透明導電性疊層體及使用該疊層體的透明觸摸面板的製作方法

2023-06-21 05:05:51

專利名稱：：透明導電性疊層體及使用該疊層體的透明觸摸面板的製作方法
技術領域：
：本發明涉及透明導電性疊層體及使用它的透明觸摸面板。更詳細地說，涉及在有機高分子薄膜的一個面上具有光學幹涉層，適合於用作具有筆記耐久性可靠性高的觸摸面板的透明導電性疊層體及使用該疊層體的透明觸摸面板。
背景技術：
：近年來，信息顯示終端及裝栽信息輸入用的透明觸摸面板的可攜式信息終端開始廣泛普及。作為透明觸摸面板大多利用電阻膜方式的透明觸摸面板，用透明導電層形成的兩個透明電極基板以約10(im100pm的間隔相對地構成，兩個電極僅在施加外力的部分接觸，作為開關進行動作，例如，可以進行顯示畫面上的菜單選擇，圖形、文字輸入等。現有技術的透明觸摸面板由於光線透射率不是很高，所以，設置在透明觸摸面板下面的顯示畫面大多較暗。因此，有人嘗試通過在有機高分子膜與透明導電層之間形成光學幹涉層使透明電極基板的透射率提高，以期提高顯示畫面的亮度。作為光學幹涉層的形成方法，有利用真空蒸鍍及濺射法等真空制膜工藝形成低折射率層與高折射率層的方法，以及，形成由烷氧基矽烷、烷氧基鈦或者烷氧基鋯的水解以及縮合聚合構成的層，通過將它們組合形成光學幹涉層的方法。但是，前者通過使用真空制膜工藝能夠形成透射率良好的透明電極基板，但存在著難以確保透明觸摸面板所需的筆記耐夂性的問題。此外，通過使用真空制膜工藝，製造成本高且不適合於大量生產。後者，由於不採用真空制膜工藝利用塗布工藝進行加工，在成本方面是有利的。但是，在採用完全不含有在塗布工藝中形成的微粒子的現有技術的光學幹涉層的透明電極基板中，在筆記耐久性試驗時，在光學幹涉層中的將烷氧基鈦或者烷氧基鋯水解縮合聚合形成的層很容易被破壞，所以不能確保作為透明導電性疊層體及透明觸摸面板的可靠性。此外，在同時使用兩種工藝的場合，也難以確保對透明觸摸面板所要求的筆記耐久性。本發明的第一個目的是，獲得能夠以有利的成本形成光學幹涉層，並且具有優異的透明性，同時相對於透明觸摸面板所要求的筆記耐久性等能夠確保高的可靠性的透明導電性疊層體及透明觸摸面板。此外，當透明觸摸面板的模糊度變高時，顯示畫面的顯示質量降低。通過將透明導電層的表面平坦化，降低模糊度，能夠提高顯示畫面的質量，但是，眾所周知，在可動電極基板(輸入側的透明電極基板)的透明導電層表面與固定電極基板(與可動電極基板對向側的透明電極基板)的透明導電層表面都極為平坦時，將這些可動電極基板和固定電極基板組合製作的透明觸摸面板會引起誤動作。即，會出現當將透明觸摸面板上的某一點A用筆推壓直到可動電極基板和固定電極基板兩個透明導電層的表面彼此接觸為止，然後使筆移動到另外一點B處之後，在點A處，可動電極基板與固定電極基板的兩個透明導電層表面彼此之間仍然保持接觸的狀態不變的現象，或者會出現在A點處脫離可動電極基板與固定電極基板的兩個透明導電層表面彼此接觸的狀態需要花費較長的時間的現象。這種透明觸摸面板的誤動作，是由可動電極基板與固定電極基板的兩個透明導電層表面彼此之間的粘結在一起的現象引起的。作為避免這種可動電極基板、固定電極基板的兩個透明導電層表面彼此之間粘結在一起的現象引起的透明觸摸面板的誤動作的手段，有通過在固化樹脂層中添加微粒子使透明導電層表面粗化的方法(例如，特開平8-216327號公報)。由於在這種情況下添加到固化樹脂層中的微粒子的平均一次粒子直徑必須大於固化樹脂層的膜厚，所以，通常，其平均一次粒子直徑為2nm以上。當把利用這樣通過將平均一次粒子直徑比固化樹脂層膜厚大的微粒子添加到固化樹脂層將透明導電層表面粗化的透明導電性疊層體的透明觸摸面板設置在高清晰彩色液晶畫面上時，在經由透明觸摸面板觀察液晶畫面時，顯示畫面會閃耀，顯示等級降低。這是因為固化樹脂層中的微粒子的平均一次粒子直徑大、透過液晶面板的RGB三原色光透過固化樹脂層時被散射的緣故。如果添加到固化樹脂層中的微粒子的平均一次粒子小於固化樹脂層的膜厚的話，不會閃耀刺眼，但所添加的微粒子埋沒在固化樹脂層中，實質上形成了平坦的固化樹脂層，不能防止可動電極基板、固定電極基板的兩個透明導電層表面彼此之間的粘結現象引起的透明觸摸面板的誤動作。這樣，在通過向構成透明導電性疊層體的固化樹脂層中添加微粒子將透明導電層表面粗化的方法中，存在著經由透明觸摸面板觀察時的高清晰彩色液晶畫面的顯示等級降低的問題。本發明的笫二個目的是提供一種在把透明觸摸面板設置在高清晰彩色液晶畫面上的狀態下，經由透明觸摸面板觀察液晶畫面時，液晶畫面的顯示等級優異的透明導電性疊層體。
發明內容(1)一種透明導電性疊層體，在把透明導電層疊層在有機高分子膜上的透明導電性疊層體中，其特徵為，在有機高分子膜的至少一個面上依次疊層光學幹涉層、透明導電層，光學幹涉層由高折射率層和低折射率層構成，並且所述低折射率層與透明導電層連接，高折射率層及低折射率層由交聯聚合物構成，並且，高折射率層及低折射率層至少其中之一含有一次粒子直徑在100nm以下的金屬氧化物及/或金屬氟化物的超微粒子。(2)如上述(1)中所述的透明導電性疊層體，作為前述金屬氧化物/或金屬氟化物，使用Al203，Bi203，Ce02，ln203，ln203'Sn02,訓2，La203，MgF2，Sb205，Sb205SnO"Si02，Sn02,Ti02，Y203，ZnO及Zr02構成的組中選擇出來的至少一種。(3)如上述(1)(2)所述的透明導電性疊層體，高折射率層及低折射率層的至少其中之一的交聯聚合物，是將烷氧基金屬水解並且縮合聚合形成。(4)如上述(3)所述的透明導電性疊層體，前述超微粒子和前述烷氧基金屬的重量比為5:95~80:20。(5)如上述(4)所述的透明導電性疊層體，前述高折射率層通過把前述重量比為5:95~80:20的超微粒子和前述烷氧基金屬構成的混合物水解並縮合聚合形成。(6)如上述(3)所述的透明導電性疊層體，前述高折射率層通過把前述重量比為l:99~60:40的超微粒子和前述烷氧基金屬構成的混合物水解並縮合聚合形成，前述烷氧基金屬以除烷氧基矽烷之外的烷氧基金屬為主成分。(7)如上述(1)所述的透明導電性疊層體，前述高折射率層由前述超微粒子和前述熱固化型樹脂或者放射線固化型樹脂的重量比為5:95~80:20的混合物構成。(8)如上述(1)(2)所迷的透明導電性疊層體，高折射率層及低折射率層的至少其中之一的前述交聯聚合物是熱固化型樹脂或者放射線固化型樹脂。(9)如上述(1)~(8)所述的透明導電性疊層體，高折射率層與低折射率層的折射率之差在O.2以上。(10)如上述(1)~(9)所述的透明導電性疊層體，在前述高折射率層與前述低折射率層的至少其中之一內，舍有平均一次粒子直徑在該光學幹涉層的膜厚的l.l倍以上、且平均一次粒子直徑在l.2pm以下的笫二種微粒子，前述第二種微粒子的含量在形成含有該第二種微粒子的高折射率及/或低折射率層的交聯聚合物成分的O.5重量％以下。(11)如上述(1)~(10)所述的透明導電性疊層體，在前述有機高分子膜與前述光學幹涉層之間具有固化樹脂層。(12)如上述(1)-(11)所述的透明導電性疊層體，前述固化樹脂層由熱固化型樹脂或者放射線固化型樹脂構成，且膜厚為2~5拜。(13)如上述(11)(12)所述的透明導電性疊層體，前述固化樹脂含有第三種微粒子。(14)如上述(1)所述的透明導電性疊層體，前述高折射率層將由前述超微粒子和烷氧基金屬構成的混合物水解並縮合聚合形成，前述烷氧基金屬以除烷氧基矽烷之外的烷氧基金屬為主成分，低折射率層通過水解烷氧基矽烷並縮合聚合形成，前述超微粒子為Ti02，前述第三種微粒子為二氧化矽粒子。(15)如上述(1)~(14)所述的透明導電性疊層體，在與前述有機高分子膜的前述光學幹涉層相反側的面上，經由楊氏模量比該有機高分子膜小的透明彈性層疊層透明基體材料，(16)—種透明導電性疊層體，在有機高分子膜上疊層有透明導電層的透明導電性疊層體中，其特徵為，在有機高分子膜的至少一個面上依次疊層光學幹涉層、透明導電性層，光學幹涉層由高折射率層及低折射率層構成，且該低折射率層與透明導電層連接，前述光學幹涉層由交聯聚合物構成，在前述高折射率層與前述低折射率層的至少一個內含有平均一次粒子直徑在該光學幹涉層的膜厚的l.l倍以上、且平均一次粒子直徑在l.2pm以下的微粒子B，前述微粒子B的含量在形成含有該微粒子B的高折射率層及/或低折射率層的交聯聚合物成分的O.5重量％以下。(17)如上述(16)所述的透聽導電性疊層體，交聯聚合物通過將烷氧基金屬水解並縮合聚合形成或者是熱固化型或放射線固化型樹脂。(18)如上述(16)(17)所述的透明導電性疊層體，高折射率層及低折射率層的至少其中之一，以(超微粒子A):(交聯聚合物)的重量比為O:100^80:20的比例含有平均一次粒子直徑在100nm以下的超孩i粒子A。(19)如上述(18)所述的透明導電性疊層體，前述高折射率層由前述超微粒子A與前述熱固化性樹脂或者放射線固化性樹脂的重量比為5:95~80:20的混合物構成。(20)如上述(16)~(19)所述的透明導電性疊層體，在前述有機高分子膜與前述光學幹涉層之間具有固化樹脂層。(21)如上述(20)所述的透明導電性疊層體，前述固化樹脂層由熱固化型樹脂或放射線固化型樹脂構成，且膜厚為2~5pm。(22)如上述(20)(21)所述的透明導電性疊層體，前述固化樹脂層不含有比該固化樹脂層的厚度大的微粒子。(23)如上述(16)所述的透明導電性疊層體，前述高折射率層通過將前述微粒子B和烷氧基金屬構成的混合物水解並縮合聚合形成，前述烷氧基金屬以除烷氧基矽烷之外的金屬醇為主成分，低折射率層通過將烷氧基矽烷水解並縮合聚合形成，前述微粒子B是二氧化矽。(24)如上述(16)~(23)所述的透明導電性疊層體，在與前述有機高分子膜的前述光學幹涉層相反側的面上，經由比該有機高分子膜的楊氏模量小的透明彈性層疊層透明基體材料。(25)—種透明觸摸面板，在將至少一個面上設置透明導電成的觸摸面板中，;特徵為，至少其中一個透明電極基板採用上述(1)~(24)所述的透明導電性疊層體。(26)如上述(25)所述的透明觸摸面板，其特徵為，可動電極基板及固定電極基板兩者採用前述透明導電性疊層體。圖1A及1B是本發明的透明導電性疊層體的結構例。圖2是本發明的另外一種透明導電性疊層體的結構例。圖3是觸摸面板的模式圖。圖4是將觸摸面板安裝到液晶裝置上的結構例。圖5及圖6是實施例的觸摸面板的模式圖。具體實施例方式本發明的透明導電性疊層體，在有機高分子膜的至少一個面上依次疊層光學幹涉層，透明導電層。圖1A及1B表示本發明的透明導電性疊層體的結構例。