電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板的製作方法

2023-06-09 08:46:36

專利名稱：電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板的製作方法
技術領域：
電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板技術領域[0001]本實用新型涉及一種電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板，特別是涉及一種 降低反光的電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板。
背景技術：
[0002]現有的電容式觸控面板中，各感應結構包括多條金屬連接線及多個感應電極，一 種結構中，一條金屬連接線連接相鄰兩個感應電極，使單條感應結構的金屬連接線及感應 電極可電性連接。[0003]然而，金屬連接線的材質是金屬，此種結構會造成入射至金屬連接線的光線產生 極強(強度集中)的反射，而造成使用者在視覺上的不舒服。[0004]有鑑於上述現有的電容式觸控面板存在的缺陷，本發明人基於從事此類產品設計 製造多年豐富的實務經驗及專業知識，積極加以研究創新，以期創設一種新型結構的電容 式觸控面板，能夠改進一般現有的電容式觸控面板，使其更具有實用性。經過不斷的研究、 設計，並經過反覆試作樣品及改進後，終於創設出確具實用價值的本實用新型。發明內容[0005]本實用新型的目的在於，克服現有的電容式觸控面板存在的缺陷，而提供一種新 型結構的電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板，所要解決的技術問題是使其降低反射 率，從而更加適於實用。[0006]本實用新型的目的及解決其技術問題是採用以下技術方案來實現的。依據本實用 新型提出的一種電容式觸控面板，其中包括基板；多條感應結構，各該感應結構包括多個 感應電極及多條連接線，相鄰兩個感應電極由對應的該連接線連接；以及擴光結構，形成於 上述連接線的至少一者上，光線入射至該擴光結構後是擴散地反射。[0007]本實用新型的目的及解決其技術問題還可採用以下技術措施進一步實現。[0008]前述的電容式觸控面板，其中所述的各該連接線具有上表面及側面，該擴光結構 形成於該至少一條連接線的該上表面與該側面中至少一者上。[0009]前述的電容式觸控面板，其中所述的上述感應結構包括多條第一感應列，各該第 一感應列沿第一方向排列且包括多條第一連接線；及多個第一感應電極，相鄰兩個第一 感應電極由對應的該第一連接線連接；以及多條第二感應列，各該第二感應列沿第二方向 排列且包括多條第二連接線；及多個第二感應電極，相鄰兩個第二感應電極由對應的該 第二連接線連接。[0010]前述的電容式觸控面板，其中所述的該基板具有相對的上表面與下表面，上述第 一子感應結構形成於該基板的該上表面與該下表面的一者上，而上述第二子感應結構形成 於該基板的該上表面與該下表面的另一者上。[0011]前述的電容式觸控面板，其中所述的該擴光結構是粗糙化結構，該光線入射至該 粗糙化結構後是擴散地反射。[0012]前述的電容式觸控面板，其中所述的該擴光結構是金屬氧化層，且該金屬氧化層 的材質是氧化鋁、氧化鑰、氧化鈦、氧化銅或氧化銀。[0013]前述的電容式觸控面板，其中所述的該擴光結構是圖案化結構。[0014]本實用新型的目的及解決其技術問題還採用以下技術方案來實現。依據本實用新 型提出的一種觸控顯示面板，其中包括電容式觸控面板，包括基板；多條感應結構，各該 感應結構包括多個感應電極及多條連接線，相鄰兩個感應電極由對應的該連接線連接；及 擴光結構，形成於上述連接線的至少一者上，光線入射至該擴光結構後是擴散地反射；以及 顯示面板，對應該電容式觸控面板配置。