光掩模及曝光裝置的製作方法
2023-09-12 02:45:05
專利名稱：光掩模及曝光裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及在掩模基板上形成有掩模圖案的光掩模，尤其涉及要防止與目標不同的圖案被曝光的情形的光掩模及曝光裝置。
背景技術：
以往的這種光掩模，在同一掩模基板上排列設置有掩模圖案不同的多種圖案區域，在基板上曝光不同種類的圖案時，通過快門的開閉動作而從多種圖案區域中選擇被曝光的圖案的圖案區域來進行曝光(例如參照日本特開2008-310217號公報)。但是，這種以往的光掩模通過受曝光裝置中具備的控制單元的程序所控制的快門的開閉動作，從上述多種圖案區域中選擇被曝光的圖案的圖案區域，並未具備確認圖案區 域是否被正確選擇的單元。因此，在因人為錯誤而錯誤地輸入並設定了上述多種圖案區域的選擇信息、或者設置了與要曝光的光掩模不同的光掩模的情況下，可能無法檢測出上述錯誤，導致會曝光與正規圖案不同的圖案。
發明內容
因此，本發明是針對上述問題點而提出的，其目的在於提供一種要防止與目標不同的圖案被曝光的情形的光掩模及曝光裝置。為了達成上述目的，第I發明涉及一種光掩模，具有在掩模基板上將多個掩模圖案至少排成一列而形成的圖案區域，所述光掩模具備在與所述多個掩模圖案的排列方向交叉的方向上，在與所述圖案區域的中心軸偏離一定距離的位置處，按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設置的細長狀的開口部；和在所述開口部內為了將所述掩模圖案與其他掩模基板上形成的不同種類的掩模圖案辨別開而設置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記，將所述辨別用標記設置在所述開口部的縱長中心軸上的與所述不同種類的掩模圖案的辨別用標記不同的位置。通過採樣這種構成，根據在與形成了掩模圖案的圖案區域的中心軸偏離一定距離的位置處設置的細長狀的開口部內、與其縱長中心軸交叉的方式設置的至少一條細線狀的辨別用標記的位置，與形成於其他掩模基板的不同種類的掩模圖案辨別開。另外,第2發明涉及一種光掩模,在同一掩模基板上將掩模圖案不同的多種圖案區域按照其中心軸相互平行的方式排列設置，所述光掩模具備在與各所述圖案區域的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處，分別按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設置的細長狀的多個開口部；和在各所述開口部內分別為了辨別所述掩模圖案而設置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記，將各所述開口部內的辨別用標記分別設置在各所述開口部的縱長中心軸上的不同位置。通過採樣這種構成，根據與在同一掩模基板上排列設置且掩模圖案不同的多種圖案區域的中心軸偏離一定距離的位置處分別以縱長中心軸平行於所述中心軸的方式設置的細長狀的多個開口部內的、與上述縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記的位置，辨別各圖案區域的掩模圖案。優選各所述開口部內的辨別用標記，按照沿著各所述圖案區域的中心軸排列的各所述掩模圖案的排列間距的整數倍的間距而分別形成有多條。進而優選各所述開口部內的辨別用標記在所述縱長中心軸方向上的寬度各不相同。