一種像素界定層及其製作方法、顯示面板、顯示裝置製造方法
2023-05-02 21:42:31 1
一種像素界定層及其製作方法、顯示面板、顯示裝置製造方法
【專利摘要】本發明公開了一種像素界定層及其製作方法、顯示面板、顯示裝置。所述像素界定層包括第一像素界定層和層疊在所述第一像素界定層之上的第二像素界定層；其中，所述第一像素界定層具有與各個子像素單元的發光區域一一對應的多個第一開口，所述第二像素界定層具有與所述多個第一開口一一對應的多個第二開口，所述第一開口的橫截面呈上窄下寬的正梯形狀，所述第二開口的橫截面呈上寬下窄的倒梯形狀。本發明有利於避免出現陽極和陰極短路以及陰極開路的現象，能夠提高產品良率，增強畫質。
【專利說明】一種像素界定層及其製作方法、顯示面板、顯示裝置
【技術領域】
[0001] 本發明涉及顯示【技術領域】，尤其涉及一種像素界定層及其製作方法、顯示面板、顯 示裝置。
【背景技術】
[0002] 採用溶液製程製造0LED/PLED顯示器具有低成本、高產能、易於實現大尺寸等諸 多優勢和潛力，是OLED技術中一個很有潛力的發展方向。
[0003] 在0LED/PLED技術中需要採用有機或者無機材料製作像素界定層，以將用於發光 的有機材料限定在像素界定層限定出的子像素區域中，實現高解析度和全彩色顯示。
[0004] 在採用噴墨列印（inkjet printing)或者噴嘴列印（nozzle printing)方式製作 有機電致發光顯示器件時，陽極102通常採用ITO等一種親水的透明導電薄膜形成，為了與 陽極102形成良好的附著，所形成的含有空穴注入層和空穴傳輸層有機發光材料層104的 溶劑也是親水的；然而，像素界定層103常採用正性光阻形成，採用正性光阻，曝光顯影后 形成的圖形為倒梯形（頂部寬，底部窄），其坡度角較好，可以減少有機材料薄膜層或陰極 薄膜層出現的斷裂現象。但是，正性光阻具有疏水的特性，這樣就造成親水的有機材料溶劑 與疏水的像素界定層之間粘附性不好，從而造成有機發光材料層104收縮，造成陰極105與 陽極102的短路現象，造成屏幕的顯示不良現象，如圖1(a)所示，其中，101為基板。
[0005] 如果像素界定層採用負性光阻形成，則可以實現解決像素界定層與有機材料溶劑 都是親水特性，避免有機材料的收縮，避免陰極與陽極之間的短路現象；但是，負性光阻形 成的圖形為正梯形（頂部窄，底部寬），其坡度角很差，極易造成陰極的開路，也會造成屏幕 的顯示不良現象，如圖1(b)所示。
【發明內容】
[0006] 有鑑於此，本發明提出了一種像素界定層及其製備方法、顯示面板，以解決採用噴 墨列印或噴嘴列印方式製作有機電致發光顯示器件中容易出現的陰極與陽極的短路現象 以及陰極的開路現象的問題。
[0007] 根據本發明一方面，提供了一種像素界定層，其包括第一像素界定層和層疊在所 述第一像素界定層之上的第二像素界定層；其中，所述第一像素界定層具有與各個子像素 單元的發光區域一一對應的多個第一開口，所述第二像素界定層具有與所述多個第一開口 一一對應的多個第二開口，所述第一開口的橫截面呈上窄下寬的正梯形狀，所述第二開口 的橫截面呈上寬下窄的倒梯形狀。
[0008] 其中，所述第一像素界定層為親水性薄膜層，所述第二像素界定層為疏水性薄膜 層。
[0009] 其中，所述親水性薄膜層為負性光阻膜層，所述疏水性薄膜層為正性光阻膜層。 [0010] 其中，所述第一像素界定層的厚度小於所述第二像素界定層的厚度。
[0011] 其中，所述第一像素界定層的厚度在2000A?5000A之間，所述第二像素界定層 的厚度在5000人?15000人之間。
[0012] 根據本發明第二方面，提供了一種顯示面板，其包括形成在基板上的如上所述的 像素界定層。