在圖1A及1B中，在有機高分子膜的1的一個面上依次形成固化樹脂層2(只表示在圖2B中)，作為光學幹涉層的高折射率層3及低折射率層4，透明導電層5，在有機高分子膜1的另一個面上形成固化樹脂層6。在本發明的透明導電性疊層體中，固化樹脂層2不是必須的(圖1A)，但最好是形成該層(圖1B)。本發明的透明導電性疊層體是以調整折射率、或者是將表面粗化為目的，其特徵為，在光學幹涉層中添加特定粒徑的特定微粒子，優選地，是以特定的添加量添加。9(1)光學幹涉層本發明的光學幹涉層由高折射率層與低折射率層構成，該低折射率層與透明導電層連接。這些高折射率層和低折射率層均由交聯聚合物構成，其中的至少一個內含有如上面所述的微粒子。作為用於本發明的交聯聚合物，除將烷氧基金屬水解並縮合聚合構成的交聯聚合物之外，也可以使用熱固化性樹脂及發射線固化性樹脂的交聯聚合物。(la)烷氧基金屬水解並縮合聚合構成的交聯聚合物在將烷氧基金屬水解並縮合聚合構成的交聯聚合物中，從機械強度和穩定性，與透明導電層及基板等的緊密性優異等觀點出發，優選地使用通過水解烷氧基鈦，烷氧基鋯以及烷氧基矽烷並縮合聚合構成的交聯聚合物。作為烷氧基鈦，例如，可以列舉出四異丙醇鈦，4-n-丙基-原鈦酸酯，4-n-丁醇鈦，4(2-乙基己基羥基)鈦酸酯等，此外作為烷氧基鋯，可以列舉出四異丙醇鋯，4-n-丁醇鋯等。作為烷氧基矽烷，例如可以列舉出四甲氧基矽烷，四乙氧基矽烷，甲基三甲氧基矽烷，甲基三乙氧基矽烷，二甲基二甲氧基矽烷，r"縮水甘油基丙基三甲氧基矽烷，p-(3，4環氧環己基)乙氧基三甲基矽烷，乙烯基三甲氧基矽烷，N-p(氨基乙基)廣氨基丙基三甲氧基矽烷，N-p(氨基乙基)廣氨基丙基曱基二甲氧基矽烷，廣氨基丙基三乙氧基矽烷等.在大多數情況下，這些烷氧基矽根據需要，從層的機械強度及緊密性和耐溶劑性的角度出發，優選地，將兩種以上混合使用，特別是，烷氧基矽在整個組分中，其重量比在O.5~60%的範圍內，更優選地在O.5~40%的範圍內，優選地，含有在分子內具有氨基的烷氧基矽。這些烷氧基金屬，可以用單體，也可以使用進行預先水解和脫水縮合適當地齊聚化的醇鹽，通常，將溶解在適當的有機溶媒中並進行稀釋的塗布液塗布到下層上。形成在下層上的塗布膜，由空氣中的水分等水解，接著進行脫水縮合聚合。一般地，為了促進縮合聚合，需要適當的加熱處理，優選地，在塗布法的工藝過程中，在100'C以上的溫度進行幾分鐘的加熱處理。此外，根據情況的不同，與前述熱處理並行地，通過將紫外線等活性光線照射到塗布膜上，可以進一步提高交聯度。作為稀釋溶劑，可以使用醇類，碳水化合物類溶劑，例如，合適的有，乙醇，2-丙醇，丁醇，2-甲基-1-丙醇，1-甲氧基-2-丙醇，己烷，環己烷，石油醚等，除此之外，也可以使用二甲苯，甲苯，環己酮，甲基.異丁基酮，乙酸異丁酯等極性溶媒。它們可以單獨使用也可以作為兩種以上混合溶劑使用。(lb)放射線固化性樹脂及熱固化性樹脂作為本發明的交聯聚合物，可以列舉出以多元醇丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、氨基甲酸乙酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯等為原料的多官能聚丙烯酸酯系放射線固化性樹脂，以酯化羥甲基蜜胺等為原料的蜜胺系熱固化性樹脂，苯氧基系熱固化性樹脂，環氧系熱固化性樹脂等熱固化型樹脂。它們當中，優選的是多官能聚丙烯酸酯系放射線固化性樹脂。放射線固化性樹脂，是指通過照射紫外線及電子射線等放射線進行聚合的樹脂，可以列舉出在樹脂成分中含有於單位結構內具有兩個以上的丙烯醯基的多官能丙烯酸酯成分的丙烯酸樹脂。作為提供這種丙烯酸樹脂的原料，具體地，例如，可以優選地使用三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，三羥甲基丙烷環氧乙烷改性的丙烯酸酯，三羥甲基丙烷環氧丙烷改性的丙烯酸酯，異氰酸烷環氧乙烷改性的丙烯酸酯，季戊四醇四丙烯酸酯，二季戊四醇五丙烯酸酯，二季戊四醇六丙烯酸酯，二羥甲基三環癸烷二丙烯酸酯，等各種丙烯酸中單體及聚酯改性丙烯酸酯的多官能丙烯酸酯齊聚物等。這些樹脂既可以使用其單獨的組分，也可以使用它們的多種組合，此外，根據情況，優選地，在組分中添加適量的各種烷氧基矽的水解縮合物。此外，在利用紫外線照射進行樹脂層的聚合的情況下，適量添加公知的光反應引發劑。作為光反應引發劑，例如，可以列舉出二乙氧基乙醯苯酚，2-甲基-1-{4-(曱硫基)苯基}-2-嗎啉代丙烷，2-羥基-2-甲基-l-苯基丙烷-l-酮，l-羥基環己基苯酮等苯乙酮系化合物；二苯乙醇酮，苯甲基二甲基酮等苯偶姻系化合物；苯酮，苯醯安息酸等苯酮系化合物；噻唑酮，2，4-二氯逸唑酮等蓉唑酮系化合物等。此外，作為苯氧系系熱固化性樹脂，可以列舉出用多官能異氰酸酯化合物將以下面的公式(1)表示的苯氧基樹脂，苯氧基醚樹脂，苯氧基酯樹脂進行熱交聯構成的樹脂。0_(R7X)B—CH2CH(0H)CH2—(1)這裡，R'~R6,表示相同或不同氫或者碳原子數l~3的烷基，f表示碳原子數為2~5的亞烷基，X表示醚基，酯基，m表示0-3的整數，11表示20~300的整數。其中，從容易合成、生產性能的觀點出發，特別優選的是，R1，R2為甲基，R3R6為氫，R'為戊二烯亞戊基。此外，作為多官能異氰酸酯化合物，只要是在一個分子中含有兩個以上的異氰酸基的化合物即可，可以列舉出以下化合物。2，6-曱苯二異氰酸酯，2，4-甲苯二異氰酸酯，甲苯二異氰酸酯-三羥曱基丙烷加合物，t-環己烷-l，4-二異氰酸酯，m-亞苯基二異氰酸酯，p-亞苯基二異氰酸酯，環己烷二異氰酸酯，1，3，6-環己烷二異氰酸酯，異佛爾酮二異氰酸酯，1，5-萘二異氰酸酯，聯苯甲胺二異氰酸酯，亞二甲苯基二異氰酸酯，氫化亞二甲苯基二異氰酸酯，二苯曱烷-4，4'-二異氰酸酯，氫化二苯曱烷-4，4'-二異氰酸酯，賴氨酸二異氰酸酯，賴氨酸酯三異氰酸酯，三苯甲烷三異氰酸酯，3(異氰酸酯苯基)硫代磷酸酯，m-四甲基苯二甲基二異氰酸酯，p-四甲基苯二甲基二異氰酸酯，1，6，11-十一烷三異氰酸酯，1，8-二異氰酸酯-4-異氰酸酯甲基辛烷，二環庚烷，2，2,4-三甲基環己烷二異氰酸酯，2，4，4-三甲基環己烷二異氰酸酯，等聚異氰酸酯以及它們的化合物或者多價醇加合物等。其中，從通用性反應性等觀點出發，特別優選地是，2，6-甲苯二異氰酸酯，2，4-曱苯二異氰酸酯，甲苯二異氰酸酯-三羥甲基丙烷加合物，環己烷二異氰酸酯。此外，作為反應l進劑，通過添加適量的>^知的三亞乙基二胺等叔胺，二丁錫月桂酸鹽等有機錫化合物，可以提高交聯速度。此外，作，環氧系熱固化樹脂，可以使用各種環氧樹脂，其中，優選地是^將下面的公式(2)表示的酚醛型環氧樹脂熱交聯的樹脂。formulaseeoriginaldocumentpage13這裡RS表示氫或甲基，f表示氫或縮水甘油基二苯醚基。此外，q表示l50的整數，但實際上q的值一般具有分布很難指定，作為平均數大的較好，優選地在3以上更優選地在5以上。作為這種使環氧樹脂交聯的固化劑，採用公知的材料。例如，使用胺系氨基醯胺系，酸及酸肝，咪唑，硫醇，酚醛樹脂等固化劑。其中，優選地使用酸酐及脂環族胺類，更優選地使用酸酐。作為酸酐，可以列舉出甲基六氫化鄰苯無水二甲酸，甲基四氫化鄰苯無水二甲酸，無水苯二甲酸等芳香族酸肝，十二碳烯無水苯二甲酸等脂肪族酸酐，但特別優選地是甲基六氫化鄰苯無水二甲酸。此外，作為脂環族胺，可以列舉出二(4-氨基-3-甲基二環己基)甲烷，二氨基環己基甲烷，異佛爾酮胺等，特別優選地的是二(4-氨基-3-曱基二環己基)甲烷。這裡，在作為固化劑使用酸酐的場合，也可以添加促進環氧樹脂與酸酐的固化反應的反應促進劑。作為反應促進劑，可以列舉出亞N-千基甲胺，2，4，6-三(二甲基氨基曱基)酚，吡啶，1，8-二氮雜二環(5，4，6)十一碳烯-l等公知的仲叔胺類及咪唑類等固化觸媒。作為交聯聚合物的實際的塗布法，將前述化合物及各種添加劑(固化劑，觸媒等)溶解到各種有機溶劑中，使用調節濃度及粘度的塗布液，在塗布到下層上之後，通過放射線的照射及熱處理等使層固化。作為塗布方式，例如，可以採用微型凹版印刷術塗布法，邁爾杆塗布法，直接凹印塗布法，反轉輥塗布法，簾幕塗布法，噴塗塗布法，點塗布法，模具塗布法，刮刀塗布法，旋轉塗布法等各種塗布方法。(lc)超微粒子A(折射率調整用)眾所周知，一般地，將烷氧基金屬水解並縮合聚合構成的層或者熱固化樹脂或放射線固化樹脂等的交聯聚合物，與各種塗層的緊密性良好。但是，在僅疊層交聯聚合物層形成光學幹涉層的情況下，優選地，通過提高固化樹脂層及它們導電層各層之間的緊密性，能夠提高筆記耐久性，但是由於折射率之差小光學幹涉層不起作用，不能形成高透射率的透明導電性疊層體。因此，在本發明中，為了使形成光學幹涉層的各層產生折射率差，優選地，在交聯聚合物層以規定的添加量含有特定粒徑的特定的透明微粒子(下面稱之為微粒子A)。通過在由交聯聚合物構成的光學幹涉層中添加特定的透明微粒子，付與光學幹涉層所需的折射率，並且，能夠提高各層之間的緊密性，筆記耐久性。只添加微粒子，會產生所形成的層白化的問題，但在本發明中，為了確保光學幹涉層的良好的緊密性的同時，還使形成光學幹涉層的各層發生折射率差，作為微粒子使用由金屬氧化物及/或金屬氟化物構成的微粒子，並且控制該微粒子的直徑，更優選地，通過控制配合比，可以實現塗布膜不會白化、形成良好的光學幹涉層，從而完成本發明。通過這樣添加超微粒子，不使塗膜白化並調整光學幹涉層的折射率，在高折射率層與低折射率層的組合中，可以形成具有與鄰接層的緊密性優異的性質，並且，能夠具有高的折射率之差，筆記耐久性優異且透射率高的透明導電性疊層體。基於這種見解，完成本發明的第一個方面。14本發明的第一個方面中的光學幹涉層，通過在由如上面所述的交聯聚合物構成的高折射率層及低折射率層中至少一層中，特別是在高折射率層中添加特定的超微粒子，調整形成光學幹涉層的各層的折射率。作為該超微粒子，在本發明中，有必要使用一次粒徑在100nm以下的粒子。通過將超微粒子的一次粒徑控制在100nm以下，可以形成塗膜不會白化的良好的光學幹涉層。這種一次粒徑優選地在80nm以下，更優選地在60mn以下。其下限沒有特定的限制，但一般為5眼這種超微粒子主要由金屬氧化物及/或金屬氟化物構成。作為這種金屬氧化物，金屬氟化物，例如，可以列舉出，A1203,Bi203，Ce02，ln20"ln203-Sn02,訓2,U203，MgF2，Sb205，Sb205-Sn02，Si02,Sn02，Ti02，Y203，ZnO，Zr02等。