另外，第3發明涉及一種曝光裝置，具備掩模臺，其與被曝光體對置設置，對光掩模進行保持，能夠沿著多種圖案區域的排列方向移動，所述光掩模在同一掩模基板上將掩模圖案不同的所述多種圖案區域按照其中心軸相互平行的方式排列設置，在與各所述圖案區域的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處分別形成縱長中心軸平行於所述中心軸的細長狀的多個開口部，在該各開口部內分別將用於辨別所述掩模圖案的與所述縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記設置在所述縱長中心軸上的 不同位置；曝光光學系統，其向所述光掩模的多種圖案區域之中被選擇出的一個圖案區域照射光源光，將該被選擇出的圖案區域的掩模圖案轉印到所述被曝光體上；檢測單元，其使細長狀的受光部的縱長中心軸與所述被選擇出的一個圖案區域所對應的所述開口部的縱長中心軸一致地進行配置，用於檢測所述辨別用標記的位置；和控制單元，其控制所述掩模臺的移動，使得從所述多種圖案區域中選擇一個圖案區域，所述控制單元比較從預先設定並保存的曝光信息中讀取的掩模圖案信息、和對應於各所述辨別用標記的位置而預先保存的掩模圖案信息之中由所述檢測單元檢測出的所述辨別用標記的位置所對應的掩模圖案信息，來判定所述被選擇出的圖案區域的正確與否。通過採用這種構成，利用與被曝光體對置設置的掩模臺對光掩模進行保持，所述光掩模在同一掩模基板上將掩模圖案不同的多種圖案區域按照其中心軸相互平行的方式排列設置，在與各圖案區域的中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處分別形成縱長中心軸平行於上述中心軸的細長狀的多個開口部，在該各開口部內分別將用於辨別上述掩模圖案的與上述縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記設置於上述縱長中心軸上的不同位置，由控制單元控制上述掩模臺的移動，使光掩模沿著上述多種圖案區域的排列方向移動，從該多種圖案區域中選擇一個圖案區域，利用曝光光學系統向該被選擇出的圖案區域照射光源光來將該圖案區域的掩模圖案轉印到被曝光體上。此時，利用使細長狀的受光部的縱長中心軸與被選擇出的一個圖案區域所對應的開口部的縱長中心軸一致地進行配置的檢測單元，檢測上述辨別用標記在上述縱長中心軸上的位置，利用控制單元比較從預先設定並保存的曝光信息中讀取的掩模圖案信息、和對應於各上述辨別用標記的位置而預先保存的掩模圖案信息之中由上述檢測單元檢測出的上述辨別用標記的位置所對應的掩模圖案信息，來判定被選擇出的上述圖案區域的正確與否。
圖I是表示本發明的曝光裝置的實施方式的概略構成的主視圖。圖2是放大表示本發明的曝光裝置的主要部分的俯視圖。圖3是表不本發明的光掩模的一構成例的俯視圖。圖4是表不設於上述光掩模的開口部內的辨別用標記的一構成例的俯視圖。圖5是表不上述辨別用標記的另一構成例的俯視圖。
圖6是表示本發明的曝光裝置中使用的控制單元的構成的框圖。圖7是說明本發明的曝光裝置的動作的流程圖。圖8是說明本發明的曝光裝置的另一動作的流程圖。
具體實施例方式以下，基於附圖來詳細說明本發明的實施方式。圖I是表示本發明的曝光裝置的實施方式的概略構成的主視圖。該曝光裝置是使用在同一掩模基板上排列設置了掩模圖案不同的多種圖案區域的光掩模，將從上述多種圖案區域中選擇出的圖案區域的掩模圖案轉印到被曝光體上來進行曝光的曝光裝置，該曝光裝置構成為具備輸送單元I、掩模臺2、曝光光學單元3、檢測單元4、照明單元5以及控制單元6(參照圖6)。此外，在以下的說明中，描述被曝光體例如為液晶顯示用基板7的情況。
上述輸送單元I是利用省略圖示的輸送機構來保持塗敷了感光材料的液晶顯示用基板7的兩端緣部，並沿著圖I所示的箭頭A方向進行輸送的輸送單元，例如在液晶顯示用基板7的輸送方向(以下稱為「X方向」)上以一定間隔排列的多個臺8的上表面具備多個噴氣口和進氣口，使從該噴氣口噴出的空氣的壓力和從進氣口吸入的空氣的壓力平衡，並以使液晶顯示用基板7在臺8上浮起一定量的狀態進行輸送。另外，具備對液晶顯示用基板7的移動距離進行測量的省略圖示的位置傳感器、以及對液晶顯示用基板7的輸送速度進行檢測的省略圖示的速度傳感器。與上述輸送單元I的上表面對置地設置掩模臺2。該掩模臺2是吸附並保持光掩模9的緣部，並利用省略圖示的臺移動機構沿著X方向進行步進移動的掩模臺，採用使第I掩模臺2A和第2掩模臺2B在X方向上相距一定距離的方式配備的構成，其中，第I掩模臺2A和第2掩模臺2B如圖2所示，在與臺8的上表面平行的面內，在與X方向大致正交的方向(以下稱為「Y方向」)上保持多個光掩模9。