[0015]本實用新型的目的及解決其技術問題還可採用以下技術措施進一步實現。[0016]前述的觸控顯示面板，其中所述的各該連接線具有上表面及側面，該擴光結構形 成於該至少一條連接線的該上表面與該側面中至少一者上。[0017]前述的觸控顯示面板，其中所述的上述感應結構包括多條第一感應列，各該第一 感應列沿第一方向排列且包括多條第一連接線；及多個第一感應電極，相鄰兩個第一感 應電極由對應的該第一連接線連接；以及多條第二感應列，各該第二感應列沿第二方向排 列且包括多條第二連接線；及多個第二感應電極，相鄰兩個第二感應電極由對應的該第 二連接線連接。[0018]前述的觸控顯示面板，其中所述的該擴光結構是粗糙化結構，該光線入射至該粗 糙化結構後是擴散地反射。[0019]前述的觸控顯示面板，其中所述的該擴光結構是金屬氧化層，且該金屬氧化層的 材質是氧化鋁、氧化鑰、氧化鈦、氧化銅或氧化銀。[0020]前述的觸控顯示面板，其中所述的該擴光結構是圖案化結構。[0021]本實用新型與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果。藉由上述技術方案，本 實用新型電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板可達到相當的技術進步性及實用性，並 具有產業上的廣泛利用價值，其至少具有降低反射率的優點。[0022]上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技 術手段，而可依照說明書的內容予以實施，並且為了讓本實用新型的上述和其他目的、特徵 和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，並配合附圖，詳細說明如下。


[0023]圖1是本實用新型一實施例的觸控顯示面板的剖視圖。[0024]圖2是圖1的電容式觸控面板的俯視圖。[0025]圖3是圖2中沿方向A-A的剖面圖。[0026]圖4是圖2中沿方向B-B的剖面圖。[0027]圖5A是依照本實用新型另一實施例的擴光結構的外觀圖。[0028]圖5B是圖5A中沿方向C-C的剖視圖。[0029]圖6A是依照本實用新型另一實施例的擴光結構的剖視圖。[0030]圖6B是圖6A中方向D-D的剖面圖。[0031]圖7是依照本實用新型另一實施例的擴光結構的剖視圖。[0032]圖8是依照本實用新型另一實施例的電容式觸控面板的俯視圖的剖視圖。[0033]圖9是本實用新型實施例的擴光結構的反射率測試結果圖。[0034]主要元件符號說明[0035]10 :觸控顯示面板12 :顯示面板[0036]14 :夕卜殼16 :透光蓋板[0037]100:電容式觸控面板110:基板[0038]IlOu:上表面120 :感應結構[0039]121 :第一感應列121b :第一連接線[0040]120s :側面120u :上表面[0041]121bl、122bl :第一導電層 121b2、122b2 :第二導電層[0042]121b 3、122b 3 :第三導電層121t :第一感應電極[0043]122 :第二感應列122b :第二連接線[0044]122t :第二感應電極123 :絕緣層[0045]130、230、330、430 :擴光結構140:電路板[0046]150 :信號傳輸線231 :柱體[0047]D1、D2:曲線H:厚度[0048]L :光線具體實施方式
[0049]為更進一步闡述本實用新型為達成預定發明目的所採取的技術手段及功效，
以下結合附圖及較佳實施例，對依據本實用新型提出的電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板的具體實施方式