其中，Bi203，Ce02，ln203，ln203-Sn02，Hf02，La203，Sb205，Sb205.Sn02,Sn02，Ti02，Y203，ZnO，Zr02作為包含在高折射率層中的超微粒子是優選的，另一方面，A1203，MgF2，Si02,作為包含在低折射率層中的超微粒子是優選的。這種超微粒子可以使用一種，也可以兩種以上聯合使用。超微粒子與交聯聚合物，其重量比優選地在l:99-80:20的範圍內，更優選地在5:95-80:20的範圍內。超微粒子與交聯聚合物的重量比不足l:99時，沒有調整折射率的效果。此外，當超微粒子與交聯聚合物的重量比超過80:20時，對於光學幹涉層所必需的強度及緊密性不足。更優選地，這種重量比在30:70-65:35的範圍內。此外，實際優選的超微粒子與交聯聚合物的重量比，在構成超微粒子與交聯聚合物的原料進行投料時的使用量為基準來決定。作為將這種超微粒子添加到交聯聚合物中的方法，可以在製造前面說明的交聯聚合物層的工序的最初，將超微粒子混合到交聯聚合物的原料中之後，進行前面說明的塗布、水解及縮合聚合或者交聯反應。(ld)高折射率層及低折射率層光學幹涉層至少由一層高折射率層和至少一層低折射率層構成。也可以將高折射率層與低折射率層的組合製成兩個單位以上。在光學幹涉層由一層高折射率層和一層低折射率層構成的情況下，光學幹涉層的膜厚優選地為30nm~150nm，更優選地為501101~150nm。形成光學幹涉層的高折射率層，如上所述，是將烷氧基金屬水解並縮合聚合構成的層及熱固化性樹脂或放射線固化性樹脂構成的交聯聚合物層的單獨膜，或者是由將金屬氧化物超微粒子及/或金屬氟化物超微粒子和垸氧基金屬構成的混合物水解縮合聚合構成的層形成的膜，或者是使金屬氧化物超微粒子及/或金屬氟化物超微粒子與熱固化性樹脂或放射線固化性樹脂的化合物交聯聚合形成的膜，所形成的膜的厚度優選地為15~lOOmn，更優選地為20~70nm。此外，高折射率層的折射率大於低折射率層的折射率，其差值優選地在O.2以上。更優選地在O.25以上。形成光學幹涉層的低折射率層，如上所述，是將烷氧基金屬水解並縮合聚合構成的層或由熱固化性樹脂或者放射線固化性的樹脂構成的交聯聚合物層的單獨膜，或者是將由金屬氧化物超微粒子及/或金屬氟化物超微粒子與烷氧基金屬構成的化合物水解並縮合聚合形成的膜，或者是使金屬氧化物超微粒子及/或金屬氟化物超微粒子與熱固化性樹脂或放射線固化性樹脂的化合物交聯聚合形成的膜，所形成的膜的厚度優選地為15lOOmn，更優選地為2070nm。此外，低折射率層的折射率優選地在l.6以下。這樣，在作為高折射率層和低折射率層使用將烷氧基金屬水解並縮合聚合構成的層或由熱固化性樹脂或者放射線固化性樹脂構成的交聯聚合物層的情況下，對於成本是有利的，但難以同時滿足優異的光學幹涉效果(所需的折射率差及透明性)和優異的筆記耐久性，但根據本發明發現，作為高折射率層和低折射率層，在使用交聯聚合物層的情況下，在高折射率層和低折射率層的至少其中之一上，優選地在高折射率層上，通過優選地在控制添加量的條件下添加如上所述的超微粒子，不會使塗膜白化，可以形成光學幹涉效果和筆記耐久性雙方都非常良好的光學幹涉層。此外，在由放射線固化性樹脂或者熱固化性樹脂構成的交聯聚合物構成低折射率層的情況下，優選地，在高折射率層中含有根據本發明的超微粒子A、微粒子B(後面描述)，在低折射率層中不含有微粒子(超微粒子A、」隞粒子B)。(le)優選的高折射率層與低折射率層的組合在本發明的一種優選實施方式中，光學幹涉層由高折射率層和低折射率層構成，低折射率層與透明導電層連接，低折射率層由將烷氧基矽水解並縮合聚合形成的層構成，高折射率層由把除烷氧基矽烷以外的烷氧基金屬作為主成分的烷氧基金屬水解並縮合聚合形成的層構成，在層中含有由金屬氧化物構成的超微粒子。作為這種高折射率層的烷氧基金屬，主要使用烷氧基矽烷之外的烷氧基物質，並且，通過含有超微粒子，可以維持高的折射率，並且使透明導電性疊層體的筆記耐久性良好。作為烷氧基矽烷以外的烷氧基金屬，可以列舉出烷氧基鈦，烷氧基鋯。烷氧基鈦和烷氧基鋯的具體例子如前面所述，作為烷氧基金屬的主成分的烷氧基矽烷以外的烷氧基金屬的含有率優選地為50%~100%，更優選地為70%~100%。此外，含有率，實際上基於在投料時使用的比例進行決定是很方便的。作為用於高折射率層的超微粒子，優選地為從金屬氧化物超孩吏粒子，例如，Bi203，Ce02，ln203,ln203'SnOz,Hf02，La203，Sb205，Sb205Sn02，Sn02，Ti02,Y203，ZnO,Zr02中選擇出來的金屬氧化物超微粒子。超微粒子可以是一種或兩種以上的組合。通過採用這種組合，可以使層間的緊密性優異並且折射率之差大。優選地，折射率之差至少在O.l以上，更優選地在0.2以上，更加優選地，在O.25以上。優選地，金屬氧化物超微粒子與烷氧基金屬的重量比在l:99-60:40的範圍內，更優選地，在5:95~50:50的範圍內。這種高折射率層的形成方法，可以和前面描述的烷氧基金屬和超微粒子的混合物的形成方法一樣。用於和該高折射率層組合的低折射率層，是將烷氧基矽烷水解並縮合聚合形成的層，該層也可以像前面所說明的那樣形成。在該低折射率層中，也可以根據需要含有超微粒子。高折射率層和低折射率層的膜厚，折射率優選地和前面所描述的情況一樣。(le)第二微粒子B(表面粗化用)如前面所述，作為避免可動電極基板、固定電極基板的兩個透明導電層表面彼此之間的粘結的現象引起的透明觸摸面板的誤動作的手段，如果通過於固化樹脂中添加平均一次粒子直徑比固化樹脂層的膜厚大的微粒子、將透明導電層的表面粗化的方法，經由透明觸摸面板觀察時的高清晰彩色液晶畫面的顯示等級降低。因此，本發明人等發現，作為透明導電層表面的粗化的方法，當向形成比固化樹脂層的膜厚薄的光學幹涉層的高折射率層或低折射率層中至少一個層添加微粒子(下面稱之為微粒子B)時，與在固化樹脂層中添加的微粒子的情況相比，即使使用平均一次粒子直徑小的微粒子，也能夠將透明導電層的表面粗化。進而發現，通過控制所添加的微粒子的平均一次粒子的直徑及添加量，在不產生從液晶中發出的RGB三原色的光的散射引起的閃耀的範圍內，就可以將透明導電層表面粗化。我們確認到，這樣把採用已將透明導電層表面粗化的透明導電性疊層體的透明觸摸面板配置在高清晰度彩色液晶畫面上，經由透明觸摸面板觀察的液晶畫面的顯示等級，和把採用固化樹脂中實質上不含微粒子的透明導電層表面平坦的現有技術的透明導電性疊層體設置在高清晰度的彩色液晶畫面上的情況相比，效果一樣好。進而，確認到，在採用通過向構成光學幹涉層的高折射率層或低折射率層的至少一個層中添加微粒子將透明導電層表面粗化的透明導電性疊層體的透明觸摸面板中，沒有因可動電極基板、固定電極基板的兩個透明導電層彼此的粘結現象引起的誤動作。這樣，根據本發明的第二個方面，提供一種將透明觸摸面板設置在高清晰彩色液晶畫面上，經由透明觸摸面板觀察液晶畫面時，液晶畫面顯示等級不會降低，不會產生形成透明觸摸面板的可動電極基板、固定電極基板的兩個透明導電層表面彼此粘結現象引起的誤動作，進而，能夠提供確保對透明觸摸面板所要求的筆記耐久性等高可靠性的透明導電性疊層體及透明觸摸面板。此外，通過使添加到構成光學幹涉層的高折射率層和低折射率層的至少一個層中的微粒子B的量低於構成添加微粒子B的層的交聯聚合物的量、優選地為烷氧基金屬成分的0.5重量％以下，可以形成無損於抑制因可動電極基板、固定電極基板的兩個透明導電層表面彼此之間的粘結現象引起的透明觸摸面板的誤動作的效果、且沒有白濁的良好的光學幹涉層，當在構成光學幹涉層的高折射率層與低折射率層的至少其中一個層中添加過剩的微粒子B時，所添加的微粒子變得容易脫落，以及光學幹涉層與固化樹脂層間的緊密性降低損及有損於對觸摸面板所要求的筆記耐久性等可靠性。微粒子B優選地僅包含在高折射率層中，或者包含在高折射率層與低折射率層兩者當中。作為添加到構成本發明的光學幹涉層的高折射率層與低折射率層的至少其中之一中的微粒子B，可以是無機材料也可以是有機材料，不管折射率如何(但優選地接近於高折射率層與低折射率層的折射率)。例如，二氧化矽微粒子，交聯丙烯基微粒子，交聯聚苯乙烯微粒子等。所述微粒子B的平均一次粒子直徑在光學幹涉層的膜厚的1，1倍以上，並且平均一次粒子直徑在l,2nm以下。在所述微粒子的平均一次粒子直徑不足光學幹涉層的膜厚的l.l倍時，難以將透明導電層表面粗化。另一方面，當所述微粒子的平均一次粒子直徑超過l.2nm時，在把使用構成光學幹涉層的高折射率層與低折射率層的至少其中之一內添加這種微粒子的透明導電性疊層體的透明觸摸面板設置在高清晰彩色液晶畫面上時，經由透明觸摸面板觀察液晶畫面時，在液晶畫面上會看到閃耀，顯示等級降低。進而，當所述微粒子的平均一次粒子直徑超過l.2pm時，由於平均一次粒子直徑比添加微粒子的光學幹涉層膜厚大很多，所以，所添加的微粒子容易從光學幹涉層上脫落，難以確保對透明觸摸面板所要求的筆記耐久性等的可靠性。光學幹涉層由至少一層高折射率層和至少一層低折射率層構成。也可以將高折射率層和低折射率層的組合製成兩個單位以上。在光學幹涉層由一層高折射率層和一層低折射率層構成的情況下，光學幹涉層的膜厚優選地在30nm-150nm，更優選地在50nm-150nm。在形成所述光學幹涉層的高折射率層或低折射率層的至少一個層中添加的微粒子B的平均一次粒徑，為光學幹涉層的膜厚的19l.l倍以上，並且在1.2nm以下，優選地在O.3(im以上l.2fim以下，更加優選地，在O.5nm以上l.Ofim以下，在光學幹涉層，特別是在高折射率層中，以調整折射率為目的，如前面所述(本發明的笫一個方面)，可以適量添加單獨的或者兩種以上的由金屬氧化物及/或金屬氟化物構成的平均一次粒徑100nm以下的孩i粒子A(前述超樣i粒子)，但也可以不添加。在光學幹涉層中添加微粒子A的情況下，微粒子A與烷氧基金屬的重量比優選地為O:100~60:40，更優選地為0:100~80:20，更加優選地為0:100-40:60。微粒子A與烷氧基金屬的重量比超過80:20時，光學幹涉層所必需的強度及緊密性不足，不好。關於該微粒子A的其它方面，可以和前面對超微粒子所說明的情況一樣。(2)固化樹脂層在本發明的透明導電性疊層體中，可以在光學幹涉層與有機高分子膜之間形成固化樹脂層。固化樹脂層是可以提高耐磨損性和柔性的層。作為形成這種固化樹脂層用的材料，可以使用熱固化型樹脂、紫外線等放射線固化型樹脂等固化性樹脂。