並且，上述第I及第2掩模臺2A、2B設置成所保持的多個光掩模9在Y方向上以一定的排列間距交替地排列。而且,第I及第2掩模臺2A、2B還具備省略圖示的掩模校準機構，用於使所保持的各光掩模9個別地沿著X、Y方向微動且在XY面內旋轉，以使各光掩模9置於預先確定的規定位置處。在此，上述光掩模9是如圖3所示那樣在同一掩模基板10上使掩模圖案不同的多種(例如4種)圖案區域11以其縱長中心軸相互平行的方式排列設置而成的光掩模，在與各圖案區域11的縱長中心軸交叉的方向上，在與各縱長中心軸偏離一定距離的位置處，分別形成縱長中心軸與圖案區域的縱長中心軸平行的細長狀的多個開口部12，在該各開口部12內，在該縱長中心軸上的不同位置分別設置用於辨別掩模圖案的、與開口部12的縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記13，從而成為本發明的光掩模。並且，按照上述多種圖案區域11的排列方向與X方向一致的方式被保持於上述掩模臺2。另外，將各圖案區域11設在其間，在各圖案區域11的縱長中心軸上，在距離光掩模9的與X方向平行的中心軸等距離的位置處設有一對掩模用校準標記14，用於使光掩模9相對於在後述的曝光光學單元3上預先設定的基準位置成為一定的位置關係的方式進行定位。此外，與置於曝光光學單元3的照射區域IA內的圖案區域11的掩模用校準標記14對置地，在輸送單元I的相鄰的臺8的間隙設有用於拍攝上述掩模用校準標記14的省略圖示的I對二維照相機。上述各開口部12內的辨別用標記13的一構成例如圖4所示那樣，以與沿著各圖案區域11的縱長中心軸排列的各掩模圖案的排列間距P1、P2相等的間距，分別使例如3條辨別用標記13形成在縱長中心軸上的不同的位置處。或者，也可如圖5所示那樣，以各掩模圖案的排列間距P1、P2的2倍的間距，使多條辨別用標記13分別在縱長中心軸方向上偏離一定尺寸而設置於整個開口部12內。另外，上述各開口部12內的辨別用標記13在縱長中心軸方向的寬度可以分別不同。此外，各開口部12內的辨別用標記13的位置信息包括各圖案區域Ila Ild的掩模圖案的圖案信息，例如40英寸面板的濾色器用掩模圖案(圖案區域Ila)、40英寸面板的TFT用掩模圖案(圖案區域Ilb)、50英寸面板的濾色器用掩模圖案(圖案區域lie)、或50英寸面板的TFT用掩模圖案(圖案區域Ild)等的掩模圖案信息。這種情況下，預先設定並保存於後述的存儲器24中的上述辨別用標記13的位置信息例如如圖4所示那樣，是從多條辨別用標記13的左側起第2個辨別用標記13與光掩模9的平行於X方向的中心軸Mc之間的距離Ya、Yb、Yc、Yd,是設計值。在上述掩模臺2的上方設有曝光光學單兀3。該曝光光學單兀3用於向從保持在掩模臺2上的各光掩模9的多種圖案區域11中選出的I個圖案區域11照射光源光，將該·選出的圖案區域11的掩模圖案轉印到液晶顯示用基板7上，該曝光光學單元構成為包括放射含有紫外線的光源光的光源15、將光源光引導至上述光掩模9且使光源光的亮度分布均勻化並成為平行光之後向上述光掩模9照射的耦合光學系統16、以及對光源光的光路進行打開關閉的快門17,並且由對應於各光掩模9設置的多個單位曝光光學單兀構成。在上述掩模臺2的上方，按照使細長狀的受光部的縱長中心軸與上述選出的一個圖案區域11所對應的開口部12的縱長中心軸一致的方式，配設檢測單元4。該檢測單元4是具有在Y方向上排成一條直線的多個受光元件的線陣照相機，拍攝透過上述開口部12並通過光掩模9的下側的液晶顯示用基板7的像素，並且拍攝設於開口部12內的多個辨別用標記13。與上述檢測單元4的攝影區域對置地，在輸送單元I的相鄰的臺8的間隙設有照明單元5。該照明單元5用於從液晶顯示用基板7的下側透過基板來對檢測單元4的攝影區域進行照明，是照射可見光的例如滷素燈等。並且，在燈的光射出側設置紫外線濾色片，防止由於照明光中含有的紫外線使得液晶顯示用基板7的感光材料被曝光的情形。