[0013] 其中，所述第一像素界定層的多個第一開口形成有各個子像素單元的有機發光 層，所述有機發光層的厚度等於或大於所述第一像素界定層的厚度。
[0014] 根據本發明第三方面，提供了一種顯示裝置，其包括如上所述的顯示面板。
[0015] 根據本發明第四方面，提供了一種像素界定層的製備方法，其包括：
[0016] 在基板上形成一層親水性薄膜，並對其圖形化形成具有與各個子像素單元的發光 區域一一對應的多個第一開口的第一像素界定層；
[0017] 在形成有第一像素界定層的基板上形成一層疏水性薄膜，並對其圖形化形成具有 與所述多個第一開口 一一對應的多個第二開口的第二像素界定層。
[0018] 其中，所述在基板上形成一層親水性薄膜，並對其圖形化形成具有與各個像素單 元的發光區域一一對應的多個第一開口的第一像素界定層，具體為：
[0019] 採用旋塗法或滴塗法在基板上形成一層第一預設厚度的負性光阻膜；
[0020] 對所述負性光阻膠進行曝光顯影，形成與各個子像素單元的發光區域一一對應的 多個第一開口。
[0021] 其中，所述在形成有第一像素界定層的基板上形成一層疏水性薄膜，並對其圖形 化形成具有與所述多個第一開口 一一對應的多個第二開口的第二像素界定層，具體為：
[0022] 採用旋塗法或滴塗法在形成有第一像素界定層的基板上形成一層第二預設厚度 的正性光阻膜；
[0023] 對所述正性光阻膜進行曝光顯影，形成與所述多個第一開口一一對應的多個第二 開口。
[0024] 本發明針對製作有機電致發光器件的像素界定層時會產生有機發光材料收縮而 導致像素單元中的陰極和陽極短路的現象，或者產生陰極開路的現象，採用兩層像素界定 層即第一像素界定層和第二像素界定層構成限定各個像素單元的發光區域的像素界定層， 並且所述第一像素界定層採用親水性薄膜層，而第二像素界定層採用疏水性薄膜層。當在 第一像素界定層和第二像素界定層界定出的發光區域列印有機發光材料溶液後，由於所述 有機發光層的親水特性，其可以很好地附著在所述第一像素界定層上，充滿所述發光區域 的整個底部，不會在後續之製備了陰極後，由於有機發光層的收縮而產生陽極和陰極的短 路現象。此外，由於採用負性光阻膜形成第一像素界定層時，其上形成的多個第一開口的橫 截面通常為上窄下寬的正梯形狀，為避免在製備陰極時，出現陰極開路的線性，本發明通過 在第一像素界定層上形成具有疏水特性的第二像素界定層，第二像素界定層上形成與所述 多個第一開口 一一對應的多個第二開口，且第二開口的橫截面為上寬下窄的倒梯形狀。這 樣，就能很好的避免在有機發光層上方形成陰極時出現開路現象。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0025] 圖I (a)和圖I (b)是現有技術中有機電致發光器件的結構示意圖；
[0026] 圖2(a)是本發明中像素界定層的結構示意圖；
[0027] 圖2(b)是本發明中包括像素界定層的顯示面板的結構示意圖；
[0028] 圖3是本發明中像素界定層的製備方法流程圖；
[0029] 圖4(a)?⑷是本發明中像素界定層的製備工藝流程圖。
【具體實施方式】
[0030] 為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚明白，以下結合具體實施例，並參照 附圖，對本發明作進一步的詳細說明。
[0031] 圖2示出了本發明實施例提出的一種像素界定層的結構示意圖。如圖2所示，所 述像素界定層包括第一像素界定層202和層疊在所述第一像素界定層202之上的第二像素 界定層203 ;其中，所述第一像素界定層202具有與各個子像素單元的發光區域一一對應的 多個第一開口 204,所述第二像素界定層203具有與所述多個第一開口 204 -一對應的多個 第二開口 205,所述第一開口 204的橫截面呈上窄下寬的正梯形狀，所述第二開口 205的橫 截面呈上寬下窄的倒梯形狀。