作為固化樹脂的具體例子，可以列舉出以甲基三乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷等為原料的有機矽烷系的熱固化型樹脂，以醚化羥甲基蜜胺等為原料的蜜胺系熱固化樹脂，以聚多元醇丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，聚氨基甲酸乙酯丙烯酸酯，環氧丙烯酸酯等為原料的多官能丙烯酸酯系紫外線固化型樹脂等。這種固化樹脂層的設置有光學幹涉層的表面通常既可以富有平坦性，也可以將表面粗化。在將表面粗化的情況下，例如可以使固化樹脂內部含有二氧化矽微粒子等。但是，在利用本發明的笫二個方面的情況下，設置光學幹涉層的表面不必粗化，優選地是平坦的。即，在利用本發明的第二個方面的情況下，在本發明的透明導電性疊層體中，位於光學幹涉層與有機高分子膜之間的固化樹脂層，實質上優選地不舍有微粒子。在固化樹脂層中添加平均一次粒徑比固化樹脂的膜厚大的微粒子的情況下，有避免可動電極基板、固定電極基板的兩個透明導電層表面彼此之間的粘結現象引起的透明觸摸面板的誤動作的效果，但存在著經由透明觸摸面板觀察時，高清晰彩色液晶畫面的顯示等級降低的問題。此外，在添加平均一次粒徑比固化樹脂層的厚度小的微粒子的情況下，不但沒有避免由上述粘結現象引起的透明觸摸面板的誤動作的效果，由於微粒子的尺寸同樣存在著在經由透明觸摸面板觀察時，高清晰彩色液晶畫面的顯示等級下降的問題。但可以含有處於不妨礙經由透明觸摸面板觀察時的高清晰彩色液晶畫面的顯示等級的範圍內的微粒子。另一方面，為了防止在可動電極基板和固定電極基板之間產生幹涉條紋，優選地在透明導電層表面設置突起。為了防止發生幹涉條紋時的優選的表面形狀為平均突起的高度在O.3~lpm的範圍內，並且突起的密度在350~1800個/mW的範圍內。在固化樹脂層上將表面製成這種形狀的透明導電性疊層體用作觸摸面板的可動電極基板及/或固定電極基板的情況下，即使可動電極基板撓曲靠近固定電極基板，在兩個透明導電層之間也不會首先發生幹涉條紋，所以，很容易看到顯示器的顯示畫面。此外，當平均突起的高度不足O.3nm及突起的密度不足350個/mi^時，防止發生幹涉條紋的效果小。此外，當平均突起高度超過lpm時，筆的輸入耐久性降低，不理想。進而，當突起密度超過1800個/mn^時，透明導電性疊層體的模糊度增加，引起顯示器的文字模糊不清，難以辨認的問題，不理想。當然，在僅以防止粘結為目的的情況下，平均突起的高度也可以不足O.3pm，突起的密度也可以不足350個/mm2。這裡，平均突起的高度，突起的密度按以下方式求出。用實時掃描型雷射顯微鏡(雷射技術集團，1LM21D)隨機選擇10~20個在250pm的角視野內的突起，測定各突起的高度後，均算出平面突起的高度。此外，由該視野內的突起數計算出突起密度(單位面積內的突起數)。從柔性，耐摩擦性等觀點出發，固化樹脂層的厚度優選地為2~5拜。固化樹脂層可以用塗布法形成。作為實際的塗布方法，將前述化合物及各種添加劑(固化劑，觸媒等)溶解到各種有機溶劑內，使用調節濃度及粘度的塗布液，在有機高分子膜上塗布之後，通過放射線及加熱處理使層固化。作為塗布方法，例如可以採用微型凹版印刷術塗布法，邁爾杆塗布法，直接凹印塗布法，反轉輥塗布法，簾幕塗布法，噴塗塗布法，點塗布法，模具塗布法，刮刀塗布法，旋轉塗布法，刮漿刀法，浸漬法等各種塗布方法。從柔性，耐摩擦性等觀點出發，固化樹脂層的厚度優選地為2~5jim。此外，固化樹脂層直接或者經由適當的固定層疊層在有機高分子膜上。作為這種固定層，例如，優選地，可以列舉出具有提高固化樹脂層與有機高分子層的緊密性的功能的層，以及具有使K值(K-{(n,+ny)/2-nz}xd，其中，nx，n"nz分別表示x軸，y軸，z軸方向的折射率，x軸，y軸是膜平面內的正交軸，z軸是膜的厚度方向)成為負值的三維折射率特性的層等各種相位補償層，具有防止水分和空氣透過的功能或者具有吸收水分及空氣的功能的層，具有吸收紫外線及紅外線功能的層，具有降低基板的帶電性功能的層等。(3)有機高分子膜作為構成用於本發明的有機高分子膜的有機高分子化合物，只要是耐熱性優異的透明有機高分子，沒有特定的限制。例如，可以列舉出聚對苯二甲酸乙酯，聚酯-2、6-萘二甲酸酯，聚鄰苯二甲酸二烯丙酯等聚酯系樹脂，聚碳酸酯，聚芳酯，丙烯酸樹脂，醋酸纖維樹脂，環狀聚烯烴，降冰片烯樹脂等。不言而喻，它們作為均聚物，齊聚物可以單獨使用也可以作為混合物使用。此外，也可以作為將兩個以上的由這些樹脂形成的有機高分子膜用粘結劑等粘貼疊層形成的有機高分子膜使用。在將本發明的透明導電疊層體作為透明觸摸面板的可動電極基板使用的場合，從為了保持使透明觸摸面板作為開關動作用的柔性和平坦性的強度等觀點出發，作為有機高分子膜的基板形狀，優選的是厚度為75~400nm的膜狀。在作為固定電極基板使用的場合，從為了保持其平坦性的強度的觀點出發，優選的是厚度為0.4~4.Omm的片狀，但也可以釆用將厚度為50~400nm的膜狀物粘貼在另外的片上，其整個厚度為0.4~4.Omm的結構。在將本發明的透明導電疊層體作為透明觸摸面板的可動電極基板使用的場合，對於固定電極基板，可以使用在前述有機高分子膜基板、玻璃基板或者它們的疊層體基板上形成透明導電層的結構。從透明觸摸面板的強度，重量的觀點出發，由單層或疊層體構成的固定電極基板的厚度優選的為0.4~2.Omm。此外，最近，開發了在透明觸摸面板的輸入側(使用者側)的面上疊層偏振片或者(偏振片+相位差膜)構成的新型的透明觸摸面板。這種結構的優點主要是由於前述偏振片或者(偏振片+相位差膜)的光學作用，將透明觸摸面板內部的外來光的反射率降低到一半以下，提高設置了透明觸摸面板狀態下的顯示器的對比度。在這種類型的透明觸摸面板中，由於偏振光通過透明導電疊層體，作為有機高分子膜，優選地使用光學各向同性的優異特性的膜，具體地說，在用i^表示基板的滯後相軸的方向折射率，Ily表示超前相軸方向的折射率，用d(nm)表示基板的厚度時，由Re=(n:-ny)xd(nm)表示的面內的滯後值Re優選地至少在30nm以下，更優選地在20nm以下。此外，這裡，基板的面內滯後值以利用多波長雙折射測定裝置(日本分光林式會社制M-150)測定的波長590nm處的值為代表。在將上述列舉的透明導電性疊層體用於偏振光通過型的透明觸摸面板中的情況下，透明電極基板的面內滯後值是非常重要的，但除此之外，透明電極基板的三維折射率特性，即，在令基板膜厚方向的折射率為nz時，以K-((n，+ny)/2-nz}xd表示的K值優選地在-250~+150nm之間，在-200~+100nm的範圍內，對於獲得透明觸摸面板的優異的視野角特性是更優選地。作為表現出這些光學各向同性優異的特性的有機高分子膜，例如，可以列舉出聚碳酸酯，非晶態聚芳酯，聚醚碸，聚碸，三乙醯纖維素，二乙醯纖維素，非晶態聚烯烴以及它們的變性物或者與其它材料的共聚物等的成型基板，環氧系樹脂等熱固化型樹脂的成型基板及丙烯酸樹脂等紫外線固化性樹脂的成型基板等。從成型性能及製造成本，熱穩定性等觀點出發，最優選地可以列舉出聚碳酸酯，非晶態聚芳酯，聚醚碸，聚碸，非晶態聚烯烴以及它們的變性物或者與其它材料的共聚物等的成型基板。更具體地說，作為聚碳酸酯，例如，優選地，可以使用將雙23^A，1，1-二(4-苯酚)亞環己基，3，3，5-三曱基-1,l，-二(4-苯酚)亞環己基，芴-9.9-二(4-笨酚)，藥-9.9-二(3-曱基-4-苯酚)等構成的組中選擇出來的至少一種成分作為單體單位的聚合物及共聚物或者它們的混合物，平均分子量大致在15000~100000的範圍內的聚碳酸酯(作為商品，例如可以列舉出帝人株式會社"匕°工7工-久"，帝人化成林式會社制",《^，4卜，，及乂《4工/P公司制"ApecHT，，等)。此外，作為非晶質聚芳質，作為商品可以列舉出鍾淵化學工業株式會社制"工A少夕，，，工-千力林式會4土製"U求卩t-，，^f:z/"'公司制"寸廿i;^"等的成型基板。此外，作為非晶值聚烯烴，作為商品可以列舉出日本七才^林式會社制"七才乂7"及JSR林式會社制"7-卜》"等的成型基板。此外，作為這些高分子材料的成形方法，可以列舉出熔融擠壓法和溶液流延法，注塑成型法等方法，但從獲得優異的光學各向同性的觀點出發，特別優選地用溶液流延法進行成形。(4)透明導電層在本發明中，設置連接在上述低折射率層上的透明導電膜。通過連接上述低折射率層設置透明導電膜，提高透明導電性疊層體的光學特性，筆記耐久性等機械特性。這裡，作為透明導電層，有包含2~20重量％的氧化錫的ITO膜及摻雜銻或者氟等的氧化錫膜。作為透明導電層的形成方法，有濺射法，真空蒸鍍法，離子鍍法等PVD法，或者塗布法，印刷法，CVD法，優選的方法是PVD法或CVD法。在PVD或CVD法的場合，透明導電層的厚度，從透明性和導電性的觀點出發，優選地為5-50nm。進而，作為透明導電層更優選地主要為由晶質氧化銦構成的膜。特別優選地使用主要是結晶粒徑為2000nm以下的晶質的銦氧化物構成的層。當結晶粒徑超過2000nm時，筆輸入耐久性不好，因此是不理想的。從光學特性及電阻值的穩定性的角度出發，更優選地，膜厚為12-30nm。透明導電層的膜厚不足12niD時，有電阻值的穩定性隨著時間的推移變差的傾向，當超過30nm時，透明導電性疊層體的透射率降低，所以不理想，為了降低觸摸面板的耗電量和電路處理上的需要，優選地使用在膜厚12~30nm時，表面電阻值為100~2000Q/口，更優選地在140~2000Q/口的範圍內的透明導電層。在上述主要由晶質的銦氧化物構成的層上，為了提高透明性調整表面電阻質等，可以添加一種或者兩種以上的氧化錫，氧化矽，氧化鈦，氧化鋁，氧化鋯，氧化鋅等金屬氧化物。特別是，晶質的銦錫氧化物(ITO)，其透明性導電性優異，應優選地採用。作為獲得上述結晶粒徑在2000m以下的主要由晶質的銦氧化物構成的層的方法的一個例子，下面描述獲得晶質銦錫氧化物膜的方法。首先，將含有微小的結晶核的非晶質的銦錫氧化物膜用濺射法，離子鍍法、真空蒸鍍法等公知的PVD法疊層。其次，在IOO~150匸的溫度下進行退火處理，以微小的結晶核為中心進行晶體生長。依賴於PVD法的形成條件，例如，獲得結晶粒徑在最小粒徑10nm最大粒徑300nm的範圍內分布的膜，及結晶粒徑在最小粒徑25On邁最大粒徑2000nm的範圍內分布的膜。通過利用這樣的膜作為本發明的透明導電層，可以提高筆的輸入耐久性，由於是結晶粒徑分布式的膜結構，所以在筆輸入時晶粒間界緩和加在透明導電層上的應力，預期可以提高透明導電層本身的膜強度。這裡所謂結晶粒徑，定義為在透射式電子顯微鏡下觀察到的多邊形或者長圓形的各區域內的對角線或直徑中最大的尺寸。(5)另一面的固化樹脂層在利用本發明的透明導電性疊層體作為可動電極基板使用時，優選地在透明觸摸面板的施加外力的面上設置固化樹脂層。