與上述輸送單元I、掩模臺2、光源15、快門17以及檢測單元4電連接地設有控制單元6。該控制單元6控制掩模臺2的移動而從多種圖案區域11中選擇一個圖案區域11，並通過比較從預先設定並保存的曝光信息中讀出的掩模圖案信息(例如圖案序號)、和對應於上述各辨別用標記13的位置而預先保存的掩模圖案信息(例如圖案序號)之中由上述檢測單元4檢測出的辨別用標記13的位置所對應的掩模圖案信息，來判定所選擇的圖案區域11正確與否。並且，如圖6所示，構成為具備輸送單元驅動控制器18、掩模臺驅動控制器19、光源驅動控制器20、快門驅動控制器21、圖像處理部22、運算部23、存儲器24、數據輸入部25以及控制部26。在此，輸送單元驅動控制器18控制輸送單元I的移動機構，使液晶顯示用基板7沿著箭頭A方向以預先確定的速度進行移動。另外，掩模臺驅動控制器19控制臺移動機構的驅動，使光掩模9沿著X方向移動規定量，從而使從光掩模9的多種圖案區域11中選擇出的一個圖案區域11位於曝光光學單元3的照射區域IA(參照圖2)內，並且控制設於掩模臺2的省略圖示的校準機構的驅動，使光掩模9沿著X、Y方向以及旋轉(Θ )方向進行微動，從而按照使光掩模9相對於曝光光學單元3的基準位置Hs成為一定的位置關係的方式進行對位。而且，光源驅動控制器20控制光源15的點亮及熄滅。另外，快門驅動控制器21控制快門17的開閉。並且，圖像處理部22輸入由各檢測單元4取得的3條辨別用標記13的圖像來進行圖像處理，並根據Y方向的亮度變化來檢測各辨別用標記13的Y方向的位置。另外，運算部23基於由圖像處理部22檢測出的3條辨別用標記13的位置，運算辨別用標記13的排列間距、以及例如從左側起第2個辨別用標記13與檢測單元4的中心位置Ce之間的距離，並且運算該辨別用標記13與在液晶顯示用基板7上預先設定的基準位置之間的距離，運算該距離與預先設定並保存的目標值之間的偏離量。而且，存儲器24是暫時保存上述運算部23中的運算結果，並且保存由後述的數據輸入部25輸入的數據的存儲器，該存儲器包括記錄了曝光方式(recipe)的記錄介質。此外，數據輸入部25是為了輸入用於從光掩模9的多種掩模圖案(圖案區域11)中選擇一個掩模圖案(圖案區域11)的選擇信息、例如圖案區域11的X方向的位置信息的輸入部，例如是鍵盤或數字鍵等。並且，控制部26綜合地控制整體，使上述各構成要素適當地驅動。
下面，利用圖7的流程圖來說明採用上述構成的曝光裝置的動作。在此，說明如圖4所示在各開口部12內設置了 Y方向的位置不同的3條辨別用標記13的情況。首先，在步驟SI中，在第I及第2掩模臺2A、2B上分別設置光掩模9，使得相對於開口部12所對應的圖案區域11而位於箭頭A所示的基板輸送方向的跟前側，進而將曝光方式記錄到控制單元6的存儲器24、例如HDD等記錄介質，並且通過操作數據輸入部25而輸入從第I及第2掩模臺2A、2B上設置的光掩模9的例如4種圖像區域11中選出的圖案區域11的選擇信息、例如X方向的位置信息xa、xb、xc、xd,並保存至存儲器24中，由此進行曝光開始的準備。此外，上述曝光方式包含下述信息液晶顯示用基板7的尺寸或單元尺寸等面板信息、曝光中的液晶顯示用基板7的輸送速度或曝光開始位置信息及曝光結束位置信息或曝光能量等曝光信息、作為掩模圖案信息的所使用的掩模圖案的Y方向的排列間距Pl或P2、及上述掩模圖案所對應的辨別用標記13的位置信息。這種情況下，作為在曝光方式中記錄的掩模圖案信息的辨別用標記位置信息，例如是圖4所示的檢測單元4的中心Ce與從左側起第2個辨別用標記13之間的距離ya、yb、yc或yd,基於光掩模9的Y方向的中心Mc與上述第2個辨別用標記13之間的距離Ya、Yb、Yc或Yd、對曝光光學系統3預先設定的基準位置Hs與光掩模9的中心Mc之間的距離My、上述基準位置Hs與檢測單元4的中心Ce之間的距離Cy的各設計值而預先算出並保存在存儲器24中。此外，在以下說明中，描述要選擇的圖案區域11例如為圖案區域Ilb的情況。