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一種立式真空鍍膜裝置製造方法

2023-12-11 08:09:52 1

一種立式真空鍍膜裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種立式真空鍍膜裝置,包括依次連接的進片預抽室、進片緩衝室、鍍膜室、出片緩衝室和出片預抽室,所述進片預抽室的兩端及出片預抽室的兩端均設有第一真空氣鎖,還包括孿生閥和第一抽氣機組,所述進片緩衝室和鍍膜室之間設有第二真空氣鎖,所述鍍膜室與出片緩衝室之間設有第三真空氣鎖,所述孿生閥的第一進氣口與進片緩衝室連接,所述孿生閥的第二進氣口與出片緩衝室連接,所述孿生閥的出氣口與第一抽氣機組連接。本實用新型提高了生產效率,而且穩定性好;且降低了設備製造成本,同時還節省了電量的消耗,從而降低生產成本,同時設備的安裝和維護方便。
【專利說明】一種立式真空鍍膜裝置

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及真空鍍膜設備,具體涉及一種立式真空鍍膜裝置。

【背景技術】
[0002]立式真空鍍膜裝置為玻璃生產中必不可少的設備。立式真空鍍膜裝置包括依次連接的進片預抽室、進片緩衝室、鍍膜室、出片緩衝室和出片預抽室,所述進片預抽室的兩端及出片預抽室的兩端均設有真空氣鎖,同時進片預抽室、進片緩衝室、鍍膜室、出片緩衝室和出片預抽室均連接有抽氣機組。立式真空鍍膜裝置的工作生產流程為:第一件待鍍膜工件進入進片預抽室,達到一定條件後,第一件待鍍膜工件進入進片緩衝室,同時第二件待鍍膜工件進入進片預抽室,等到第一件待鍍膜工件進入鍍膜室完成鍍膜併到達出片緩衝室後,第二件待鍍膜工件才能進入進片緩衝室,第三件待鍍膜工件進入進片預抽室,同時第一件已鍍膜工件離開出片緩衝室進入出片預抽室,最後第一件已鍍膜工件離開出片預抽室,完成一個鍍膜的工作周期。目前的立式連續真空鍍膜機雖可進行玻璃生產,但還存在以下缺陷:1、生產效率低,穩定性不強;2、耗電量大,增加了生產成本;3、結構複雜,安裝和維護均不方便。
實用新型內容
[0003]本實用新型的目的是為了克服以上現有技術存在的不足,提供了一種結構簡單、合理,生產效率高、耗電量小的立式真空鍍膜裝置。
[0004]本實用新型的目的通過以下的技術方案實現:本立式真空鍍膜裝置,包括依次連接的進片預抽室、進片緩衝室、鍍膜室、出片緩衝室和出片預抽室,所述進片預抽室的兩端及出片預抽室的兩端均設有第一真空氣鎖,還包括孿生閥和第一抽氣機組,所述進片緩衝室和鍍膜室之間設有第二真空氣鎖,所述鍍膜室與出片緩衝室之間設有第三真空氣鎖,所述進片緩衝室和出片緩衝室均通過孿生閥與第一抽氣機組連接。
[0005]優選的,所述孿生閥包括呈U形的閥主體、第一氣缸、第二氣缸、第一閥板、第二閥板和與第一抽氣機組連接的連接部,所述閥主體內的中部設有隔板,所述隔板將閥主體的閥腔分成左閥腔室和右閥室,所述左閥腔室與進片緩衝室連通,所述右閥室與出片緩衝室連通;所述左閥室設有與連接部相通的第一閥口,所述第一閥板蓋住第一閥口,且所述第一閥板與第一氣缸的活塞杆固定連接;所述右閥室設有與連接部相通的第二閥口,所述第二閥板蓋住第二閥口,且所述第二閥板與第二氣缸的活塞杆固定連接,所述第一氣缸和第二氣缸均安裝於閥主體的上面,所述連接部的上端連接於閥主體的下面。
[0006]優選的,所述閥主體的上面設有多張加強筋板,多張所述加強盤均勻分布於閥主體的上面。
[0007]優選的,所述第一真空氣鎖、第二真空氣鎖和第三真空氣鎖的結構相同。
[0008]優選的,所述鍍膜室的兩側內壁均設有多個鍍膜磁靶,且多個所述鍍膜磁靶於每側內壁均勻分布。
[0009]優選的,所述鍍膜室的兩側內壁的鍍膜磁靶的數量均為5個。
[0010]優選的,所述進片預抽室和出片預抽室均連接有第二抽氣機組。