作為形成固化樹脂層的材料。例如有以甲基三氧基矽烷，苯三氧基矽烷等為原料的有機矽烷系熱固化樹脂，以醚化的羥甲基三聚氰胺等為原料的三氯氰醯胺系熱固化樹脂，以多元醇丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，氨基甲酸乙酯丙蹄酸酯，環氧丙烯酸酯等為原料的多官能聚丙烯酸酯系放射線固化性樹脂等，根據需要，可以使用混合有二氧化矽等的固化樹脂。固化樹脂層的厚度，從柔性，耐摩擦性等觀點出發，優選地為2-5nm。(6)中間層本發明的透明導電性疊層體，在不損壞本發明的目的的範圍內，在構成該透明導電性疊層體的各層，即，在有機高分子膜與25固化樹脂層之間，固化樹脂層與光學幹涉層之間，可以具有作為粘結層等的中間層。例如，固化樹脂層直接地或者經由適當的固定層疊層在有機高分子膜上。作為這種固定層，例如，可以優選地列舉出具有提高該固化樹脂層與有機高分子膜的緊密性的的功能的層，以及，具有K值成為負值的三維折射率特性的層各種相位補償層，具有防止水分和空氣的透過的功能及具有吸收水分和空氣的功能的層，具有降低基板帶電性的功能的層等。(7)疊層型有機高分子膜基板在將本發明的透明導電性疊層體作為觸摸面板的可動電極基板使用時，為了提高觸摸面板的手指輸入耐久性(擊打特性)，筆輸入耐久性(筆滑動性)在高溫或高溫高溼環境下的可靠性，可以採用在有機高分子膜的透明導電層的相反側的面上經由比有機高分子膜楊氏模量低的透明彈性層疊層透明基體材料的結構。圖2表示這種形式的透明導電性疊層體的結構的例子。在圖2中，用和圖l相同的參照標號表示與圖l相同的構件。即，有機高分子膜l，固化樹脂層2，高折射率層3，低折射率層4，透明導電層5，固化樹脂層6。在這種形式中，基板膜以將透明彈性層7夾持在有機高分子膜1和透明基體材料8之間的形式疊層構成，在其兩面上設置固化樹脂層2，6。作為適合用於本發明的透明彈性層，優選的是透明性高，比該有機高分子膜的楊氏模量低，與該有機高分子膜及該透明基體材料雙方緊密性良好的材料。為了緩衝筆輸入時的衝擊，有必要令該透明彈性層的楊氏模量小於所述透明高分子膜的楊氏模量。但是，在楊氏模量極小的情況下，在透明導電性疊層體的衝裁、切口等的加工工藝中，該透明彈性層附著在刀刃上，成為異物缺陷的原因，所以並不理想。優選地，楊氏模量的範圍，約為有機高分子膜的楊氏模量的的1/5~1/80。例如，在有機高分子膜是聚對苯二甲酸乙酯膜的情況下，該透明彈性層的楊氏模量為7x107~1x109Pa。該透明彈性層的楊氏模量，用超微小壓痕高度試驗機(NanoIndentaitionTester林式會3土工y才-夕X命JENT—1100a)觀'J定。在該透明彈性層的表面(與有機高分子膜相反側)上用三角錐壓頭(稜間角115度，金剛石)以負載15mgf(147pN)壓入深度0.5pm，由除去負載時的曲線的斜率計算楊氏模量。該透明彈性層的厚度，為545nm，優選地為1040nm。當不足5nm時，緩衝筆輸入時的沖擊效果小，此外，當超過45nm時，在透明導電性疊層體的衝裁、切口等的加工工藝中，該透明彈性層附著在刀刃上，成為異物缺陷的原因，所以並不理想。作為用於該透明彈性層的材料，例如，有聚酯系樹脂，丙烯酸系樹脂，聚氨基曱酸乙酯系樹脂，環氧系樹脂，矽烷系樹脂。其中，矽烷系樹脂由於在觸摸面板製作工藝中以及在高溫環境下放置時楊氏模量的變化小，所以是優選的。(8)觸摸面板這樣，在至少一個面上設置透明導電層的兩個透明電極基板，以透明導電層彼此面對地配置構成的透明觸摸面板中，本發明的透明導電性疊層體至少可以作為一個透明電極基板使用。具體地，在後面描述的實施例中可以變得很清楚。在圖3中表示利用本發明的透明導電性疊層體的觸摸面板的結構例。圖l，圖2所示的透明導電性疊層體P，R，作為一個電極基板使用。在圖3中，將圖2的透明導電性疊層體R作為可動電極基板，以與該透明導電膜5對向的方式，在玻璃基板9的表面上形成透明導電膜IO，進而，在其表面上配置形成點間隔件ll的固定電極基板F，構成觸摸面板。可動電極基板R與固定電極基板F間的空間用間隔間(圖中未示出)設定通常為10-100nm的間隔。當用手指或筆從其表面上推壓該可動電極基板時，在推壓的位置上，在可動構件基板R與固定電極基板F之間成為觸點，所以，可以用電位差檢測該輸入位置。點間隔件11防止可動電極基板R撓曲以自然力與固定電極基板接觸，是為了能夠用手指或筆輸入設置的，但不是必須的。圖4表示把觸摸面板安裝到液晶顯示裝置上的例子。在圖4中，由相對的可動電極基板13和固定電極基板14構成的觸摸面板15，設置在液晶顯示裝置23上。液晶顯示裝置23，典型結構為，將液晶層19夾持在於內側表面上設置透明電極18、20的兩個玻璃基板17、21之間，並且，在玻璃基板17、21的外側配置偏振片16、22。不言而喻，液晶顯示裝置的具體結構並不局限於該例子，此外，例如偏振片也可以不配置在液晶裝置中，而是配置在觸摸面板側。實施例下面，說明本發明的具體例子，但本發明並不局限於此。在下面的實施例中，線性，楊氏模量，平均一次粒徑的測定方法如下所述。線性流電壓5V。在與平4亍電極垂直的方向上，以5mm的間隔測定電壓。當令測定開始位置A的電壓為EA，測定結束位置B的電壓為EB，在距離A為X處的電壓實測值為EX，理論值為ET，線性為L時，ET=(EB-EA)-X/(B-A)+EA"%)=(IET-EXI)/(EB-EA)100楊氏模量用超微小壓痕高度試驗機(NanoIndentaUionTester林式會社工ij才-夕久制ENT-1100a)測定。在該透明彈性層的表面(與透明高分子膜相反側)上用三角錐壓頭(稜間角115度，金剛石)以負載15mgf(147pN)壓入深度O.5nm，由除去負載時的曲線的斜率計算楊氏模量。微粒子的平均一次粒徑微粒子平均一次粒徑，用雷射衍射散射式粒度分布測定裝置進行測定，在厚度為lS8nm的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(株)制0FW)的一個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(1)。以1:l摩爾比混合Y-縮水甘油基丙基三甲氧基矽烷(信越化學公司"KBNH03")和甲基三曱氧基矽烷(信越化學公司"OM13")，利用醋酸水溶液(PH=3.0)以公知的方法進行前述矽烷的水解。對這樣獲得的矽烷的水解物以固態成分的重量比20:l的比例添加N-P(氨基乙基)廣氨基丙基三甲氧基矽烷(信越化學公司"KBM603")，進而，用異丙醇和n-丁醇混合溶液稀釋，製作烷氧基矽烷塗布液A。其次，將一次粒徑20nm的ZnO微粒子以ZnO微粒子與烷氧基矽烷的重量比為75:25的比例混合到塗布液A中，製成塗布液B。在與固化樹脂層(1)的對向的面的PET面上，用棒式塗布法進行塗布液B的塗布，在130"C燒結2分鐘後，形成膜厚70nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上，用棒式塗布法進行塗布液A的塗布，在130匸燒結2分鐘後，形成膜厚45nm的低折射率層，製成由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，在該低折射率層上，利用組分為氧化銦和氧化錫的重量比為9:1、填充密度為98%的氧化銦-錫靶，用濺射法形成ITO層，製成形成可動電極基板的透明導電性疊層體。製成ITO膜後的透明導電性疊層體的全部光線透射率為91.3。/。，模糊值為2.4%。另外，在厚度為l.lnnn的玻璃板的兩面上進行Si02的浸漬塗布後，利用濺射法，以同樣的方法形成厚度為18nm的IT0膜。其次，通過在IT0膜上形成高度7pm，直徑70pm，間距l.5mm的點間隔件，製作固定電極基板。用所製作的固定電極基板和可動電極基板製作圖5所示的透明觸摸面板。用尖端為O.8R的聚縮醛制的筆以250g的負荷從製成的透明觸摸面板的可動電極側進行直線往返30萬次的筆記耐久性試驗。觀察筆記耐久性試驗後的透明觸摸面板的電學特性(線性)及光學幹涉層的外觀。結果示於表l。在厚度為188nm的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(抹)制OFW)的一個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(1)。其次，用相對於樹脂的固態成分IOO份重量為O.l份重量的平均一次粒徑4.Opm的二氧化矽粒子的比例混合的紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料，塗布到對向面上，形成厚度3nm的固化樹脂層(2)。此外，在下面的實施例中，所有在固化樹脂層中添加二氧化矽粒子的例子都是這種結構。將一次粒徑為50nm的SnO2微粒子以SnO2樣i:粒子與烷氧基矽烷的重量比為50:50的比例混合到實施例l中用的塗布液A中，製成塗布液C。在含有二氧化矽粒子的上述固化樹脂層(2)的面上，利用棒式塗布法進行塗布液C的塗布，在13(TC燒結2分鐘後，形成膜厚70nm的高折射率層。將一次粒徑為90nm的MgF2農4:粒子以MgF2與烷氧基矽烷的重量比為10:90的比例混合到實施例l中使用的塗布液A中，製成塗布液D。利用棒式塗布法將塗布液D塗布到該高折射率層上，在130'C燒結2分鐘後，形成膜厚50nm的低折射率層，製成由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。利用銦和錫的重量比為9:l的組分的銦-錫合金靶作為濺射靼，用反應性濺射法在該低折射率層上形成銦錫低級氧化物膜後，在150。C熱處理15小時，形成厚度19nm，表面電阻值約400Q/口(約400Q/平方)的結晶性的ITO膜、製成做為可動電極基板的透明導電性疊層體。製成IT0膜後的透明導電層疊層體的全部光線的透射率為9.02%,模糊值為2.8%。用所製成的可動電極基板及與實施例l同樣的帶有透明導電層的玻璃固定電極基板製作圖5所示的透明觸摸面板。進行和實施例l同樣的以250g的負荷直線往復30萬次的筆記耐久性試驗。試驗結果示於圖l。在厚度為188pm的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制OFW)的一個面上用紫外線固化型氨基曱酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(1)。