在步驟S2中，在將液晶顯示用基板7定位於輸送單元I的臺8上並進行載置之後，若按下了省略圖示的曝光開始按鈕，則根據輸入並設定的所使用的掩模圖案的圖案區域Ilb所對應的位置信息xb，使光掩模9沿著X方向進行步進移動，從而圖案區域Ilb置於曝光光學單元3的照射區域IA內。在步驟S3中執行光掩模9的校準。關於該校準的具體順序，首先利用省略圖示的I對二維照相機，拍攝置於曝光光學單元3的照射區域IA內的圖案區域Ilb所對應的圖3所示的一對掩模用校準標記14，例如以各掩模用校準標記14的中心分別與各二維照相機的視野中心一致的方式驅動掩模校準機構，來進行光掩模9的校準。由此，光掩模9的中心Mc如圖4所示那樣置於與曝光光學單元3上預先設定的基準位置Hs偏離一定距離My的位置處。在步驟S4中，利用檢測單元4來拍攝上述選擇出的圖案區域Ilb所對應的3條辨別用標記13，由圖像處理部22對其進行圖像處理來檢測各辨別用標記13的Y方向的位置，由運算部23算出相鄰的辨別用標記13之間的間隔P1。進而，基於3條辨別用標記13之中的例如從左側起第2個辨別用標記13的位置，來運算該辨別用標記3與檢測單元4的中心Ce之間的距離yb，並將其作為辨別用標記位置信息而獲取。 在步驟S5中，在控制部26中比較上述算出的辨別用標記13的間隔Pl與已保存於存儲器24的曝光方式的掩模圖案的排列間距P1，來判定兩者是否一致。進而，比較基於曝光方式中記錄的設計值算出並保存於存儲器24的辨別用標記位置信息(Yb+My-Cy)與由檢測單元4拍攝取得到的辨別用標記位置信息yb，來判定兩者是否一致。由此，判定所選擇出的掩模圖案(圖案區域11)作為曝光使用的掩模圖案是否正確。在此，在由檢測單元4取得的辨別用標記的間隔以及辨別用標記位置信息都與已保存於存儲器24的掩模圖案的排列間距以及辨別用標記位置信息一致時，步驟S5成為「是」判定而進入步驟S6，從而邊移動液晶顯不用基板7邊實施曝光。另一方面，在只要辨別用標記的間隔以及辨別用標記位置信息中的其中一個與已保存於存儲器24的掩模圖案的排列間距以及辨別用標記位置信息不一致時，步驟S5成為「否」判定而進入步驟S7，利用警告燈點亮或警報音等來通知錯誤，並中止曝光。由此，能夠防止由於人為的設定錯誤而使得不同的圖案被曝光的情形。例如，在要曝光與曝光區域IOb對應的40英寸面板的TFT圖案時，由於數據輸入部25的操作錯誤，在作為曝光區域IOb的位置信息應該輸入xb但錯誤地輸入了 xa的情況下，與曝光區域IOa對應的40英寸面板的濾色器圖案被選擇。這種情況下，由於40英寸面板的TFT圖案與濾色器圖案的各圖案的排列間距Pl相同，所以僅根據3條辨別用標記13的間隔無法判斷選出的曝光區域10的正確與否。然而，根據本發明，因為僅在辨別用標記的間隔以及辨別用標記位置信息都與已保存於存儲器24的掩模圖案的排列間距以及辨別用標記位置信息一致時，才判定為所選擇出的曝光區域10正確，所以在這種情況下由檢測單元4取得的辨別用標記位置信息如圖4所示那樣成為ya，與基於曝光方式的設計值所算出的辨別用標記位置信息(Yb+My-Cy)不一致，判定為所選擇出的掩模圖案(圖案區域Ila)不正確。這樣，根據本發明，即便在因為人為錯誤而錯誤地輸入並設定了上述多種圖案區域11的選擇信息、或者設置了與要曝光的光掩模不同的光掩模的情況下，也能夠檢測該人為錯誤而防止與目標不同的圖案被曝光的情形，並且能夠防止發生大量的不良情況。圖8是對本發明的曝光裝置的另一掩模圖案選擇動作進行說明的流程圖。圖8所示的掩模圖案選擇動作為使光掩模沿著X方向進行步進移動，每次都算出辨別用標記的間隔並且取得辨別用標記位置信息，與已保存於存儲器24的掩模圖案的排列間距以及辨別用標記位置信息進行比較，邊判定所選擇出的掩模圖案(圖案區域11)是否正確邊搜索所使用的掩模圖案。首先，在步驟Sll中與上述步驟SI同樣地進行曝光開始的準備。在步驟S12中，將最初的曝光區域IOa置於曝光光學系統3的照射區域IA內之後，與上述步驟S2同樣地，使用與該曝光區域IOa對應的掩模用校準標記14來執行掩模校準。