、結構、特徵及其功效，詳細說明如後。[0050]請參閱圖1所示,該圖所示為本實用新型一實施例的觸控顯示面板的剖視圖。觸控顯示面板10例如是手持式電子裝置、筆記型計算機及平板計算機，其中手持式電子裝置例如是手機、智能型手機、個人數字秘書(PDA)或導航裝置等。[0051]觸控顯示面板10包括電容式觸控面板100、顯示面板12、外殼14及透光蓋板16。 顯示面板12對應電容式觸控面板100配置，其可以是任何種類的顯示面板，例如是液晶顯示面板、電泳式顯示器或有機發光二極體(Organic Light-Emitting Diode, 0LED)顯示器。[0052]電容式觸控面板100及顯示面板12容置在外殼14內，透光蓋板16覆蓋電容式觸控面板100。[0053]請參閱圖2所示，該圖所示為圖1的電容式觸控面板的俯視圖。電容式觸控面板 100包括基板110、多條感應結構120及擴光結構130 (繪示在圖3)。此外，觸控顯示面板 100可應用在需要觸控功能的各種電子裝置。[0054]此外，電容式觸控面板100可包括至少一條信號傳輸線150及電路板140。各信號傳輸線150連接對應的感應結構120與電路板140，以傳輸來自於感應結構120的觸控信號至電路板140。[0055]基板110為透明基板，其材質是高透光率的絕緣性材料，例如是玻璃、聚碳酸酯(Polycarbonate, PC)、聚酉旨(Polythylene terephthalate, PET)、聚甲基丙烯酸甲酯 (Polymethylmethacrylate, PMMA)或環烯經共聚合物(Cyclic Olefin Copolymer)等材料。[0056]本實施例中，上述感應結構120皆形成於基板110的上表面IlOu上。另一實施例中，上述感應結構120的一些(如後述的第一感應列121與第二感應列122的一者)可形成 於基板110的上表面IlOu上,而上述感應結構120的另一些(如後述的第一感應列121與 第二感應列122的另一者)可形成於基板110中相對於上表面IlOu的下表面上。[0057]各感應結構120包括數個感應電極及數條連接線，相鄰兩個感應電極由對應的連 接線連接。例如，本實施例中，上述感應結構120包括數條第一感應列121及數條第二感應 列122。各第一感應列121沿第一方向Dl排列且包括數條第一連接線121b及數個第一感 應電極121t，相鄰兩個第一感應電極121t由對應的第一連接線121b連接。各第二感應列 122沿第二方向D2排列且包括數條第二連接線122b及數個第二感應電極122t。相鄰兩個 第二感應電極122t由對應的第二連接線122b連接。[0058]上述感應結構120更包括絕緣層123，絕緣層123電性隔離上述第一連接線121b 與上述第二連接線122b，避免第一連接線121b與對應的第二連接線122b接觸而短路。此 夕卜，絕緣層123可以是透光絕緣層或遮光(不透光)絕緣層。[0059]請參閱圖3所示,該圖所示為圖1中沿方向A-A的剖面圖。本實施例中,第一感應 列121及絕緣層123形成於基板110的上表面llOu，而第二連接線122b形成於絕緣層123 上，並跨過絕緣層123連接相鄰兩個第二感應電極122t。[0060]另一實施例中，感應結構120的結構可不同於圖2的結構，例如，第一感應列121 及第二感應列122可分別形成於基板110的相對兩個面上。感應結構120的結構可依不同 需求具有不同設計，本實用新型實施例對感應結構120的結構不作任何限制。[0061]本實施例中，第一感應電極121t的材質例如是透明導電材料(Transparent Conductive Oxide ;TC0)或透明有機導電材料，其中透明導電材料例如是銦錫氧化物 (Indium Tin Oxide, ΙΤ0)，而透明的有機導電材料如是聚乙撐二氧噻吩(PED0T)。