鈹青銅氧化膜清洗劑及其製備方法
2023-12-10 10:29:32
專利名稱：：鈹青銅氧化膜清洗劑及其製備方法
技術領域：
：本發明屬於金屬表面化學處理
技術領域：
，具體涉及鈹青銅氧化膜清洗劑及其製備方法。
背景技術：
：鈹青銅經過熱處理後不僅有高強度，很高的硬度而且具有耐磨、耐蝕的優點，被廣泛應用於製造各種模具、防爆安全工具、耐磨件如凸輪、齒輪、蝸輪、軸承等；高導電鑄造鈹銅合金，經熱處理後具有較高的導電率和導熱率，適用於製造開關零件，強接觸和類似的載流元件，製作電阻焊的夾鉗、電極材料和塑料模具、水電連鑄機結晶器內套等。鈹青銅的加工包括塑性加工和熱處理，鈹青銅只有經過熱處理後才能達到想要的性能，熱處理包括固溶熱處理、淬火、時效硬化處理。無論是塑性加工還是熱處理不可避免在鈹青銅表面形成氧化膜，氧化膜的厚度強度都對產品的性能產生影響。由於鈹青銅在加工過程中產生的氧化膜非常緻密，以及鈹青銅本身優良的耐蝕性，普通的酸洗很難將氧化膜去除，即使採用硫酸復配硝酸的方式，仍然難以獲得滿意的結果，如果酸洗時間過長或者硝酸等氧化性酸的濃度過高會對鈹青銅表面產生過腐蝕或者是孔蝕，嚴重影響鈹青銅的性能，同時硝酸濃度過高還會產生黃煙，危害工人的健康和對環境產生危害。傳統的鈹青銅的清洗劑大多採用硫酸復配六價鉻鹽(譬如重鉻酸鉀、重鉻酸鈉)浸泡式酸洗，然後再用硫酸復配鉻酐、磷酸光亮酸洗，但是從目前市面上鈹青銅產品的表面外觀來看，沒有達到理想的效果，同時六價鉻屬重度汙染品，對環境造成危害，給廢水處理帶來困難。
發明內容針對現有技術存在的問題，本發明的目的在於設計提供一種清洗效果好，汙染少且製備方法簡單的鈹青銅氧化膜清洗劑的技術方案。所述的鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於由下述重量百分含量的成分組成:硫酸20-50%;硝酸根離子2-20%;有機膦酸2-10%;滷素離子0.01-1%;水餘量。所述的鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於由下述重量百分含量的成分組成:硫酸25-45%;硝酸根離子5-15%;有機膦酸2-8%;滷素離子0.02-0.8%;水餘量。所述的鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於由下述重量百分含量的成分組成:硫酸30-40%;硝酸根離子5-10%;有機膦酸2-5%;滷素離子0.05-0.5%;餘量。所述的鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於由下述重量百分含量的成分組成:硫酸32-38%;硝酸根離子6-8%;有機膦酸3-4%;滷素離子0.1-0.3%;水餘量。所述的鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於所述的有機膦酸為羥基亞乙基二磷酸、2-羥基膦醯基乙酸、2-膦酸丁烷-1，2,4-三羧酸中的一種或一種以上的混合物。所述的鈹青銅氧化膜清洗劑的製備方法，其特徵在於包括以下工藝步驟(1)原料配比硫酸20-50%;硝酸根離子5-20%;有機膦酸2-10%;滷素離子0.01-1%;水餘量。(2)在配方量的有機磷酸中緩緩加入硫酸，充分攪拌，冷卻至室溫後，再加入硝酸，充分攪拌後，加入滷素離子，即得到鈹青銅氧化膜清洗劑。所述的鈹青銅氧化膜清洗劑的製備方法，其特徵在於步驟(1)中原料配比為硫酸25-45%;硝酸根離子5-15%;有機膦酸2-8%;滷素離子0.02-0.8%;水餘量。所述的鈹青銅氧化膜清洗劑的製備方法，其特徵在於步驟(1)中原料配比為硫酸30-40%;硝酸根離子5-10%;有機膦酸2-5%;滷素離子0.05-0.5%;水餘量。所述的鈹青銅氧化膜清洗劑的製備方法，其特徵在於步驟(1)中原料配比為硫酸32-38%;硝酸根離子6-8%;有機膦酸3-4%;滷素離子0.1-0.3%;水餘量。上述的鈹青銅氧化膜清洗劑，採用有機膦酸、硫酸、硝酸根離子、滷素離子復配體系，解決了鈹青銅氧化膜難以去除的問題，同時代替了傳統六價鉻的酸洗體系，減少了汙染，提高了酸洗效果，經本發明的清洗劑清洗後，鈹青銅表面平整光亮，提高了產品的性能和外觀。具體實施例方式以下通過具體實施例來進一步說明本發明。本發的清洗劑中各成分的重量百分比是以各成分的純物質的重量計算。本發明的清洗劑中硫酸是保證酸洗液的酸度；硝酸根離子是酸洗促進劑，可以以硝酸或者是硝酸金屬鹽的形式加入，其金屬鹽包括硝酸鈉、硝酸鉀、硝酸鋅；有機膦酸是緩蝕螯合劑，也可以以其金屬鹽的形式加入，其金屬鹽包括有機膦酸鈉鹽和鉀鹽；滷素離子是活化劑，以酸或者鹽的形式加入，包括HF、HCL、HBr或其鈉鹽鉀鹽，I以KI的形式加入。實施例l試驗片含BeO.36、Ni2.1、Cu97.5的鈹青銅合金，尺寸50mmxl00mmx0.95mm。實驗方法將試驗片經脫脂、水洗後浸入酸洗液10秒或30秒，然後取出水洗後觀察試驗片表面。