[0032] 可選地，所述第一像素界定層202為親水性薄膜層，所述第二像素界定層203為疏 水性薄膜層。
[0033] 可選地，所述親水性薄膜層可以為負性光阻材料，所述疏水性薄膜層為正性光阻 材料。
[0034] 在0LED/PLED顯示面板中，像素界定層上形成的多個開口用於界定各個子像素單 元的發光區域，有機發光材料溶液會通過列印方式形成在所述發光區域內，因此像素界定 層能夠很好的避免不同顏色的子像素單元的有機發光材料混色的問題。
[0035] 通常，像素界定層可採用光阻材料實現，本發明針對利用光阻材料實現像素界定 層時會產生有機發光材料收縮而導致像素單元中的陰極和陽極短路的現象，或者產生陰極 開路的現象，採用兩層像素界定層即第一像素界定層202和第二像素界定層203構成限定 各個像素單元的發光區域的像素界定層，並且所述第一像素界定層202採用親水性薄膜 層，而第二像素界定層203採用疏水性薄膜層。當在第一像素界定層202和第二像素界定層 203界定出的發光區域列印有機發光材料溶液後，由於所述有機發光層的親水特性，其可以 很好地附著在所述第一像素界定層202上，充滿所述發光區域的整個底部，不會在後續之 製備了陰極後，由於有機發光層的收縮而產生陽極和陰極的短路現象。此外，由於採用負性 光阻膜形成第一像素界定層202時，其上形成的多個第一開口 204的橫截面通常為上窄下 寬的正梯形狀，為避免在製備陰極時，出現陰極開路的線性，本發明通過在第一像素界定層 202上形成具有疏水特性的第二像素界定層203,第二像素界定層203上形成與所述多個第 一開口 204 -一對應的多個第二開口 205,且第二開口 205的橫截面為上寬下窄的倒梯形 狀。這樣，就能很好的避免在有機發光層上方形成陰極時出現開路現象。
[0036] 可選地，所述第一像素界定層202形成在基板201上。
[0037] 可選地，所述第一像素界定層202的厚度小於所述第二像素界定層203的厚度。 所述第一像素界定層202上形成的多個第一開口 204主要是用於填充有機發光層材料，如 果第一像素界定層202的厚度太厚，以致大於有機發光層的厚度，這樣在形成陰極層時，同 樣由於陰極層可能會形成在上窄下寬的第一開口 204而出現開路現象。因此第一像素界定 層202的厚度最好小於或等於所述有機發光層的厚度，這樣陰極層只能形成在上寬下窄的 第二開口 205區域，不會出現開路。
[0038] 可選地，所述第一像素界定層202的厚度在2000Λ.-5000Α之間，其厚度可以在 曝光顯影形成多個第一開口 204後採用等離子灰化（Plasma Ashing)工藝來實現減薄。
[0039] 可選地，所述多個第一開口 204可以採用曝光顯影工藝形成。由於所述第一像素 界定層202採用親水性的負性光阻薄膜形成，在曝光顯影后，形成的第一開口 204的橫截面 通常為上窄下寬的正梯形狀。當然，所述第一像素界定層202採用其他親水性的材料形成 時，在某些的生長環境和參數下，形成的第一開口 204的橫截面也為上窄下寬的正梯形狀。
[0040] 可選地，所述第二像素界定層203的厚度在5000A?丨5000A之間。
[0041] 可選地，所述多個第二開口 205可採用曝光顯影工藝形成。由於所述第二像素界 定層203採用疏水性的正性光阻薄膜形成，在曝光顯影后，形成的第二開口 205的橫截面通 常為上寬下窄的倒梯形狀。