第二感應 電極122t的材質相似於第一感應電極121t，容此不再贅述。第一連接線121b的材質例如 是透明導電材料或金屬，其中金屬的材質可選自於由鈦、鋁、鑰、銅、銀及其組合所構成的群 組。第二連接線122b的材質相似於第一連接線121b，容此不再贅述。[0062]此外，在一實施例中，第一連接線121b包括第一導電層121bl、第二導電層121b2 及第三導電層121b3。第一導電層121bl形成於基板110上,第二導電層121b2形成第一 導電層121bl上,而第三導電層121b3形成第二導電層121b2上。一實施例中，第一導電層 121bl、第二導電層121b2及第三導電層121b3分別為鑰/鋁/鑰或鈦/鋁/鈦。以鑰/鋁 /鑰來說，一實施例中，鑰層的厚度約25奈米，鋁層的厚度約250奈米。[0063]如圖3所示，擴光結構130形成於上述連接線的至少一者上，一光線L入射至擴光 結構130後是擴散地反射，例如是漫射或散射，以避免光線L集中地反射出去。其中，光線 L例如是環境光線，如太陽光或外部光源。本實施例中，擴光結構130可形成於第一連接線 121b上，例如是形成於第一連接線121b的上表面120u上，如此，光線L入射至擴光結構130 後是擴散地反射。此外，上表面120u是第三導電層122b3的上表面，即，擴光結構130形成 於第三導電層122b3上。另一實施例中，擴光結構130可形成於第一連接線121b的上表面 120u及側面120s上。其它實施例中，擴光結構130亦可不形成於第一連接線121b上。[0064]如圖3所示，當信號傳輸線150與第一連接線121b或第二連接線122b在同一制 造程序中形成時，信號傳輸線150的上表面(或者是上表面及側面二者)亦可形成擴光結構 130。另一實施例中，擴光結構130亦可不形成於信號傳輸線150上。[0065]請參閱圖4所示,該圖所示為圖2中沿方向B-B』的剖面圖。第二感應電極122t形 成於基板110的上表面I IOu上。在一實施例中，第二連接線122b可包括第一導電層122bl、 第二導電層122b2及第三導電層122b3。第一導電層121bl形成於絕緣層123上,第二導電 層122b2形成第一導電層122bl上,而第三導電層122b3形成第二導電層122b2上。第一 導電層122bl、第二導電層122b2及第三導電層122b3的材質及尺寸可分別相似於上述第一 導電層121bl、第二導電層121b2及第三導電層121b3，容此不再贅述。[0066]如圖4所示，擴光結構130可形成於第二連接線122b上，例如是形成於第二連接 線122b的上表面120u上，如此，光線L入射至擴光結構130後是擴散地反射。此外，上表 面120u是第三導電層122b3的上表面，即，擴光結構130形成於第三導電層122b3上。另 一實施例中，擴光結構130可形成於第二連接線122b的上表面120u及側面120s上。其它 實施例中，擴光結構130亦可不形成於第二連接線122b上。[0067]擴光結構130例如是粗糙化結構，光線L入射至擴光結構130後是擴散地反射。 另一實施例中，擴光結構可設計成其它結構使入射其的光線L擴散地反射。例如，擴光結構 130本身是氧化物；或者，擴光結構130是圖案化結構。無論是粗糙化結構、氧化物或圖案 化結構，都可使光線L入射至擴光結構後是擴散地反射。[0068]一種擴光結構130 (如粗糙化結構)的形成方法中，以第一連接線121b為例說明， 可採用例如是塗布、濺鍍、氣相沉積或蒸鍍等方法，形成一條連接線材料(未繪示)在基板 110上。其中，連接線材料的材質可選自於由鈦、鋁、鑰、銅、銀及其組合所構成的群組。然 後，以例如是化學蝕刻方法、微影製造程序、滾壓、絨毛刷或鋼絲絨刷，在該連接線材料的整 個上表面上形成擴光結構130 (如粗糙化結構)；然後，採用例如是微影製造程序，圖案化該 連接線材料，以形成第一連接線121b。