一種渦旋壓縮機軸向雙浮動結構的製作方法
2023-12-10 16:26:02
專利名稱：一種渦旋壓縮機軸向雙浮動結構的製作方法
技術領域：
本發明涉及壓縮機，尤其涉及渦旋壓縮機軸向雙浮動結構。
背景技術：
現有的渦旋式壓縮機的軸向浮動結構多數為靜渦盤軸向浮動、動渦盤軸向浮動(如圖I所示)及非浮動，採用動渦盤和靜渦盤齒頂密封圈結構(如圖2所示)。對應靜渦 盤軸向浮動和動渦盤軸向浮動結構的動、靜渦盤，一般靜渦盤齒頂與動渦盤齒底直接接觸配合，由於渦旋心部與外部溫度不同，通常對動、靜渦盤齒高或齒底進行修正，同時相配合的動靜渦盤的齒高配合精度高，一般通過選配或提高加工精度的方法來實現，加工經濟性不良。另外在特殊エ況有可能會造成動靜渦盤齒頂與齒底的磨損，這種磨損是不可逆的，磨損後造壓縮機內漏増大，造成壓縮機效率的降低。而對應非浮動，採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構，為了防止動靜渦盤的咬合卡死現象發生，動、靜渦盤齒頂與齒底兩處均為間隙配合，熱間隙為近百微米，這就造成渦旋洩漏増大，會造成壓縮機效率的降低。
發明內容
本發明的目的，就是為了提供一種可以有效的減小動靜渦盤齒頂與齒底的間隙，又可以降低動靜渦盤齒高配合精度，改善渦盤的加工經濟性的渦旋壓縮機軸向雙浮動結構。為了達到上述目的，本發明採用了以下技術方案一種渦旋壓縮機軸向雙浮動結構，其特徵在於，該渦旋壓縮機採用靜渦盤軸向浮動結構或動渦盤軸向浮動結構，同時在動渦盤和靜渦盤齒頂設置密封槽，放入密封圈，並使動靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合。所述的間隙配合的間隙大於渦盤齒熱膨脹的伸長量，小於非浮動、採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構的動靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙。所述的渦盤齒熱膨脹的伸長量為10 30微米。所述的非浮動、採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構的動靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙為40 150微米。與現有技術相比，本發明是靜渦盤軸向浮動結構和動渦盤、靜渦盤齒頂密封圈結構的組合或動渦盤軸向浮動結構和動渦盤、靜渦盤齒頂密封圈結構的組合。通過這個結構使動或靜渦盤軸向浮動，這種結構既可以有效的減小動靜渦盤齒頂與齒底的間隙，又可以降低動靜渦盤齒高配合精度，改善渦盤的加工經濟性。
圖I是現有動盤軸向浮動結構剖視圖；圖2是現有動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構剖視圖；圖3是本發明軸向雙浮動結構剖視圖。
圖中1-靜渦盤、2-動渦盤、3-背壓腔密封圏、4-支架、5-曲軸、6_齒頂密封圏、7_浮動間隙、8-間隙。
具體實施例方式實施例I如圖3所示，一種渦旋壓縮機軸向雙浮動結構，包括靜渦盤I、動渦盤2、背壓腔密封圈3、支架4、曲軸5、齒頂密封圈6、齒頂密封圈9，靜渦盤I和動渦盤2設置在支架4上，靜渦盤I位於動渦盤2上方，靜渦盤I的齒朝下與動渦盤2的朝上的齒相匹配，在靜渦盤I的齒頂設有齒頂密封圈6，動渦盤2的齒頂設有齒頂密封圈9，動渦盤2的齒頂與靜渦盤I齒底之間設有很小的間隙8 ;靜渦盤I的齒頂與動渦盤2的齒底之間設有很小的間隙10。動渦盤2設置在支架4上，動渦盤2與支架4之間形成浮動間隙7，動渦盤2與支架4之間設有背壓腔密封圈3。該渦旋壓縮機採用動渦盤軸向浮動結構，同時在動、靜渦盤齒頂設置密封槽，放入密封圈，並使動靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合，間隙大於渦盤齒熱膨脹的伸長量，小於非浮動、採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構的動靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙，所述的渦盤齒熱膨脹的伸長量為10微米，所述的非浮動、採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構的動靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙為40微米，即配合間隙大於10微米，小於40微米。通過這個結構使動或靜渦盤軸向浮動，這種結構既可以有效的減小動靜渦盤齒頂與齒底的間隙，又可以降低動靜渦盤齒高配合精度，改善渦盤的加工經濟性。實施例2參見圖3，一種渦旋壓縮機軸向雙浮動結構，該渦旋壓縮機採用靜渦盤軸向浮動結構，同時在動、靜渦盤齒頂設置密封槽，放入密封圈，並使動靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合，間隙大於渦盤齒熱膨脹的伸長量，小於非浮動、採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構的動靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙，所述的渦盤齒熱膨脹的伸長量為30微米，所述的非浮動、採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構的動靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙為 150微米，即配合間隙大於30微米，小於150微米。(其餘同實施例I)。
權利要求
1.一種渦旋壓縮機軸向雙浮動結構，其特徵在於，該渦旋壓縮機採用靜渦盤軸向浮動結構或動渦盤軸向浮動結構，同時在動渦盤和靜渦盤齒頂設置密封槽，放入密封圈，並使動靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合。
2.根據權利要求I所述的渦旋壓縮機軸向雙浮動結構，其特徵在於，所述的間隙配合的間隙大於渦盤齒熱膨脹的伸長量，小於非浮動、採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構的動靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙。
3.根據權利要求2所述的渦旋壓縮機軸向雙浮動結構，其特徵在於，所述的渦盤齒熱膨脹的伸長量為10 30微米。
4.根據權利要求2所述的渦旋壓縮機軸向雙浮動結構，其特徵在於，所述的非浮動、採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構的動靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙為40 150微米。
全文摘要
本發明提供了一種渦旋壓縮機軸向雙浮動結構，該渦旋壓縮機採用靜渦盤軸向浮動結構或動渦盤軸向浮動結構，同時在動渦盤和靜渦盤齒頂設置密封槽，放入密封圈，並使動、靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合，間隙大於渦盤齒熱膨脹的伸長量，小於非浮動、採用動渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結構壓縮機的動靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙。與現有技術相比，本發明可以有效的減小動靜渦盤齒頂與齒底的洩漏，又可以降低動靜渦盤齒高配合精度，改善渦盤的加工經濟性。
文檔編號F04C18/02GK102678564SQ201110056558
公開日2012年9月19日 申請日期2011年3月9日 優先權日2011年3月9日
發明者宋雪峰, 楊軍, 牟英濤 申請人:上海日立電器有限公司