其次，在對向面上用混合有二氧化矽粒子的紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3pm的固化樹脂層(2)。將一次粒徑為60nm的ZrO2微粒子以ZrO2樣i粒子與烷氧基矽烷的重量比50:50的比例混合到實施例l中用的塗布液A中，製成塗布液E。在含有二氧化矽粒子的固化樹脂層(2)的面上用棒式塗布法進行塗布液E的塗布，在130C燒結2分鐘後，形成膜厚70nm的高折射率層。將一次粒徑為20nm的A1203微粒子以人1203微粒子與烷氧基珪烷的重量比15:85的比例混合到實施例l中用的塗布液A中，製成塗布液F。在該高折射率層上利用棒式塗布法進行塗布液F的塗布，進行130'C2分鐘的燒結之後，形成膜厚45mn的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成30的光學幹涉層。進而，和實施例2—樣，在該低折射率層上形成ITO膜，製作做為可動電極基板的透明導電性疊層體。製成IT0膜後的透明導電層疊層體的全部光線透射率為89,8%，模糊值為2.5%。另一方面，在厚度為75nm的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(株)制0FW)的兩個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層。在一面的固化樹脂層(2)的面上用棒式塗布法進行塗布液E的塗布，在13(TC2分鐘燒結後，形成膜厚70nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行塗布液F的塗布，在130"C2分鐘燒結後，形成膜厚Wmn的低折射率層製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，和實施例2—樣，在該低折射率層上形成ITO膜，製作做為可動電極基板的透明導電性疊層體。ITO制膜後的透明導電層疊層體的全部光線透射率為90.2%，模糊值為1.5%。在該透明導電性疊層體上，以和形成ITO膜的一側的對向面相接觸的方式用粘結劑與l.lmm的聚碳酸酯薄片粘貼，然後，通過在ITO膜上形成高度7pm，直徑70nm，間距l.5mm的點間隔件，製作固定電極基板。利用所製作的可動電極基板與固定電極基板製作圖6所示的觸摸面板，和實施例l一樣，在250g負荷下進行直線往復30萬次的筆記耐久性試驗。試驗結果示於表l。[實施例4〗在厚度為188nm的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制OFW)的一個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(1)。其次，在對向面上用混合有二氧化矽粒子的紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3pm的固化樹脂層(2)。將一次粒徑為20nm的TiO2微粒子以TiO2微粒子與烷氧基矽烷的重量比50:50的比例混合到實施例l中用的塗布液A中，製成塗布液G。在含有二氧化矽粒子的固化樹脂層(2)的面上用棒式塗布法進行塗布液G的塗布，在130"C燒結2分鐘後，形成膜厚40nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行塗布液A的塗布，在13(TC2分鐘燒結後，形成膜厚40mn的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，和實施31例1一樣，在該低折射率層上形成ITO膜，製作作為可動電極基板的透明導電性疊層體。ITO制膜後的透明導電層疊層體的全部光線透射率為90.8%，模糊值為2.2%。另一方面，在厚度為100fim的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(抹)制0FW)的兩個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層。下面，和上述可動電極基板一樣，在一面的固化樹脂層(2)的面上用棒式塗布法進行塗布液G的塗布，在130"C2分鐘燒結後，形成膜厚40nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行實施例l中用的塗布液A的塗布，在130*€2分鐘燒結後，形成膜厚40nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，在該低折射率層上形成ITO膜，製作透明導電性疊層體。ITO制膜後的透明導電層疊層體的全部光線透射率為90.5%,模糊值為2.3%。用該透明導電性疊層體、以和形成ITO膜的一側的對向面相接觸的方式用粘結劑與l.lmm的聚碳酸酯薄片粘貼，然後，通過在ITO膜上形成高度7nm，直徑70nm，間距l.5mm的點間隔件，製作固定電極基板。利用所製作的可動電極基板與固定電極基板製作圖6所示的觸摸面板，和實施例l一樣，確認在250g負荷下直線往復30萬次的筆記耐久性，試驗結果示於表l。在厚度為188nm的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(抹)制OFW)的一個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3^im的固化樹脂層(1)。其次，在對向面上用混合有二氧化矽粒子的紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(2)。用石油醚(和光純藥工業公司制的等級為特級的製品)和丁醇(和光純藥工業公司制的等級為特級的製品)的混合溶媒稀釋四丁氧基鈦酸酯(日本槽達公司制"B-4")，製成塗布液I。在含有二氧化矽粒子的上述固化樹脂,層上，用棒式塗布法進行塗布液I的塗布，在13(TC燒結2分鐘後，形成膜厚75nm的高折射率層。進而，用實施例l中使用的塗布液A在該高折射率層上用棒式塗布法進行塗布液I的塗布，在130C燒結2分鐘後，形成膜厚45nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，和實施例l一樣，在該低折射率層上形成ITO膜，製作作為可動電極基板的透明導電性疊層體。ITO膜成膜後的透明導電性疊層體的全部光線的透射率為89.5%，模糊值為2.7%。用所製作的可動電極基板和與實施例l一樣的帶有透明導電層的玻璃固定電極基板製作圖5所示的透明觸摸面板。和實施例l一樣進行在250g的負荷下直線往復30萬次的筆記耐久性試驗。試驗結果示於表l。表ltableseeoriginaldocumentpage34在厚度為188jim的聚對苯二曱酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制OFW)的一個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(1)。其次，在對向面上用混合有二氧化矽粒子的紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3pm的固化樹脂層(2)。其次，將一次粒徑為2Onm的ZnO樣i:粒子以ZnO樣i粒子與烷氧基金屬的重量比為20:80的比例混合到塗布液1的含量為80%的塗布液I與實施例l用的塗布液A混合製成的烷氧基金屬的混合液中，製作塗布液J。在含有二氧化矽粒子的固化樹脂層(2)的面上用棒式塗布法進行塗布液J的塗布，在130"C燒結2分鐘後，形成膜厚70nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行塗布液A的塗布，在130t:2分鐘燒結後，形成膜厚45nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，在該低折射率層上，以氧化銦與氧化錫的重量比為9:l的組分、填充密度為98%的氧化銦-錫耙、利用濺射法形成ITO層，製作作為可動電極基板的透明導電性疊層體。所形成的ITO層的膜厚約為20nm，表面電阻約為280Q/口。製成ITO膜後的透明導電層疊層體的全部光線透射率為93.0%，模糊值為2.5%。另一方面，用可動電極基板和與實施例l一樣的方式製作的帶有透明導電層的固定電極基板製作圖5所示的透明觸摸面板。從所製作的觸摸面板的可動電極側用尖端為O.8R的聚縮醛制的筆在250g的負荷下進行45萬次往復的筆記耐久性試驗。觀察筆記耐久性試驗後的透明觸摸面板的電學特性(線性)及光學幹涉層的外觀。結果示於表2。在厚度為lS8nm的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制0FW)的一個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3pm的固化樹脂層(1)。其次，在對向面上用混合有二氧化矽粒子的紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3pm的固化樹脂層(2)。在比較例l中使用的塗布液I內以Ti02微粒子於烷氧基金屬的比例為25:75的比例混合一次粒徑20nm的TiO2微粒子，製作塗布液K。在含有二氧化矽粒子的固化樹脂層(2)的面上用棒式塗布法進行塗布液K的塗布，在130C燒結2分鐘後，形成膜厚40nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行塗布液A的塗布，在130'C2分鐘燒結後，形成膜厚40nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，和實施例5—樣。在該低折射率層上形成ITO膜，製作作為可動電極基板的透明導電性疊層體。製成ITO膜之後的透明導電層疊層體的全部光線透射率為93.1%，模糊值為2.4%。另一方面，在厚度為75nm的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(抹)制OFW)的兩個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層。