[0042] 顯示面板的製作中，在形成第一像素界定層202和第二像素界定層203後，可以在 第一開口 204區域列印有機發光材料溶液而形成有機發光層，由於所述有機發光材料溶液 具有親水特性，與具有親水性的第一像素界定層202有很好的結合力，因此可以填充滿整 個所述第一開口 204內部，從而避免了有機發光材料溶液的收縮造成的陰極與陽極的短路 現象。
[0043] 在製備形成有機發光層後，在其上蒸鍍金屬而形成陰極層。由於所述第二像素界 定層203上形成的第二開口 205為上寬下窄的倒梯形狀，因此有效避免了蒸鍍陰極金屬時 造成陰極開路的現象。
[0044] 本發明提出的上述方案，可以有效避免採用噴墨列印或噴嘴列印製作有機電致發 光顯示器件時出現的陰極與陽極的短路現象，以及陰極的開路現象。
[0045] 本發明還提出了一種顯示面板，其包括形成在基板上的如上所述的像素界定層。
[0046] 其中，所述第一像素界定層202的多個第一開口 204形成有各個子像素單元的有 機發光層，所述有機發光層的厚度等於或大於所述第一像素界定層202的厚度。如圖2(b) 所示，其中206為陽極層，207為發光層，208為陽極層。從圖上可以看出，本發明提出的這 種方案中，不存在陽極和陰極短路的現象，也不存在陰極開路的現象。
[0047] 圖3示出了本發明實施例提出的一種像素單元的製作方法流程圖。圖4(a)?（d) 示出了本發明實施例提出的一種像素單元的製作工藝流程圖。如圖3和4所示，該方法包 括：
[0048] 步驟301 :在基板上形成一層親水性薄膜，如圖4(a)所示，並對其圖形化形成具有 與各個子像素單元的發光區域一一對應的多個第一開口 204的第一像素界定層202,如圖 4(b)所示；
[0049] 可選地，所述基板可以玻璃基板或陣列基板。
[0050] 可選地，所述步驟301進一步包括：
[0051] 在所述基板上旋塗或滴塗一層第一預定厚度的負性光阻薄膜，所述第一預定厚度 可以根據實際情況確定，最好在2000A?5000A之間。當然，也可以在對其圖形化形成多個 第一開口 204後採用等離子灰化（Plasma Ashing)工藝減薄至2000A?5000A之間。
[0052] 在旋塗或滴塗完所述負性光阻薄膜後，對其進行曝光顯影，形成與各個子像素單 元的發光區域--對應的多個第一開口 204。
[0053] 由於所述第一像素界定層202採用負性光阻薄膜形成，因此對其曝光顯影形成的 多個第一開口 204的橫截面為上窄下寬的正梯形狀。
[0054] 步驟302 :在形成有第一像素界定層202的基板上形成一層疏水性薄膜，如圖4 (c) 所示，並對其圖形化形成具有與所述多個第一開口 204 -一對應的多個第二開口 205的第 二像素界定層203,如圖4(d)所示。
[0055] 可選地，所述步驟302進一步包括：
[0056] 採用旋塗法或滴塗法在形成有第一像素界定層202的基板上形成一層第二預設 厚度的正性光阻膜；
[0057] 對所述正性光阻膜進行曝光顯影，形成與所述多個第一開口 204 -一對應的多個 第二開口 205。
[0058] 由於所述第二像素界定層203採用正性光阻膜形成，因此對其曝光顯影形成的第 二開口 205的橫截面為上寬下窄的倒梯形狀。
[0059] 本發明另一實施例中，為了節省工藝，還可以在基板上依次形成親水性薄膜層和 疏水性薄膜層，然後一起對所述親水性薄膜層和疏水性薄膜層進行構圖工藝，形成親水性 薄膜層上的多個第一開口 204和疏水性薄膜層上的多個第二開口 205。
