝託板均為三對託 板，分別為位於上部的上託板、位於中部的中託板和位於下部的下託板，所述多對豎支 撐板中位於對應位置處的託板的高度自左向右/自右向左存在高度差H，使得安裝在託板 上的引導條呈傾斜狀。[0006]上述高度差H在10_20mm之間。[0007]上述引導條中間開設的條形口的寬度在2_6mm之間。[0008]作為本實用新型的一種改進該引導遮蔽裝置還包括能夠使所述的引導遮蔽機構升降的升降機構，所述的升降機構包括電機和傳動機構，電機的輸出端與傳動軸相 連，傳動軸與傳動機構相連，傳動機構與引導遮蔽機構中的遮蔽板相連，能夠帶動引導 遮蔽機構升降。[0009]上述電機為正反轉電機。[0010]上述傳動機構包括傳動帶、傳動杆和豎向設置的多個傳動框，所述的傳動帶分 別與傳動軸與同步軸相連，同步軸安裝在軸承座上，軸承座安裝在支架上，所述傳動帶 的中部與傳動杆固定相連，所述傳動杆分別與多個傳動框固定相連，所述的傳動框由橫 向設置的短杆與豎向設置的一對連接杆固定連接，所述豎向的連接杆的底端焊接有T型 塊，所述T型塊具有杆部和頭部，杆部與連接杆焊接，頭部與橫支撐板固定連接，所述 連接杆通過U型塊與遮蔽板固定連接。[0011]作為本實用新型的進一步改進所述遮蔽板與連接杆相接觸的內側豎向固定焊 接有貼附在連接杆上的長條，所述長條的上部還有豎向的條形孔，所述連接杆的中部開 有螺孔，螺釘穿過條形孔和螺孔後將長條與連接杆連接，通過調節條形孔與螺孔的相對 位置可以微調遮蔽板的初始高度位置。[0012]作為本實用新型的更進一步的改進該引導遮蔽裝置還包括能夠使所述的引導 遮蔽機構升降過程中導向的定位導向板，所述的定位導向板為豎向固定安裝在鍍液槽底 部的多個條形板，多個條形板均位於橫支撐板和遮蔽板之間，所述遮蔽板的內側固定安 裝有開有滑槽的滑槽塊，所述的條形板穿過滑槽，所述引導遮蔽機構受到外力的作用時 能夠沿條形板上下移動。[0013]本實用新型具有以下優點在鍍銅槽基板上設有引導機構，可防止基板在移動 的過程中搖擺不定，在鍍銅槽基板上設有遮蔽機構，可避免「尖端放電」現象，增加鍍 銅的均勻性。
[0014]
以下結合附圖和具體實施方式
對本實用新型做進一步詳細說明。[0015]圖1是現有技術中的引導機構示意圖；[0016]圖2是現有技術中遮蔽機構示意圖；[0017]圖3是本實用新型鍍銅槽基板引導遮蔽裝置整體結構示意圖；[0018]圖4是本實用新型的鍍銅槽基板引導機構結構圖；[0019]圖5是本實用新型豎支撐板的結構示意圖；[0020]圖6是本實用新型中橫向支撐板的結構示意圖；[0021]圖7是本實用新型引導條的結構示意圖；[0022]圖8是本實用新型中遮蔽機構示意圖；[0023]圖9是本實用新型的升降機構結構圖；[0024]圖10是本實用新型連接杆的結構示意圖；[0025]圖11是本實用新型定位導向板和滑槽塊的結構示意圖。[0026]附圖標記說明101、基板；102、掛架；103、引導槽；104、入水控制球閥； 201、鈦籃；202、陽極隔膜；203、鍍銅槽；204、入水控制球閥；1、橫支撐板；2、豎 支撐板；3、安裝託板；31、上託板；32、中託板；33、下託板；4、引導條；41、條形口； 5、遮蔽板；6、電機；7、傳動軸；8、傳動帶；9、傳動杆；10、同步軸；11、 軸承座；12、支架；13、短杆；14、連接杆；15、T型塊；151、杆部；152、頭部； 16、U型塊；161、U型塊固定螺栓孔；17、長條；18、條形孔；19、螺孔；20、定位導向板；21、滑槽塊。
具體實施方式