下面，和上述可動電極基板一樣，在固化樹脂的一個面上，用棒式塗布法進行塗布液K的塗布，在130"C燒結2分鐘後，形成膜厚40nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行塗布液A的塗布，在130'C2分鐘燒結後，形成膜厚40nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，和實施例5—樣，在該低折射率層上形成ITO膜，製作透明導電性疊層體。製成ITO膜之後的透明導電疊層體的全部光線透射率為92.8%，模糊值為1.7%。在該透明導電性疊層體上，以和形成ITO膜的一側的對向面相接觸的方式用粘結劑與l.lmm的聚碳酸酯薄片粘貼，然後，通過在IT0膜上形成高度7nm，直徑70nm，間距l.5mm的點間隔件，製作固定電極基板。用所製作的可動電極基板和固定電極基板製作圖6所示的透明觸摸面板，與實施例5—樣，確認在250g的負荷下直線往復45萬次的筆記耐久性。試驗結果示於表2。在厚度為188^101的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制OFW)的一個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度^m的固化樹脂層(1)。其次，在對向面上用混合有二氧化矽粒子的紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(2)。在以比較例1中用塗布液I的含量為90%的方式將塗布液I和塗布液A混合製成的烷氧基金屬的混合液中，以Ti02微粒子與烷氧基金屬的比例為15:85的比例混合入一次粒徑為20nm的TiO2微粒子，製成塗布液L。在含有二氧化矽粒子的固化樹脂層(2)的面上用棒式塗布法進行塗布液L的塗布，在130'C燒結2分鐘後，形成膜厚40nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行塗布液A的塗布，在130'C2分鐘燒結後，形成膜厚40nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，和實施例5—樣，在該低折射率層上形成ITO膜，製作作為可動電極基板的透明導電性疊層體。製成ITO膜之後的透明導電性疊層體的全部光線透射率為93.4。/。，模糊值為2.8%。另一方面，在厚度為l.Omm的聚碳酸酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制OFW)的兩個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3pm的固化樹脂層。在固化樹脂的一個面上，用旋轉塗布法進行塗布液L的塗布，在130匸燒結2分鐘後，形成膜厚40nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行塗布液A的塗布，在130"€2分鐘燒結後，形成膜厚40nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，和實施例5—樣，在該低折射率層上形成ITO膜，製作透明導電性疊層體。製成ITO膜之後的透明導電疊層體的全部光線透射率為94.0%，模糊值為l.8%。通過在IT0膜上形成高度7nm，直徑70nm，間距l.5mm的點間隔件，製作固定電極基板。利用所製作的可動電極基板和固定電極基板製作圖6的透明觸摸面板，與實施例5—樣，確認在250g的負荷下直線往復45萬次的筆記耐久性。試驗結果示於表2。tableseeoriginaldocumentpage37[實施例8]在厚度為188fim的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制OFW)的兩個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(1)。將相對於100份重量的四四丁氧基鈦酸酯為0,3份重量的平均一次粒徑為0.5pm的二氧化矽微粒子混合到塗布液I中，製成塗布液M。在固化樹脂層(1)上，用棒式塗布法進行塗布液M的塗布，在13(TC燒結2分鐘後，形成膜厚50mo的高折射率層。在前述高折射率層上用棒式塗布法進行烷氧基矽烷塗布液A的塗布，在130'C2分鐘燒結後，形成膜厚45nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，在該低折射率層上形成和實施例1一樣的IT0層，製作作為可動電極基板的透明導電性疊層體。所形成的ITO層的膜厚約為20nm，表面電阻值約為280Q/口。製成ITO膜之後的透明導電疊層體的全部光線透射率為91.7%，模糊值為1.4%。另一方面，用和實施例5同樣的的方法製作的帶有透明導電層的固定電極基板和可動電極基板製作圖5所示的透明觸摸面板。從所製作的透明觸摸面板的可動電極側用尖端O.8R的聚縮醛制的筆，進行250g負荷下直線往復30萬次的筆耐久性試驗。進行筆記耐久性試驗後的透明觸摸面板的電學特性(線性)的測定和光學幹涉層的外觀的觀察。為了確認可動電極基板與固定電極基板的透明導電層之間的粘結現象，用前述筆以任意的壓力推壓透明觸摸面板，使可動電極基板與固定電極基板的透明導電層彼此接觸，研究將筆移動後，可動電極基板與固定電極基板的透明導電層彼此之間有無粘結現象。此外，將透明觸摸面板設置在高清晰彩色液晶畫面上，經由透明觸摸面板觀察液晶畫面的可視度。結果示於表3。在厚度為18S^im的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(抹)制OFW)的兩個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3pm的固化樹脂層(1)。將實施例8中用的塗布液I內，以相對於100份重量的四丁氧基鈦酸酯為l.O份重量的比例混合入平均一次粒徑為O.5nm的二氧化矽微粒子，製作塗布液P。在上述固化樹脂層(1)的面上，用棒式塗布法進行塗布液P的塗布，在13(TC燒結2分鐘後，形成膜厚50nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行實施例8中使用的塗布液A的塗布，在130"C2分鐘燒結後，形成膜厚45mn的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，和實施例8—樣，在該低折射率層上形成ITO膜，製作構成可動電極基板的透明導電性疊層體。製成ITO膜之後的透明導電疊層體的全部光線透射率為91.8%，模糊值為2.6%。由於添加的微粒子多，所以，所製作的透明導電性疊層體由於添加的微粒子量多，有若干白濁。用上面製作的可動電極基板和與實施例8—樣的固定電極基39板製作圖5所示的透明觸摸面板。將透明觸摸面板設置在高清晰液晶畫面上，經由觸摸面板觀察液晶畫面的可視度。由於添加的微粒子的量多，所以液晶畫面變得模糊，可視性變差。〖比較例3]在厚度為188^1111的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制0FW)的兩個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3pm的固化樹脂層(1)。將實施例8中用的塗布液I內，以相對於100份重量的四丁氧基鈦酸酯為O.3份重量的比例混合入平均一次粒徑為1.5nm的二氧化矽微粒子，製作塗布液Q。在上述固化樹脂層(1)的面上，用棒式塗布法進行塗布液Q的塗布，在130C燒結2分鐘後，形成膜厚50nm的高折射率層。接著，在該高折射率層上用棒式塗布法進行實施例8中使用的塗布液A的塗布，在130。C2分鐘燒結後，形成膜厚45nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，和實施例8—樣，在該低折射率層上形成ITO膜，製作成為可動電極基板的透明導電性疊層體。製成ITO膜之後的透明導電疊層體的全部光線透射率為91.4%，模糊值為2.3%。用所製作的可動電極基板和與實施例8—樣的固定電極基板製作圖5所示的透明觸摸面板。進行和實施例8—樣的筆記耐夂性試驗。由於在光學幹涉層中添加的微粒子的一次粒徑大，所以，在進行筆記耐久性試驗時，微粒子從光學幹涉層上脫落，透明觸摸面板的電學特性(線性)及光學幹涉層的外觀變得非常差。進而，將透明觸摸面板設置在高清晰彩色液晶畫面上，經由透明觸摸面板觀察液晶畫面的可視度。由於所添加的微粒子的一次粒徑大，所以觀察到液晶畫面閃耀刺眼。表3tableseeoriginaldocumentpage40[實施例IO]在厚度為18Spm的聚對苯二甲酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制0FW)的兩個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(1)。在上述固化樹脂層(1)的面上，用棒式塗布法進行實施例8中製作的塗布液M的塗布，在13(TC燒結2分鐘後，形成膜厚50nm的高折射率層。其次，用異丙醇和l-甲氧基-2-丙醛的混合溶劑，將由31.3份重量的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯和62.6份重量的二羥甲基丙烷六丙烯酸酯構成的紫外線固化性樹脂，以及由5.0份重量的1-羥基-環己基-二苯曱酮和l.O份重量的二苯甲酮構成的光引發劑稀釋，製作塗布液R。用棒式塗布法在前述高折射率層上塗布塗布液R，在60'C乾燥2分鐘後，用強度為160W/cm的高壓水銀燈在累積光量300mJ/cm2的條件下使塗布膜固化，形成膜厚45nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，在該低折射率層上形成和實施例1一樣的IT0層，製作作為可動電極基板的透明導電性疊層體。所形成的ITO層的膜厚約為20nm，表面電阻值約為280Q/口。製成ITO膜之後的透明導電疊層體的全部光線透射率為90.1%,模糊值為l.4%。另一方面，用和實施例5同樣的的方法製作的帶有IT0層的固定電極基板和可動電極基板製作圖5所示的透明觸摸面板。從所製作的透明觸摸面板的可動電極側用尖端O.8R的聚縮醛制的筆，進行250g負荷下直線往復30萬次的筆記耐久性試驗。進行筆記耐久性試驗後的透明觸摸面板的電學特性(線性)的測定和光學幹涉層的外觀的觀察。為了確認可動電極基板與固定電極基板的透明導電層之間的粘結現象，用前述筆以任意的壓力推壓透明觸摸面板，使可動電極基板與固定電極基板的透明導電層彼此接觸，研究將筆移動後，可動電極基板與固定電極基板的透明導電層彼此之間有無粘結現象。