如此的製造程序,僅連接線的上表面120u形成擴光 結構130 (即連接線的側面120s不具有粗糙化結構)。另一實施例中，可在連接線的側面 120s形成擴光結構130，例如，在圖案化該連接線材料後，形成第一連接線121b，其中第一 連接線121b露出側面120s，接著採用例如是化學蝕刻方法、微影製造程序、滾壓、絨毛刷或 鋼絲絨刷在連接線的上表面120u及側面120s形成擴光結構130。此外，可採用相似方法， 形成擴光結構130 (粗糙化結構)在第二連接線122b上。[0069]另一種擴光結構130 (如氧化物)的形成方法中，以第一連接線121b為例說明，可 採用例如是塗布、濺鍍、氣相沉積或蒸鍍等方法，形成一條連接線材料在基板110或絕緣層 123上；然後，在濺鍍或蒸鍍金屬製造程序過程中通入氧氣、製造程序完成之後在腔體通入 大氣使連接線氧化，或製造程序完成之後用氧等離子體處理，使連接線的表面產生金屬氧 化物(即擴光結構)，其中金屬氧化物例如是氧化鋁(AlOx)、氧化鑰(MoOx)、氧化鈦(TiOx)、 氧化銅(CuOx)、氧化銀(AgOx)等。此外，可利用製造程序中通入氧氣量或腔體內大氣流量 與時間或氧等離子體處理時間與功率來控制金屬氧化物(即擴光結構)成膜厚度介於約10 至100奈米(nm)之間，利用此金屬氧化物薄膜特性可以產生薄幹射現象降低反射率，降低 人眼辨別能力。然後，可採用例如是微影製造程序，圖案化該金屬氧化物及連接線材料，以 形成第一連接線121b。此外，可採用相似方法，形成擴光結構130 (如氧化物)在第二連接 線122b上。[0070]請參閱圖5A及圖5B所示，圖5A繪示依照本實用新型另一實施例的擴光結構的外 觀圖，圖5B繪示圖5A中沿方向C-C的剖視圖。以形成於第二連接線122b上的擴光結構230為例說明，擴光結構230是圖案化結構，其包括數個柱體231，光線L入射至柱體231後 是擴散地反射。柱體231的剖面例如是圓形、橢圓形或多邊形、其中多邊形例如是三角形、 矩形、長方形或正方形。上述柱體231的剖面形狀可完全相同或不完全相同。[0071]擴光結構230的其中一種形成方法中，以形成於第二連接線122b上的擴光結構 230為例說明，可採用例如是塗布、濺鍍、氣相沉積或蒸鍍等方法，形成擴散材料在第二連接 線122b上。其中，該擴散材料的材質例如是有機材料或無機材料，有機材料例如是光致抗 蝕劑材料，其選自於紅光(R)光致抗蝕劑、藍光(B)光致抗蝕劑、綠光(G)光致抗蝕劑、透明 光致抗蝕劑及黑色光致抗蝕劑所構成的群組，而無機材料例如是金屬氧化物、矽氧化物或 矽氮化物，其中金屬氧化物例如是Nb205、ΙΤ0, AlOx等，矽氧化物例如是SiOx、SiOxNy等， 而矽氮化物例如是SiNx、SiOxNy。然後，採用例如是微影製造程序，圖案化該擴散材料，以 形成擴光結構230 (圖案化結構)。另外，可採用相似方法在第一連接線121b及/或信號傳 輸線150上形成擴光結構230。[0072]本實施例中，擴光結構230可不具有粗糙化結構；另一實施例中，在圖案化該擴散 材料之前，可採用例如是化學蝕刻方法、微影製造程序、滾壓、絨毛刷或鋼絲絨刷，在該擴散 材料的整個上表面上形成相似於擴光結構130的粗糙化結構；再一實施例中，擴光結構230 可以是相似於上述的氧化物。[0073]請參閱圖6A及圖6B所示，圖6A繪示依照本實用新型另一實施例的擴光結構的剖 視圖，圖6B繪示圖6A中方向D-D的剖面圖。以形成於第二連接線122b上的擴光結構330 為例說明，擴光結構330是圖案化溝槽，光線L入射至圖案化溝槽的槽壁後是擴散地反射。 相似的擴光結構可形成於第一連接線121b，容此不再贅述。[0074]此外，擴光結構330的剖面形狀例如是圓形、橢圓形或多邊形、其中多邊形例如是 三角形、矩形、長方形或正方形。