[0011]優選的,所述進片預抽室內設有輸送機構,所述輸送機構包括主動帶輪、主動軸、從動帶輪、從動軸、輸送帶、可調節高度的第一安裝座和可調節高度的第二安裝座,所述主動帶輪通過主動軸安裝於第一安裝座,所述從動帶輪通過從動軸安裝於第二安裝座,所述第一安裝座和第二安裝座分別固定於進片預抽室的兩端;所述輸送帶的兩端分別與主動帶輪和從動帶輪連接。
[0012]優選的,所述第一安裝座包括2個可調節高度的第一支撐單元,2個所述第一支撐單元分別位於主動帶輪的兩側,所述主動帶輪安裝於主動軸的中部,所述主動軸的兩端分別安裝於2個第一支撐單元;
[0013]所述第一支撐單元包括第一軸承座、第一調節板和2條第一調節杆,所述第一軸承座固定於第一調節板的上面中間,所述第一調節杆的下端固定於進片預抽室的內底面,且2條第一調節杆分別位於主動軸的兩側,所述第一調節板的兩端分別套接於2條第一調節杆,每條第一調節杆設置有2個第一調節螺母,2個所述第一調節螺母夾持第一調節板;
[0014]所述第二安裝座包括2個可調節高度的第二支撐單元,2個所述第二支撐單元分別位於從動帶輪的兩側,所述從動帶輪安裝於從動軸的中部,所述從動軸的兩端分別安裝於2個第二支撐單元;
[0015]所述第二支撐單元包括第二軸承座、第二調節板和2條第二調節杆,所述第二軸承座固定於第二調節板的上面中間,所述第二調節杆的下端固定於進片預抽室的內底面,且2條第二調節杆分別位於從動軸的兩側,所述第二調節板的兩端分別套接於2條第二調節杆,每條第二調節杆設置有2個第二調節螺母,2個所述第二調節螺母夾持第二調節板。
[0016]優選的,所述的立式真空鍍膜裝置,還包括支承板,所述支承板的兩側分別固定於進片預抽室,且所述支承板的上面頂著輸送帶的送料部在的下面。
[0017]本實用新型相對於現有技術具有如下的優點:本立式真空鍍膜裝置增加了第一真空氣鎖和第二真空氣鎖等,與傳統的立式真空鍍膜裝置相比,在相同的工作周期內產能提高了 25%,提高了生產效率,而且穩定性好;本立式真空鍍膜裝置在增加第一真空氣鎖和第二真空氣鎖的情況下,進片緩衝室和出片緩衝室均通過孿生閥與第一抽氣機組連接,這減少使用一臺抽氣機組,降低了設備製造成本,同時還節省了電量的消耗,從而降低生產成本,同時設備的安裝和維護方便;本立式真空鍍膜裝置中的孿生閥結構簡單,安裝和維護都很方便;本立式真空鍍膜裝置中的進片預抽室採用了結構簡單的輸送機構,簡單了安裝方式,從而可壓縮進片預抽室的容積,大大縮短了抽真空的時間,進一步提高了生產效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1是本實用新型的立式真空鍍膜裝置的結構示意圖。
[0019]圖2是本實用新型的孿生閥的俯視圖。
[0020]圖3是圖2中A-A方向的剖視圖。
[0021]圖4是本實用新型的進片預抽室內的示意圖。
[0022]圖5是圖4中B-B方向的剖視圖。
[0023]圖6是圖4中C-C方向的剖視圖。

【具體實施方式】
[0024]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。
[0025]如圖1所示的立式真空鍍膜裝置,包括依次連接的進片預抽室1、進片緩衝室2、鍍膜室3、出片緩衝室4和出片預抽室5,所述進片預抽室I的兩端及出片預抽室5的兩端均設有第一真空氣鎖6,還包括孿生閥7和第一抽氣機組8,所述進片緩衝室2和鍍膜室3之間設有第二真空氣鎖9,所述鍍膜室3與出片緩衝室4之間設有第三真空氣鎖10,所述進片緩衝室2和出片緩衝室4均通過孿生閥7與第一抽氣機組8連接。