在步驟S13中，利用檢測單元4來拍攝上述選擇出的圖案區域Ila所對應的3條辨別用標記13，由圖像處理部22對其進行圖像處理來檢測各辨別用標記13的Y方向的位置，由運算部23算出相鄰的辨別用標記13的間隔。進而，基於3條辨別用標記13之中的例如從左側起第2個辨別用標記13的位置來運算該辨別用標記3與檢測單元4的中心Ce之間的距離，並將其作為辨別用標記位置信息來獲取。在步驟S14中，在控制部26中比較上述算出的辨別用標記13的間隔與已保存於存儲器24的掩模圖案的排列間距，判定兩者是否一致。進而，比較保存於存儲器24的辨別用標記位置信息與由檢測單元4取得的辨別用標記位置信息，來判定兩者是否一致。由此，判定所選擇出的掩模圖案(圖案區域11)作為曝光使用的掩模圖案是否正確。在此，在由檢測單元4取得的辨別用標記的間隔以及辨別用標記位置信息都與已保存於存儲器24的掩模圖案的排列間距以及辨別用標記位置信息一致時，步驟S14成為「是」判定而進入步驟S15,從而邊移動液晶顯不用基板7邊實施曝光。 另一方面，在只要辨別用標記的間隔以及辨別用標記位置信息中的其中一個與已保存於存儲器24的掩模圖案的排列間距以及辨別用標記位置信息不一致時，步驟S14成為「否」判定而進入步驟S16。在步驟S16中，判定光掩模9的移動是否達到了移動界限。在此，在光掩模9的移動仍在移動界限內之時，步驟S16成為「否」判定而進入步驟S17。在步驟S17中，步進移動光掩模9並選擇下一圖案區域lib。之後，返回到步驟S12，在使用接下來選出的圖案區域Ilb所對應的掩模用校準標記14來進行了掩模校準之後，在步驟S13中算出與下一圖案區域Ilb對應的辨別用標記13的間隔，並且取得辨別用標記13的位置信息。由此，直至在步驟S16中判定為「是」為止，反覆執行步驟S12 步驟S17。這種情況下，即便反覆執行步驟S12 步驟S17而步驟S14也未成為「是」判定、且在步驟S16中光掩模的移動達到了界限之時，意味著由於人為的錯誤而設置了不同的光掩模，步驟S16成為「是」判定而進入步驟S18，利用警告燈點亮或警報音等來通知錯誤，並中止曝光。在這裡，曝光是基於在曝光方式中記錄的曝光信息而進行的。例如，直至液晶顯示用基板7到達曝光開始位置為止，液晶顯示用基板7被以高速度進行輸送。之後，若液晶顯示用基板7到達曝光開始位置、曝光區域的開頭區域達到曝光光學單元3的曝光位置，則基板的輸送速度成為為了進行曝光而適當設定的速度。同時，快門17打開，光源光照射到光掩模9的被選擇的圖案區域11，從而該圖案區域11的掩模圖案被轉印到液晶顯示用基板7的曝光區域。這樣，邊使液晶顯示用基板7以一定速度進行輸送邊執行對曝光區域的曝光。之後，若液晶顯示用基板7到達曝光結束位置、曝光區域的末尾區域達到曝光光學單元3的曝光位置，則快門17關閉，同時使基板的輸送速度變為高速來搬出液晶顯示用基板7。在上述曝光動作中，由檢測單元4透過光掩模9的開口部12檢測在液晶顯示用基板7上形成的圖案上預先設定的基準位置(例如與TFT基板的平行於X方向的中心線接近且在相同方向上延伸的布線的緣部)，按照使該基準位置與檢測單元4的中心Ce之間的距離和預先設定並保存於存儲器24的目標值一致的方式，來驅動掩模臺2的掩模校準機構，使光掩模9沿著Y方向微動，使光掩模9對位於移動中的液晶顯示用基板7。由此，能夠使光掩模9跟蹤一邊沿著Y方向振動一邊被輸送的液晶顯示用基板7，從而能夠提高曝光位置精度。此外，在上述實施方式中，說明了使用在同一掩模基板10上形成有多種圖案區域11的光掩模9來進行曝光的情況，但是本發明並不限定於此，也可以在光掩模9中形成一個圖案區域11。這種情況下，能夠根據辨別用標記13的位置的差異而與另一種類的光掩模9辨別開。 另外，在上述實施方式中，說明了被曝光體是液晶顯示用基板7的情況，但是本發明並不限定於此，被曝光體也可以是等離子顯示器顯示用基板、有機EL顯示用基板等任何基板。
權利要求