[0075]雖然上述實施例的擴光結構(具有粗糙化結構、氧化物及圖案化結構)是以加工方 式或表面處理方式形成為例說明，然亦可藉由設計擴光結構的厚度來達到降低反射率的功 倉泛。[0076]請參閱圖7所示，該圖所示為依照本實用新型另一實施例的擴光結構的剖視圖。 擴光結構430的材質是有色有機材料，其中有色有機材料例如是紅光光致抗蝕劑、藍光光 致抗蝕劑、綠光光致抗蝕劑、透明光致抗蝕劑及黑色光致抗蝕劑中至少一者。擴光結構430 的厚度H可介於約O. 5微米至2微米之間，藉由擴光結構430的厚度設計，可降低反射率。[0077]本實施例中，擴光結構430形成於第二連接線122b的上表面120u為例說明，然 在另一實施例中，擴光結構430更形成於第二連接線122b的側面120s，以包覆第二連接線 122b。此外，可採用相似方法，形成擴光結構430在第一連接線121b及/或信號傳輸線150 上。[0078]相較於前述擴光結構(粗糙化結構、氧化物及圖案化結構)，本實施例的擴光結構 430採用表面處理或表面加工以外的方法形成，然此非用以限制本實施例。另一實施例中， 雖然圖未繪示，然擴光結構430亦可具有粗糙化結構(相似於擴光結構130);或者，擴光結 構430本身是氧化物(相似於上述氧化物)；或者，擴光結構430是圖案化結構(相似於擴光 結構330)。[0079]圖8繪示依照本實用新型另一實施例的電容式觸控面板的俯視圖的剖視圖。本實施例中，先形成第一連接線121b在基板110上；然後，形成第一感應電極121t形成於基板 110，其中相鄰兩個第一感應電極121t由對應的第一連接線121b連接；然後，形成絕緣層 123在第一連接線121b上；然後，形成第二感應電極122t及第二連接線122b。本實施例 中，第二感應電極122t及第二連接線122b可在同一製造程序或不同製造程序中以相同材 料製成，例如是以透明導電材料或透明有機導電材料製成；或者，第二感應電極122t及第 二連接線122b亦可在同一製造程序或不同製造程序中以不同材料製成。[0080]請參閱圖9所示,該圖所示為本實用新型實施例的擴光結構的反射率測試結果 圖。以擴光結構430 (對應到曲線D2)為例說明，相較於傳統不具有本實施例的擴光結構 (對應到曲線Dl)的反射率，具有擴光結構430的電容式觸控面板100的反射率降低約3%， 足見本實用新型實施例的擴光結構430具有降低反射率的功效。[0081]本實用新型上述實施例所揭露的電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板，具有 多項特徵，列舉部份特徵說明如下[0082](I).擴光結構是粗糙化結構；或者，擴光結構本身是氧化物；或者，擴光結構是圖 案化結構。無論是粗糙化結構、氧化物或圖案化結構，都可使光線入射至擴光結構後是擴散 地反射。[0083](2).擴光結構的粗糙化可採用例如是化學蝕刻方法、微影製造程序、滾壓、絨毛刷 或鋼絲絨刷實現。[0084](3).擴散材料的材質例如是有機材料或無機材料，有機材料例如是光致抗蝕劑 材料，如紅光光致抗蝕劑、藍光光致抗蝕劑、綠光光致抗蝕劑、透明光致抗蝕劑及黑色光致 抗蝕劑的任意組合，而有機材料例如是金屬氧化物、矽氧化物或矽氮化物，其中金屬氧化物 例如是Nb205、ΙΤ0, AlOx等，矽氧化物例如是SiOx、SiOxNy等，而矽氮化物例如是SiNx、 SiOxNy0[0085]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，並非對本實用新型作任何形式上 的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本實用新型，任何 熟悉本專業的技術人員，在不脫離本實用新型技術方案範圍內，當可利用上述揭示的技術 內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術方案 的內容，依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾， 均仍屬於本實用新型技術方案的範圍內。