[0026]所述孿生閥7包括呈U形的閥主體71、第一氣缸72、第二氣缸73、第一閥板74、第二閥板75和與第一抽氣機組8連接的連接部76,所述閥主體71內的中部設有隔板77,所述隔板77將閥主體71的閥腔分成左閥腔室711和右閥室712,所述左閥腔室711與進片緩衝室2連通,所述右閥室712與出片緩衝室4連通;所述左閥室711設有與連接部76相通的第一閥口 7111,所述第一閥板74蓋住第一閥口 7111,且所述第一閥板74與第一氣缸72的活塞杆固定連接;所述右閥室712設有與連接部76相通的第二閥口 7121,所述第二閥板75蓋住第二閥口 7121,且所述第二閥板75與第二氣缸73的活塞杆固定連接,所述第一氣缸72和第二氣缸73均安裝於閥主體71的上面,所述連接部76的上端連接於閥主體71的下面。
[0027]所述閥主體71的上面設有多張加強筋板78,多張所述加強盤78均勻分布於閥主體71的上面。
[0028]所述第一真空氣鎖6、第二真空氣鎖9和第三真空氣鎖10的結構相同。
[0029]所述鍍膜室3的兩側內壁均設有多個鍍膜磁靶11,且多個所述鍍膜磁靶11於每側內壁均勻分布。
[0030]所述鍍膜室3的兩側內壁的鍍膜磁靶11的數量均為5個。
[0031]所述進片預抽室2和出片預抽室5均連接有第二抽氣機組12。
[0032]所述進片預抽室2內設有輸送機構13,所述輸送機構13包括主動帶輪131、主動軸132、從動帶輪133、從動軸134、輸送帶135、可調節高度的第一安裝座136和可調節高度的第二安裝座137,所述主動帶輪131通過主動軸132安裝於第一安裝座136,所述從動帶輪133通過從動軸134安裝於第二安裝座137,所述第一安裝座136和第二安裝座137分別固定於進片預抽室2的兩端;所述輸送帶135的兩端分別與主動帶輪131和從動帶輪133連接。所述第一安裝座136固定於進片預抽室2的出料端,所述第二安裝座137固定於進片預抽室2的進料端。
[0033]所述第一安裝座136包括2個可調節高度的第一支撐單元,2個所述第一支撐單元分別位於主動帶輪131的兩側,所述主動帶輪131安裝於主動軸132的中部,所述主動軸132的兩端分別安裝於2個第一支撐單元。
[0034]所述第一支撐單元包括第一軸承座1361、第一調節板1362和2條第一調節杆1363,所述第一軸承座1361固定於第一調節板1362的上面中間,所述第一調節杆1363的下端固定於進片預抽室I的內底面,且2條第一調節杆1363分別位於主動軸132的兩側,所述第一調節板1362的兩端分別套接於2條第一調節杆1363,每條第一調節杆1363設置有2個第一調節螺母1364,2個所述第一調節螺母1364夾持第一調節板1362。
[0035]所述第二安裝座137包括2個可調節高度的第二支撐單元,2個所述第二支撐單元分別位於從動帶輪133的兩側,所述從動帶輪133安裝於從動軸134的中部,所述從動軸134的兩端分別安裝於2個第二支撐單元。
[0036]所述第二支撐單元包括第二軸承座1371、第二調節板1372和2條第二調節杆1373,所述第二軸承座1371固定於第二調節板1372的上面中間,所述第二調節杆1373的下端固定於進片預抽室I的內底面,且2條第二調節杆1373分別位於從動軸134的兩側,所述第二調節板1372的兩端分別套接於2條第二調節杆1373,每條第二調節杆1373設置有2個第二調節螺母1374,2個所述第二調節螺母1374夾持第二調節板1372。
[0037]總體的第一軸承座1361和第二軸承座1371的結構相同,主要由軸承和底架構成,可直接自市場中進行購買。
[0038]所述的立式真空鍍膜裝置,還包括支承板,所述支承板的兩側分別固定於進片預抽室,且所述支承板的上面頂著輸送帶的送料部在的下面。
[0039]上述【具體實施方式】為本實用新型的優選實施例,並不能對本實用新型進行限定,其他的任何未背離本實用新型的技術方案而所做的改變或其它等效的置換方式,都包含在本實用新型的保護範圍之內。
【權利要求】
1.一種立式真空鍍膜裝置,包括依次連接的進片預抽室、進片緩衝室、鍍膜室、出片緩衝室和出片預抽室,所述進片預抽室的兩端及出片預抽室的兩端均設有第一真空氣鎖,其特徵在於:還包括孿生閥和第一抽氣機組,所述進片緩衝室和鍍膜室之間設有第二真空氣鎖,所述鍍膜室與出片緩衝室之間設有第三真空氣鎖,所述進片緩衝室和出片緩衝室均通過孿生閥與第一抽氣機組連接。