1.一種光掩模，具有在掩模基板上將多個掩模圖案至少排成一列而形成的圖案區域，所述光掩模的特徵在於，具備 在與所述多個掩模圖案的排列方向交叉的方向上，在與所述圖案區域的中心軸偏離一定距離的位置處，按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設置的細長狀的開口部；和在所述開口部內為了將所述掩模圖案與其他掩模基板上形成的不同種類的掩模圖案辨別開而設置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記， 將所述辨別用標記設置在所述開口部的縱長中心軸上的與所述不同種類的掩模圖案的辨別用標記不同的位置。
2.一種光掩模，在同一掩模基板上將掩模圖案不同的多種圖案區域按照其中心軸相互平行的方式排列設置，所述光掩模的特徵在於，具備 在與各所述圖案區域的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處，分別按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設置的細長狀的多個開口部；和 在各所述開口部內分別為了辨別所述掩模圖案而設置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記， 將各所述開口部內的辨別用標記分別設置在各所述開口部的縱長中心軸上的不同位置。
3.根據權利要求2所述的光掩模，其特徵在於， 各所述開口部內的辨別用標記，按照沿著各所述圖案區域的中心軸排列的各所述掩模圖案的排列間距的整數倍的間距而分別形成有多條。
4.根據權利要求2或3所述的光掩模，其特徵在於， 各所述開口部內的辨別用標記在所述縱長中心軸方向上的寬度各不相同。
5.一種曝光裝置，其特徵在於，具備 掩模臺，其與被曝光體對置設置，對光掩模進行保持，能夠沿著多種圖案區域的排列方向移動，所述光掩模在同一掩模基板上將掩模圖案不同的所述多種圖案區域按照其中心軸相互平行的方式排列設置，在與各所述圖案區域的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處分別形成縱長中心軸平行於所述中心軸的細長狀的多個開口部，在該各開口部內分別將用於辨別所述掩模圖案的與所述縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記設置在所述縱長中心軸上的不同位置； 曝光光學系統，其向所述光掩模的多種圖案區域之中被選擇出的一個圖案區域照射光源光，將該被選擇出的圖案區域的掩模圖案轉印到所述被曝光體上； 檢測單元，其使細長狀的受光部的縱長中心軸與所述被選擇出的一個圖案區域所對應的所述開口部的縱長中心軸一致地進行配置，用於檢測所述辨別用標記的位置；和 控制單元，其控制所述掩模臺的移動，使得從所述多種圖案區域中選擇一個圖案區域，所述控制單元比較從預先設定並保存的曝光信息中讀取的掩模圖案信息、和對應於各所述辨別用標記的位置而預先保存的掩模圖案信息之中由所述檢測單元檢測出的所述辨別用標記的位置所對應的掩模圖案信息，來判定所述被選擇出的圖案區域的正確與否。
全文摘要
本發明提供一種光掩模及曝光裝置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上將掩模圖案不同的多種圖案區域(11)按照其中心軸相互平行的方式排列設置，並具備在與各所述圖案區域(11)的所述中心軸交叉的方向上，在與各中心軸偏離一定距離的位置處，分別按照縱長中心軸與所述中心軸平行的方式設置的細長狀的多個開口部(12)；和在各所述開口部(12)內分別為了辨別所述掩模圖案而設置的、與所述縱長中心軸交叉的至少一條細線狀的辨別用標記(13)，將各所述開口部(12)內的辨別用標記(13)分別設置在各所述開口部(12)的縱長中心軸上的不同位置。
文檔編號G03F1/38GK102902155SQ20121026253
公開日2013年1月30日 申請日期2012年7月26日 優先權日2011年7月29日
發明者野村義昭, 竹下琢郎, 橋本和重 申請人:株式會社 V 技術