[0027]如圖3-11所示的一種鍍液槽基板的引導遮蔽裝置，其包括引導遮蔽機構，引導 機構的作用是為了防止基板在移動過程中搖擺不定，該引導遮蔽機構包括支撐框架、引 導條和遮蔽板，支撐框架由橫向設置的橫支撐板1和豎向設置的豎支撐板2組成，豎支撐 板2與橫支撐板1固定連接，橫支撐板1為一對板，豎支撐板2為多對板，多對豎支撐板 2中的每一對豎支撐板上均設有用於安裝引導條的安裝託板3，每對豎支撐板上設置的安 裝託板均為三對託板，分別為位於上部的上託板31、位於中部的中託板32和位於下部的 下託板33，該多對豎支撐板2中位於對應位置處的託板的高度自左向右/自右向左存在高 度差H，高度差H最好在10-20mm之間，使得安裝在託板上的引導條呈傾斜狀。[0028]安裝託板可以是PP塊，存在高度差H主要是為了消除基板在連續鍍液的過程中 因引導條的阻擋而造成的均勻性不足的問題。[0029]如附圖7所示，引導條4中間貫通開有供基板穿過的條形口 41，該引導條4中間 開設的條形口 41的寬度在2-6mm之間。[0030]引導條可以由加工好的兩塊PVC板組裝製成，且在引導鍍液基板的端面即條形 口處安裝特氟龍軟管以防止刮傷基板，引導條的主要作用是引導基板向前移動，分前後 兩排，入口處呈V字型，便於基板進入引導機構。[0031]如附圖8所示，其中，遮蔽板5為一對板，該對遮蔽板平行設置在一對橫支撐 板1的外圍，並且與橫支撐板1固定連接，遮蔽板的主要作用是打斷基板下邊緣處的弱電 流，避免尖端放電現象增加電鍍的均勻性。[0032]如附圖9所示，該引導遮蔽裝置還包括能夠使所述的引導遮蔽機構升降的升降 機構，該升降機構包括電機6和傳動機構，其中電機可以是正反轉電機。電機的輸出端 與傳動軸7相連，傳動軸7與傳動機構相連，傳動機構與引導遮蔽機構中的遮蔽板5相 連，能夠帶動引導遮蔽機構升降。該傳動機構包括傳動帶8、傳動杆9和豎向設置的多個 傳動框，傳動帶8分別與傳動軸7與同步軸10相連，同步軸10安裝在軸承座11上，軸 承座11安裝在支架12上，支架12可為固定方通或其它可大大同樣效果的固定物，傳動 帶8的中部與傳動杆9固定相連，傳動杆9分別與多個傳動框固定相連，傳動框由橫向設 置的短杆13與豎向設置的一對連接杆14固定連接，豎向的連接杆14的底端焊接有T型 塊15，所述T型塊具有杆部151和頭部152，杆部151與連接杆14焊接，頭部152與橫 支撐板1固定連接，連接杆14通過U型塊16與遮蔽板5通過螺栓孔161固定連接。[0033]當生產更小的板時，開動電機可將引導遮蔽裝置向高處提升，當生產較大板件 時，此升降機構下降，帶動整個遮蔽機構下降，以保持引導機構能繼續引導基板，遮蔽 機構能繼續處於基板的下部，避免「尖端放電」現象，以達到打斷弱電流的目的，提高 鍍銅的均勻性。[0034]如附圖10所示，遮蔽板5與連接杆14相接觸的內側豎向固定焊接有貼附在連接5桿14上的長條17，長條17的上部還有豎向的條形孔18，連接杆14的中部開有螺孔19， 螺釘穿過條形孔18和螺孔後將長條17與連接杆14連接，通過調節條形孔18與螺孔的相 對位置可以微調遮蔽板5的初始高度位置。[0035]如附圖11所示，該引導遮蔽裝置還包括能夠使所述的引導遮蔽機構升降過程中 導向的定位導向板20，定位導向板20為豎向固定安裝在鍍液槽底部的多個條形板，多個 條形板均位於橫支撐板1和遮蔽板5之間，遮蔽板5的內側固定安裝有開有滑槽的滑槽塊 21，條形板穿過滑槽，引導遮蔽機構受到外力的作用時能夠沿條形板上下移動。[0036]當引導遮蔽機構上下移動時，電機帶動引導遮蔽裝置使定位導向板在開有滑槽 的滑槽塊中滑動時，可保證引導遮蔽機構位置不變。[0037]本實用新型的上述實施例並不是對本實用新型保護範圍的限定，本實用新型的 實施方式不限於此，因此，根據本實用新型的上述內容，按照本領域的普通技術知識和 慣用手段，在不脫離本實用新型下述基本技術思想前提下，對本實用新型上述結構做出 的其它多種形式的修改、替換或變更，均落在本實用新型的保護範圍之內。
