一種溼法刻蝕機刻蝕裝置製造方法
2023-09-22 14:15:30 2
一種溼法刻蝕機刻蝕裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種溼法刻蝕機刻蝕裝置，包括供液總管道與至少兩組同心矩形管道，其特徵在於：每組矩形管道均經由一供液支管連接至供液總管，矩形管道通過可旋轉彎頭固定在支撐架上，矩形管道上均布多個噴淋裝置。本實用新型通過將噴淋裝置進行環狀排布以及通過相應閥門控制各矩形管道上流量壓力的不同和驅動連杆控制的擺動不同，控制基板各區域的刻蝕速率，從而達到控制線寬、改善坡度角、提高刻蝕均一性的目的，進而提高基板刻蝕的合格率。
【專利說明】一種溼法刻蝕機刻蝕裝置
【技術領域】
[0001 ] 本實用新型涉及一種蝕刻裝置，特別涉及一種用於溼法蝕刻的相關裝置。
【背景技術】
[0002]薄膜電晶體液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid CrystalDisplay, TFT-1XD)是目前常見的液晶顯示器產品，在其生產過程中，溼法刻蝕工藝是極其重要的一個環節。.[0003]溼法刻蝕是利用混合酸液對玻璃表面PR未覆蓋的金屬進行刻蝕，從而形成所需要的金屬圖案。因此溼法刻蝕的好壞直接影響產品的好壞。
[0004]目前，在TFT-1XD生產溼法刻蝕工藝中，刻蝕速率、線寬、均一性、坡度角是衡量刻蝕好壞的標準。但在實際生產過程中，這些關鍵參數並不能達到我們所預想的標準。實際生產過程中，由於溼法刻蝕的這種刻蝕方式，當基板在刻蝕設備內進行刻蝕時，藥液噴灑在基板後從基板四周流出，造成基板四周的藥液置換速率快而基板中間的藥液置換速率慢，導致基板四周部分刻蝕的快而基板中間部分刻蝕的慢，最終導致整個基板刻蝕不均勻、線寬不一、坡度角不好等不良，而這種不良直接影響到產品良率。需要指出的是，隨著玻璃基板的大型化發展這種不良就越發明顯。
[0005]有鑑於此，特提出本實用新型。
實用新型內容
[0006]本實用新型的目的在於提供一種用於溼法蝕刻機的蝕刻裝置，以解決現有蝕刻機蝕刻不均勻、線寬不一、坡角度不好等缺陷。
[0007]為實現上述目的，本實用新型採用如下技術方案:
[0008]一種溼法刻蝕機刻蝕裝置，包括供液總管道與至少兩組同心矩形管道，其特徵在於:每組矩形管道均經由一供液支管連接至供液總管，並通過可旋轉彎頭固定在支撐架上，矩形管道上均布多個噴淋裝置。
[0009]其中，各供液支管上設有計量閥門。該閥門用於調整每個矩形管道供液的流量壓力，以達到選擇性刻蝕的作用；需要指出的是，該計量閥門可以是節流閥，配合相應流量計和壓力計，達到自動精準控制的目的；另外，如果通過開關此閥門，還可實現選擇性補刻的目的，對解決不良、驗證新刻蝕液測試等效果明顯。
[0010]為了獲得更理想的刻蝕效果，本實用新型所述刻蝕裝置，在矩形管道的對稱軸位置上設有至少一根可驅動連杆，使得刻蝕裝置能夠縱橫兩個方向的擺動噴淋，可以進一步改善刻蝕均一性、刻蝕率等。
[0011]其中，矩形管道與連杆的固定方式可選擇現有技術公開的多種，如在矩形管道的對稱軸位置，以及連杆的相應位置分別設有通過螺栓連接的定位片等，具體為本領域技術人員所掌握，本實用新型對此不作特別限定。
[0012]本實用新型所述的刻蝕裝置，所述噴淋裝置包括自矩形管道垂直向下延伸的噴淋管及設於噴淋管末端的噴嘴，噴淋管的長度相等，或自矩形管道的中心向外依次遞增或遞減，形成整體類凹弧狀或凸弧狀，有利於形成更好的噴淋效果。
[0013]本實用新型所述的刻蝕裝置，所述的矩形管道為正方形或長方形(即矩形管道)。每組矩形管道在四個角上均設置可旋轉彎頭，矩形管道下方對角線位置交叉設有兩根支撐架，矩形管道上方的對稱軸位置設有兩根可驅動所有矩形管道的連杆。
[0014]本實用新型未對噴淋裝置的具體布局結構作出限定，本領域技術人員依據實際的處理對象對噴淋裝置的數量、間距、形狀等作出選擇及調整，本實用新型對此不作特別限定。
[0015]本實用新型所述的刻蝕裝置，所述矩形管道為3?8組等距設置的同心矩形管道。優選4組。具體的設置可依據具體需求。
[0016]本實用新型所述的刻蝕裝置連有控制元件，驅動連杆使噴淋裝置軸向擺動。矩形管道由多節支管經可旋轉彎頭連接構成，管道彎頭固定在支撐架上，用於支撐整個矩形管道。管道彎頭為內部連通且帶有旋轉接頭的管道彎頭，以使得每個矩形管道內部導通，且可以使得各個分管道軸向轉動。
[0017]使用時，液體自供液總管道經供液支管供液至各組同心矩形管道，進而通過分布矩形管道上的噴淋裝置噴灑到玻璃基板上進行刻蝕。供液過程中，通過計量閥門調整每個分布矩形管道供液的流量壓力，以達到選擇性刻蝕的作用。