[0060] 利用本發明提出的上述方法製成的像素界定層，由於其採用親水性第一像素界定 層202和疏水性第二像素界定層203共同構成像素界定層，且第一像素界定層202上形成 了與各個子像素單元的發光區域一一對應的多個第一開口 204,第二像素界定層203上形 成了與第一開口 204 -一對應的第二開口 205。由於第一像素界定層202的親水特性，使 得親水性的有機發光材料溶液在第一像素界定層202的多個第一開口 204處比較容易展 開，能夠充滿第一開口 204,而避免出現陰極和陽極短路的現象；此外，由於第二像素界定 層203採用疏水性薄膜製成，在其上形成的第二開口 205為上寬下窄的倒梯形狀，故避免了 陰極開路的現象。
[0061] 以上所述的具體實施例，對本發明的目的、技術方案和有益效果進行了進一步詳 細說明，應理解的是，以上所述僅為本發明的具體實施例而已，並不用於限制本發明，凡在 本發明的精神和原則之內，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護 範圍之內。
【權利要求】
1. 一種像素界定層，其包括第一像素界定層和層疊在所述第一像素界定層之上的第二 像素界定層；其中，所述第一像素界定層具有與各個子像素單元的發光區域一一對應的多 個第一開口，所述第二像素界定層具有與所述多個第一開口 一一對應的多個第二開口，所 述第一開口的橫截面呈上窄下寬的正梯形狀，所述第二開口的橫截面呈上寬下窄的倒梯形 狀。
2. 如權利要求1所述的像素界定層，其中，所述第一像素界定層為親水性薄膜層，所述 第二像素界定層為疏水性薄膜層。
3. 如權利要求2所述的像素界定層，其中，所述親水性薄膜層為負性光阻膜層，所述疏 水性薄膜層為正性光阻膜層。
4. 如權利要求1-3任一項所述的像素界定層，其中，所述第一像素界定層的厚度小於 所述第二像素界定層的厚度。
5. 如權利要求4所述的像素界定層，其中，所述第一像素界定層的厚度在 2000A-5000A之間，所述第二像素界定層的厚度在5000人?15000A之間。
6. -種顯示面板，其包括形成在基板上的如權利要求1-5任一項所述的像素界定層。
7. 如權利要求6所述的顯示面板，其中，所述第一像素界定層的多個第一開口形成有 各個子像素單元的有機發光層，所述有機發光層的厚度等於或大於所述第一像素界定層的 厚度。
8. -種顯示裝置，其包括如權利要求6或7所述的顯示面板。
9. 一種像素界定層的製備方法，其包括： 在基板上形成一層親水性薄膜，並對其圖形化形成具有與各個子像素單元的發光區域 一一對應的多個第一開口的第一像素界定層； 在形成有第一像素界定層的基板上形成一層疏水性薄膜，並對其圖形化形成具有與所 述多個第一開口 一一對應的多個第二開口的第二像素界定層。
10. 如權利要求9所述的製備方法，其中，所述在基板上形成一層親水性薄膜，並對其 圖形化形成具有與各個像素單元的發光區域一一對應的多個第一開口的第一像素界定層， 具體為： 採用旋塗法或滴塗法在基板上形成一層第一預設厚度的負性光阻膜； 對所述負性光阻膠進行曝光顯影，形成與各個子像素單元的發光區域一一對應的多個 第一開口。
11. 如權利要求9所述的製備方法，其中，所述在形成有第一像素界定層的基板上形成 一層疏水性薄膜，並對其圖形化形成具有與所述多個第一開口一一對應的多個第二開口的 第二像素界定層，具體為： 採用旋塗法或滴塗法在形成有第一像素界定層的基板上形成一層第二預設厚度的正 性光阻膜； 對所述正性光阻膜進行曝光顯影，形成與所述多個第一開口一一對應的多個第二開 □。
【文檔編號】H01L51/52GK104393192SQ201410736128
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2014年12月4日 優先權日:2014年12月4日
【發明者】李旭遠 申請人:京東方科技集團股份有限公司