權利要求1.一種電容式觸控面板，其特徵在於，包括 基板； 多條感應結構，各該感應結構包括多個感應電極及多條連接線，相鄰兩個感應電極由對應的該連接線連接；以及 擴光結構，形成於上述連接線的至少一者上，光線入射至該擴光結構後是擴散地反射。
2.根據權利要求1所述的電容式觸控面板，其特徵在於其中所述的各該連接線具有上表面及側面，該擴光結構形成於該至少一條連接線的該上表面與該側面中至少一者上。
3.根據權利要求1所述的電容式觸控面板，其特徵在於其中所述的上述感應結構包括 多條第一感應列，各該第一感應列沿第一方向排列且包括 多條第一連接線；及 多個第一感應電極，相鄰兩個第一感應電極由對應的該第一連接線連接；以及 多條第二感應列，各該第二感應列沿第二方向排列且包括 多條第二連接線；及 多個第二感應電極，相鄰兩個第二感應電極由對應的該第二連接線連接。
4.根據權利要求3所述的電容式觸控面板，其特徵在於其中所述的該基板具有相對的上表面與下表面，第一子感應結構形成於該基板的該上表面與該下表面的一者上，而第二子感應結構形成於該基板的該上表面與該下表面的另一者上。
5.根據權利要求1所述的電容式觸控面板，其特徵在於其中所述的該擴光結構是粗糙化結構，該光線入射至該粗糙化結構後是擴散地反射。
6.根據權利要求1所述的電容式觸控面板，其特徵在於其中所述的該擴光結構是金屬氧化層，且該金屬氧化層的材質是氧化鋁、氧化鑰、氧化鈦、氧化銅或氧化銀。
7.根據權利要求1所述的電容式觸控面板，其特徵在於其中所述的該擴光結構是圖案化結構。
8.—種觸控顯示面板，其特徵在於，包括 電容式觸控面板，包括 基板； 多條感應結構，各該感應結構包括多個感應電極及多條連接線，相鄰兩個感應電極由對應的該連接線連接；及 擴光結構，形成於上述連接線的至少一者上，光線入射至該擴光結構後是擴散地反射；以及 顯示面板，對應該電容式觸控面板配置。
9.根據權利要求8所述的觸控顯示面板，其特徵在於其中所述的各該連接線具有上表面及側面，該擴光結構形成於該至少一條連接線的該上表面與該側面中至少一者上。
10.根據權利要求8所述的觸控顯示面板，其特徵在於其中所述的上述感應結構包括 多條第一感應列，各該第一感應列沿第一方向排列且包括 多條第一連接線；及 多個第一感應電極，相鄰兩個第一感應電極由對應的該第一連接線連接；以及 多條第二感應列，各該第二感應列沿第二方向排列且包括多條第二連接線；及 多個第二感應電極，相鄰兩個第二感應電極由對應的該第二連接線連接。
11.根據權利要求8所述的觸控顯示面板，其特徵在於其中所述的該擴光結構是粗糙化結構，該光線入射至該粗糙化結構後是擴散地反射。
12.根據權利要求8所述的觸控顯示面板，其特徵在於其中所述的該擴光結構是金屬氧化層，且該金屬氧化層的材質是氧化鋁、氧化鑰、氧化鈦、氧化銅或氧化銀。
13.根據權利要求8所述的觸控顯示面板，其特徵在於其中所述的該擴光結構是圖案化結構。
專利摘要本實用新型是有關於一種電容式觸控面板及應用其的觸控顯示面板。電容式觸控面板包括基板、多條感應結構及擴光結構。各感應結構包括數個感應電極及數條連接線，相鄰兩個感應電極由對應的連接線連接。擴光結構形成於上述連接線的至少一者上，光線入射至擴光結構後是擴散地反射。本實用新型降低了反射率，從而更加適於實用。
文檔編號G06F3/044GK202838289SQ201220504590
公開日2013年3月27日 申請日期2012年9月28日 優先權日2011年10月21日
發明者王明璽, 陳鬱仁 申請人:恆顥科技股份有限公司