此外，將透明觸摸面板設置在高清晰彩色液晶畫面上，經由透明觸摸面板觀察液晶畫面的可視度。結果示於表4。[實施例ll〗在厚度為188^101的聚對苯二曱酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制0FW)的一個面上用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3pm的固化樹脂層(1)。其次，在對向面上用混合有二氧化矽粒子的紫外線固化型氨基曱酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3nm的固化樹脂層(2)。在含有二氧化矽的上述固化樹脂層(2)的面上，用棒式塗布法進行實施例7中製作的塗布液L的塗布，在130'C燒結2分鐘後，形成膜厚55nm的高折射率層。接著，用棒式塗布法在前述高折射率層上塗布塗布液R，在60'C乾燥2分鐘後，用強度為160W/cm的高壓水銀燈在累積光量300mJ/cn^的條件下使塗布膜固化，形成膜厚45mn的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，在該低折射率層上，利用組分為氧化銦和氧化錫的重量比為9:1、填充密度為98%的氧化銦-錫靶，用濺射法形成ITO層，製成作為可動電極基板的透明導電性疊層體。所形成的ITO層的膜厚約為20nm，表面電阻值約為280Q/口。製成ITO膜之後的透明導電疊層體的全部光線透射率為90.6%，模糊值為2.5%。另一方面，製作和實施例1一樣的帶有IT0膜的固定電極基板。用所製作的固定電極基板和可動電極基板製作圖5所示的透明觸摸面板。從所製作的透明觸摸面板的可動電極側用尖端O.8R的聚縮醛制的筆，進行250g負荷下直線往復30萬次的筆耐久性試驗。觀察筆記耐久性試驗後的透明觸摸面板的電學特性(線性)及光學幹涉層的外觀。結果示於表4。表4tableseeoriginaldocumentpage42圖3是利用實施例12，13的透明導電性疊層體的觸摸面板。圖中，9表示玻璃基板，5和10表示透明導電層，ll表示點間隔件，1和8表示聚對苯二甲酸乙酯膜，7表示透明彈性層，2，2，，6表示固化樹脂層，4表示低折射率層，3表示高折射率層。同時，由玻璃基板l，透明導電層10和點間隔件11構成固定電極基板，由聚對苯二甲酸乙酯膜1和8，透明彈性層7，固化樹脂層2，2，，6和低折射率層4和高樹折射率層5，透明導電層10構成可動電極基板。為了製作這種觸摸摸面板，首先，在厚度為l.lmm的玻璃基板9的兩個面上利用浸漬塗布法設置Si02膜後，利用濺射法設置厚度18nm的IT0膜作為透明導電層10，製作玻璃電極基板。其次，通過在IT0膜上設置高度7^m，直徑70pm，間距l.5mm的點間隔件11，製作由玻璃電極基板構成的固定電極基板，另一方面，準備厚度75pm的聚對苯二曱酸乙酯膜(帝人杜邦薄膜(林)制OFW)，作為有機高分子膜1和透明基體材料8用。在該聚對苯二甲酸乙酯膜的一個面上塗布含有l%的由"T氨基丙基三乙氧基矽烷水解生成的齊聚物構成的成分的塗布液後，通過在130'C乾燥5分鐘，進行預處理。接著，在經過預處理的面上用含有由聚二曱基矽氧烷構成的有機矽樹脂成分的塗布液Y，設置厚度為30pm的透明彈性層7。該透明彈性層7的楊氏模量為1.4x108Pa。此外，用同樣方法測定的沒有塗布層的聚對苯二甲酸乙酯膜的楊氏模量為5.4x10卞a。將聚對笨二甲酸乙酯膜的預處理面粘貼在該透明彈性層7上，製作由聚對苯二曱酸乙酯膜，透明彈性層，聚對苯二甲酸乙酯膜構成的疊層體R。其次，通過用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料在該疊層體R的兩個面上設置厚度為3nm的固化樹脂層2，6，製作由固化樹脂層2，聚對苯二曱酸乙酯膜l，透明彈性層7，聚對苯二甲酸乙酯膜8，固化樹脂層6構成的疊層體S。將在實施例8中製成的塗布液M利用棒式塗布法塗布到固化樹脂層2的面上，在130"C燒結2分鐘後，形成膜厚50nm的高折射率層。在前述高折射率層上利用棒式塗布法塗布烷氧基矽烷塗布液A，在130'C燒結2分鐘後，形成膜厚45nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，在該低折射率層上，和實施例1一樣形成IT0層，製作的透明導電性疊層體。所形成的IT0層的膜厚約為20nm,表面電阻約為280Q/口。製成ITO膜後的透明導電層的全部光線透射率為91.0%，模糊值為1.7%。另一方面，為了製作實施例13的透明導電性疊層體，在該疊層體R的一個面上，用紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料設置厚度3pm的固化樹脂層6。其次，通過在對向面上用混合有二氧化矽粒子的紫外線固化型氨基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂塗料設置厚度^m的固化樹脂層2，製作由固化樹脂層6，聚對苯二曱酸乙酯膜8，透明彈性膜7，聚對苯二甲酸乙酯膜l，固化樹脂層2，構成的疊層體T。用棒式塗布法將在實施例7中製成的塗布液L塗布到固化樹脂層2，的面上，在130X:燒結2分鐘後，形成厚度50nm的高折射率層。用棒式塗布法將烷氧基矽烷塗布液A塗布到前述高折射率層上，在130"C燒結2分鐘後，形成厚度45nm的低折射率層，製作由高折射率層和低折射率層構成的光學幹涉層。進而，在該低折射率層上，和實施例1一樣形成IT0層，製作成為可動電極基板的實施例15的透明導電性疊層體。所形成的ITO層的膜厚約為20nm，表面電阻約為280n/口。製成ITO膜後的透明導電層的全部光線透射率為90.7%，模糊值為2.8%。用所製作的固定電極基板和可動電極基板製作圖3所示的透明觸摸面板。用尖端為O.8R的聚縮醛制的筆以250g的負荷從製成的透明觸摸面板的可動電極側進行直線往返30萬次的筆記耐久性試驗。觀察筆記耐久性試驗後的透明觸摸面板的電學特性(線性)及光學幹涉層的外觀。結果示於表5。表5實施例全部光線透射率(%)模糊值(%)250g負荷直線往複試驗30萬次的筆記耐久性1290.62.5電學特性、外觀無變化1390.72，8電學特性、外觀無變化工業上的可利用性根據本發明，作為光學幹涉層，利用含有由金屬氧化物及/或44金屬氟化物構成的一次粒徑在100nm以下的超微粒子的烷氧基矽烷的固化物層，並且通過使所逸超微粒子與烷氧基矽烷的重量比例為特定的比例，提供一種成本低，具有優異的透明性，同時可以確保滿足透明觸摸面板所要求的筆記耐久性等高的可靠性的透明導電性疊層體。此外，根據本發明，在由低折射率層和高折射率層構成的光學幹涉層內，作為低折射率層，用烷氧基矽烷的固化物層，作為高折射率層用除烷氧基矽烷之外的以烷氧基金屬為主成分的固化物層，並且，通過在高折射率層中以特定的比例含有由金屬氧化物構成的一次粒徑為100nm以下的超微粒子，提供成本低，具有優異的透明性，可以確保滿足透明觸摸面板所要求的筆記耐久性等高的可靠性的透明導電性疊層體。進而，根據本發明，提供一種適合用於可提供電學特性及外觀不會變化、筆記耐久性優異、沒有粘結現象的良妤的液晶畫面的觸摸面板的透明導電疊層體。權利要求1.一種透明導電性疊層體，在有機高分子膜上疊層有透明導電層，其特徵為，在有機高分子膜的至少一個面上依次疊層光學幹涉層、透明導電性層，光學幹涉層由高折射率層及低折射率層構成，且該低折射率層與透明導電層連接，前述光學幹涉層由交聯聚合物構成，在前述高折射率層與前述低折射率層的至少一個內含有平均一次粒子直徑在該光學幹涉層的膜厚的1.1倍以上、且平均一次粒子直徑在1.2μm以下的微粒子B，前述微粒子B的含量在形成含有該微粒子B的高折射率層及/或低折射率層的交聯聚合物成分的0.5重量％以下。2.如權利要求l所述的透明導電性疊層體，其特徵為，交聯聚合物通過將烷氧基金屬水解縮合聚合形成或者是熱固化型或放射線固化型樹脂。3.如權利要求1或2所述的透明導電性疊層體，其特徵為，高折射率層及低折射率層的至少其中之一，以(超微粒子A):(交聯聚合物)的重量比為l:99~80:20的比例含有平均一次粒子直徑在100nm以下的超微粒子A。4.如權利要求3所述的透明導電性疊層體，其特徵為，前述高折射率層由前述超微粒子A與前述熱固化性樹脂或者放射線固化性樹脂的重量比為5:95~80:20的混合物構成。5.如權利要求l所述的透明導電性疊層體，其特徵為，在前述有機高分子膜與前述光學幹涉層之間具有固化樹脂層。6.如權利要求5所述的透明導電性疊層體，其特徵為，前述固化樹脂層由熱固化型樹脂或放射線固化型樹脂構成，且膜厚為2~5nm。7.如權利要求5所述的透明導電性疊層體，其特徵為，前述固化樹脂層不含有比該樹脂固化層的厚度大的微粒子。8.如權利要求l所述的透明導電性疊層體，其特徵為，前述高折射率層通過將由前述微粒子B和烷氧基金屬構成的混合物水解並縮合聚合形成，前述垸氧基金屬以除烷氧基矽烷之外的金屬醇為主成分，低折射率層通過將烷氧基矽烷水解並縮合聚合形成，前述微粒子B是二氧化矽。9.如權利要求l所述的透明導電性疊層體，其特徵為，在前述有機高分子膜的前述光學幹涉層相反側的面上，經由比該有機高分子膜的楊氏模量小的透明彈性層疊層透明基體材料。10.—種透明觸摸面板，將至少一個面上設置透明導電層的兩個透明電極基板以透明導電層彼此相互面對面地配置構成，其特徵為，至少其中一個透明電極基板採用權利要求l~9中任何一個所述的透明導電性疊層體，11.如權利要求10所述的透明觸摸面板，其特徵為，可動電極基板及固定電極基板兩者採用前述透明導電性疊層體。全文摘要在有機高分子膜的至少一個面上依次疊層光學幹涉層，透明導電層，光學幹涉層由高折射率層和低折射率層構成、且低折射率層與透明導電層連接，光學幹涉層由交聯聚合物構成的透明導電性疊層體中，前述光學幹涉層含有由金屬氧化物及/或金屬氟化物構成的一次粒徑在100nm以下的超微粒子A、以及/或者，在高折射率層和低折射率層的至少其中之一內含有平均一次粒徑在光學幹涉層的膜厚1.1倍以上、並且在1.2μm以下的微粒子B，其含量在交聯聚合物的0.5重量％以下。該透明導電性疊層體用於透明觸摸面板的透明電極基板。文檔編號B32B27/06GK101544075SQ200910137030公開日2009年9月30日申請日期2002年9月3日優先權日2001年9月3日發明者伊藤晴彥,御子柴均,田村優次申請人:帝人株式會社