權利要求1.一種鍍液槽基板的引導遮蔽裝置，其特徵在於該引導遮蔽裝置包括引導遮蔽機 構，所述的引導遮蔽機構包括支撐框架、引導條和遮蔽板，所述的支撐框架由橫向設置 的橫支撐板和豎向設置的豎支撐板組成，所述的豎支撐板與橫支撐板固定連接，所述的 橫支撐板為一對板，所述的豎支撐板為多對板，所述的多對豎支撐板中的每一對豎支撐 板上均設有用於安裝引導條的安裝託板，所述的引導條中間貫通開有供基板穿過的條形 口，所述的遮蔽板為一對板，所述的一對遮蔽板平行設置在所述一對橫支撐板的外圍， 並且與所述的橫支撐板固定連接。
2.根據權利要求1所述的引導遮蔽裝置，其特徵在於所述每對豎支撐板上設置的 安裝託板均為三對託板，分別為位於上部的上託板、位於中部的中託板和位於下部的下 託板，所述多對豎支撐板中位於對應位置處的託板的高度自左向右/自右向左存在高度 差H，使得安裝在託板上的引導條呈傾斜狀。
3.根據權利要求2所述的引導遮蔽裝置，其特徵在於所述的高度差H在10-20mm 之間。
4.根據權利要求1所述的引導遮蔽裝置，其特徵在於所述引導條中間開設的條形 口的寬度在2-6mm之間。
5.根據權利要求1至4任一項所述的引導遮蔽裝置，其特徵在於該引導遮蔽裝置 還包括能夠使所述的引導遮蔽機構升降的升降機構，所述的升降機構包括電機和傳動機 構，電機的輸出端與傳動軸相連，傳動軸與傳動機構相連，傳動機構與引導遮蔽機構中 的遮蔽板相連，能夠帶動引導遮蔽機構升降。
6.根據權利要求5所述的引導遮蔽裝置，其特徵在於所述的電機為正反轉電機。
7.根據權利要求5所述的引導遮蔽裝置，其特徵在於所述的傳動機構包括傳動 帶、傳動杆和豎向設置的多個傳動框，所述的傳動帶分別與傳動軸與同步軸相連，同步 軸安裝在軸承座上，軸承座安裝在支架上，所述傳動帶的中部與傳動杆固定相連，所述 傳動杆分別與多個傳動框固定相連，所述的傳動框由橫向設置的短杆與豎向設置的一對 連接杆固定連接，所述豎向的連接杆的底端焊接有T型塊，所述T型塊具有杆部和頭部， 杆部與連接杆焊接，頭部與橫支撐板固定連接，所述連接杆通過U型塊與遮蔽板固定連 接。
8.根據權利要求7所述的引導遮蔽裝置，其特徵在於所述遮蔽板與連接杆相接觸 的內側豎向固定焊接有貼附在連接杆上的長條，所述長條的上部還有豎向的條形孔，所 述連接杆的中部開有螺孔，螺釘穿過條形孔和螺孔後將長條與連接杆連接，通過調節條 形孔與螺孔的相對位置可以微調遮蔽板的初始高度位置。
9.根據權利要求8所述的引導遮蔽裝置，其特徵在於該引導遮蔽裝置還包括能夠 使所述的引導遮蔽機構升降過程中導向的定位導向板，所述的定位導向板為豎向固定安 裝在鍍液槽底部的多個條形板，多個條形板均位於橫支撐板和遮蔽板之間，所述遮蔽板 的內側固定安裝有開有滑槽的滑槽塊，所述的條形板穿過滑槽，所述引導遮蔽機構受到 外力的作用時能夠沿條形板上下移動。
專利摘要一種鍍液槽基板的引導遮蔽裝置，該引導遮蔽裝置包括引導遮蔽機構，所述的引導遮蔽機構包括支撐框架、引導條和遮蔽板，所述的支撐框架由橫向設置的橫支撐板和豎向設置的豎支撐板組成，所述的豎支撐板與橫支撐板固定連接，所述的橫支撐板為一對板，所述的豎支撐板為多對板，所述的多對豎支撐板中的每一對豎支撐板上均設有用於安裝引導條的安裝託板，所述的引導條中間貫通開有供基板穿過的條形口，所述的遮蔽板為一對板，所述的一對遮蔽板平行設置在所述一對橫支撐板的外圍，並且與所述的橫支撐板固定連接。在鍍銅槽基板上設有引導機構，可防止基板在移動的過程中搖擺不定，在鍍銅槽基板上設有遮蔽機構，可避免「尖端放電」現象，增加鍍銅的均勻性。
文檔編號C25D17/02GK201809470SQ20102026564
公開日2011年4月27日 申請日期2010年7月20日 優先權日2010年7月20日
發明者鄧高榮 申請人:廣州明毅電子機械有限公司