[0018]本實用新型溼法刻蝕機刻蝕裝置，通過對刻蝕均一性的分布進行設計，採用符合刻蝕均一性特點分布的噴淋裝置，以及通過計量閥門控制各矩形管道上流量壓力的不同，達到選擇性刻蝕的目的，從而達到改善刻蝕不均勻、線寬不一、坡度角不好等不良的目的。此外，需要指出的是本實用新型不僅僅應用於刻蝕工藝，應用在基板的清洗工藝一樣能達到改善清洗效果的目的；同樣，應用在剝離、顯影等工藝也是如此。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0019]圖1本實用新型裝置立體圖；
[0020]圖2本實用新型裝置俯視圖；
[0021 ]圖3本實用新型裝置前視圖；
[0022]主要元件附圖標記:
[0023]1:供液總管道2:供液支管
[0024]3:計量閥門 4:環形管道
[0025]5:連杆 6:彎頭
[0026]7:支撐架 8:噴淋裝置。
【具體實施方式】
[0027]實施例1
[0028]如圖1-圖3所示的溼法刻蝕機刻蝕裝置，包括供液總管道I與4組同心矩形管道
4,:每組矩形管道4均經由一供液支管2連接至供液總管I,矩形管道4通過可旋轉彎頭6固定在支撐架7上，矩形管道4上均布多個噴淋裝置8。
[0029]其中，各供液支管上均設有計量閥門3，該閥門用於調整每個矩形管道4供液的流量壓力，以達到選擇性刻蝕的作用。本實施例中矩形管道4為四組等距設置的同心矩形管道，每組矩形管道4在四個角上均設置可旋轉彎頭6，矩形管道4下方對角線位置交叉設有兩根支撐架7 (通過彎頭6與矩形管道4連接)，矩形管道4上方的對稱軸位置設有兩根可驅動所有矩形管道的連杆5。彎頭6為內部連通且帶有旋轉接頭的管道彎頭，以使得每個矩形管道4內部導通，且可以使得各個分管道軸向轉動。
[0030]本實施例所述噴淋裝置8包括自矩形管道垂直向下延伸的噴淋管及設於噴淋管末端的噴嘴，噴淋管的長度自矩形管道的中心向外依次遞增。
[0031]使用時，液體自供液總管道I經供液支管2供液至各組同心矩形管道4，進而通過分布矩形管道上的噴淋裝置8噴灑到玻璃基板上進行刻蝕。供液過程中，通過計量閥門2調整每個分布矩形管道供液的流量壓力，以達到選擇性刻蝕的作用。此外，本實施例所述的刻蝕裝置連有控制元件，驅動連杆5使得刻蝕裝置能夠縱橫兩個方向的擺動噴淋，進一步改善刻蝕均一性、刻蝕率等。
[0032]實施例2
[0033]與實施例1相比，區別點僅在於，本實施例中，矩形管道4為5組等距設置的同心矩形管道，噴淋裝置8中，噴淋管的長度自矩形管道的中心向外依次遞減。
[0034]以上實施方式僅用於說明本實用新型，而並非對本實用新型的限制，有關【技術領域】的普通技術人員，在不脫離本實用新型的精神和範圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術方案也屬於本實用新型的範疇，本實用新型的專利保護範圍應由權利要求限定。
【權利要求】
1.一種溼法刻蝕機刻蝕裝置，包括供液總管道與至少兩組同心矩形管道，其特徵在於:每組矩形管道均經由一供液支管連接至供液總管，並通過可旋轉彎頭固定在支撐架上，矩形管道上均布多個噴淋裝置。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特徵在於:各供液支管上設有計量閥門。
3.根據權利要求1所述的裝置，其特徵在於:所述矩形管道的對稱軸位置上設有至少一根可驅動所有矩形管道的連杆。
4.根據權利要求1或3所述的裝置，其特徵在於:所述噴淋裝置包括自矩形管道垂直向下延伸的噴淋管及設於噴淋管末端的噴嘴，噴淋管的長度相等，或自矩形管道的中心向外依次遞增或遞減。
5.根據權利要求1所述的裝置，其特徵在於:每組矩形管道在四個角上均設置可旋轉彎頭，矩形管道下方對角線位置交叉設有兩根支撐架，矩形管道上方的對稱軸位置設有兩根可驅動所有矩形管道的連杆。
6.根據權利要求1或3所述的裝置，其特徵在於:所述矩形管道為3?8組等距設置的同心矩形管道。
7.根據權利要求6所述的裝置，其特徵在於:所述矩形管道為4組等距設置的同心矩形管道。
8.根據權利要求1所述的裝置，其特徵在於:所述可旋轉彎頭為內部連通且帶有選擇接頭的彎道彎頭。
9.根據權利要求1或3所述的裝置，其特徵在於，所述裝置連有控制元件，驅動連杆使噴淋裝置軸向擺動。
【文檔編號】C23F1/08GK203782235SQ201320833748
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2013年12月17日 優先權日:2013年12月17日
【發明者】胡偉, 葉成枝, 肖冠華, 楊子衡, 吳代吾, 侯智 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司