2.根據權利要求1所述的立式真空鍍膜裝置,其特徵在於:所述孿生閥包括呈U形的閥主體、第一氣缸、第二氣缸、第一閥板、第二閥板和與第一抽氣機組連接的連接部,所述閥主體內的中部設有隔板,所述隔板將閥主體的閥腔分成左閥腔室和右閥室,所述左閥腔室與進片緩衝室連通,所述右閥室與出片緩衝室連通;所述左閥室設有與連接部相通的第一閥口,所述第一閥板蓋住第一閥口,且所述第一閥板與第一氣缸的活塞杆固定連接;所述右閥室設有與連接部相通的第二閥口,所述第二閥板蓋住第二閥口,且所述第二閥板與第二氣缸的活塞杆固定連接,所述第一氣缸和第二氣缸均安裝於閥主體的上面,所述連接部的上端連接於閥主體的下面。
3.根據權利要求2所述的立式真空鍍膜裝置,其特徵在於:所述閥主體的上面設有多張加強筋板,多張所述加強盤均勻分布於閥主體的上面。
4.根據權利要求1所述的立式真空鍍膜裝置,其特徵在於:所述第一真空氣鎖、第二真空氣鎖和第三真空氣鎖的結構相同。
5.根據權利要求1所述的立式真空鍍膜裝置,其特徵在於:所述鍍膜室的兩側內壁均設有多個鍍膜磁靶,且多個所述鍍膜磁靶於每側內壁均勻分布。
6.根據權利要求5所述的立式真空鍍膜裝置,其特徵在於:所述鍍膜室的兩側內壁的鍍膜磁靶的數量均為5個。
7.根據權利要求1所述的立式真空鍍膜裝置,其特徵在於:所述進片預抽室和出片預抽室均連接有第二抽氣機組。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的立式真空鍍膜裝置,其特徵在於:所述進片預抽室內設有輸送機構,所述輸送機構包括主動帶輪、主動軸、從動帶輪、從動軸、輸送帶、可調節高度的第一安裝座和可調節高度的第二安裝座,所述主動帶輪通過主動軸安裝於第一安裝座,所述從動帶輪通過從動軸安裝於第二安裝座,所述第一安裝座和第二安裝座分別固定於進片預抽室的兩端;所述輸送帶的兩端分別與主動帶輪和從動帶輪連接。
9.根據權利要求8所述的立式真空鍍膜裝置,其特徵在於:所述第一安裝座包括2個可調節高度的第一支撐單元,2個所述第一支撐單元分別位於主動帶輪的兩側,所述主動帶輪安裝於主動軸的中部,所述主動軸的兩端分別安裝於2個第一支撐單元; 所述第一支撐單元包括第一軸承座、第一調節板和2條第一調節杆,所述第一軸承座固定於第一調節板的上面中間,所述第一調節杆的下端固定於進片預抽室的內底面,且2條第一調節杆分別位於主動軸的兩側,所述第一調節板的兩端分別套接於2條第一調節杆,每條第一調節杆設置有2個第一調節螺母,2個所述第一調節螺母夾持第一調節板; 所述第二安裝座包括2個可調節高度的第二支撐單元,2個所述第二支撐單元分別位於從動帶輪的兩側,所述從動帶輪安裝於從動軸的中部,所述從動軸的兩端分別安裝於2個第二支撐單元; 所述第二支撐單元包括第二軸承座、第二調節板和2條第二調節杆,所述第二軸承座固定於第二調節板的上面中間,所述第二調節杆的下端固定於進片預抽室的內底面,且2條第二調節杆分別位於從動軸的兩側,所述第二調節板的兩端分別套接於2條第二調節杆,每條第二調節杆設置有2個第二調節螺母,2個所述第二調節螺母夾持第二調節板。
10.根據權利要求8所述的立式真空鍍膜裝置,其特徵在於:還包括支承板,所述支承板的兩側分別固定於進
片預抽室,且所述支承板的上面頂著輸送帶的送料部在的下面。
【文檔編號】C23C14/56GK203976906SQ201420358294
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年6月30日 優先權日:2014年6月30日
【發明者】蘇貴方 申請人:肇慶市大力真空設備有限公司

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