其中脫脂液採用濃度為2%的漢高脫脂粉水溶液，脫脂溫度為60°C，評價符號◎〇△▲(好—差)表l組成浸漬時間(s)氧化膜去除情況光澤發明例HPM5%貼O認10〇△HNO掘KC10.4%30◎◎水(餘量)對比例貼0428%■35%10△▲鉻酐20%水(餘量)30△▲採用本發明的鈹青銅氧化膜清洗劑清洗30分鐘後，氧化膜去除效果，最後達到的光澤均優於用現有的清洗劑清洗的效果。實施例2試驗片、實驗方法、評價符號等同實施例1表2tableseeoriginaldocumentpage10採用本發明的鈹青銅氧化膜清洗劑清洗30分鐘後，氧化膜去除效果，最後達到的光澤均優於用現有的清洗劑清洗的效果。實施例3試驗片、實驗方法、評價符號等同實施例1表3tableseeoriginaldocumentpage10採用本發明的鈹青銅氧化膜清洗劑清洗30分鐘後，氧化膜去除效果，最後達到的光澤均優於用現有的清洗劑清洗的效果。實施例中清洗劑的組成採用硫酸20%、硝酸20%、羥基亞乙基二磷酸2%、滷素離子1%和水餘量；或硫酸50%、硝酸鉀20%、2-羥基膦醯基乙酸10%、滷素離子0.8%和水餘量；或硫酸25%、硝酸5%、2-膦酸丁垸-1，2，4-三羧酸8%、滷素離子0.05%和水餘量；或硫酸36%、硝酸鈉7%、2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸3%、滷素離子0.5%和水餘量；或硫酸20%、硝酸8%、2-羥基膦醯基乙酸2%、滷素離子0.05%和水餘量，其都能達到與實施例l相同的技術效果。實施例4鈹青銅氧化膜清洗劑的製備方法先將個成分進行配方，然後在配方量的有機磷酸中緩緩加入硫酸，充分攪拌，冷卻至室溫後，再加入硝酸金屬鹽的形式加入硝酸根離子，充分攪拌後，加入滷素離子，即得到鈹青銅氧化膜清洗劑。製備工藝具有操作非常簡單，無需大型的化工設備，生產中帶來的汙染少，生產成本低等特點。權利要求1.鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於由下述重量百分含量的成分組成硫酸20-50％；硝酸根離子2-20％；有機膦酸2-10％；滷素離子0.01-1％；水餘量。2.如權利要求1所述的鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於由下述重量百分含量的成分組成硫酸25-45%;硝酸根離子5-15%;有機膦酸2-8%;滷素離子0.02-0.8%;水餘量。3.如權利要求1所述的鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於由下述重量百分含量的成分組成硫酸30-40%;硝酸根離子5-10%;有機膦酸2-5%;滷素離子0.05-0.5%;水餘量。4.如權利要求1所述的鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於由下述重量百分含量的成分組成硫酸32-38%;硝酸根離子6-8%;有機膦酸3-4%;滷素離子0.1-0.3%;水餘量。5.如權利要求l所述的鈹青銅氧化膜清洗劑，其特徵在於所述的有機膦酸為羥基亞乙基二磷酸、2-羥基膦醯基乙酸、2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸中的一種或一種以上的混合物。6.如權利要求1所述的鈹青銅氧化膜清洗劑的製備方法，其特徵在於包括以下工藝步驟(1)原料配比硫酸20-50%;硝酸根離子5-20%;有機膦酸2-10%;滷素離子0.01-1%;水餘量。(2)在配方量的有機膦酸中緩緩加入硫酸，充分攪拌，冷卻至室溫後，再加入硝酸根離子，充分攪拌後，加入滷素離子，即得到鈹青銅氧化膜清洗劑。7.如權利要求6所述的鈹青銅氧化膜清洗劑的製備方法，其特徵在於步驟(1)中原料配比為硫酸25-45%;硝酸根離子5-15%;有機膦酸2-8%;滷素離子0.02-0.8%;水餘量。8.如權利要求6所述的鈹青銅氧化膜清洗劑的製備方法，其特徵在於步驟(1)中原料配比為硫酸30-40%;硝酸根離子5-10%;有機膦酸2-5%;滷素離子0.05-0.5%;水餘量。9.如權利要求6所述的鈹青銅氧化膜清洗劑的製備方法，其特徵在於步驟(1)中原料配比為硫酸32-38%;硝酸根離子6-8%;有機膦酸3-4%;滷素離子0.1-0.3%;全文摘要鈹青銅氧化膜清洗劑及其製備方法，屬於金屬表面化學處理
技術領域：
。鈹青銅氧化膜清洗劑由下述重量百分含量的成分組成硫酸20-50％、硝酸根離子2-20％、有機膦酸2-10％、滷素離子0.01-1％、水餘量。其製備方法(1)原料配比，(2)在配方量的有機磷酸中緩緩加入硫酸，充分攪拌，冷卻至室溫後，再加入硝酸，充分攪拌後，加入滷素離子，即得到鈹青銅氧化膜清洗劑。上述的鈹青銅氧化膜清洗劑，採用有機膦酸、硫酸、硝酸根離子、滷素離子復配體系，解決了鈹青銅氧化膜難以去除的問題，同時代替了傳統六價鉻的酸洗體系，減少了汙染，提高了酸洗效果，經本發明的清洗劑清洗後，鈹青銅表面平整光亮，提高了產品的性能和外觀。文檔編號C23G1/02GK101643910SQ200910102048公開日2010年2月10日申請日期2009年8月27日優先權日2009年8月27日發明者白瑞峰申請人:杭州百木表面技術有限公司