一種顯影方法及顯影裝置製造方法
2023-06-04 13:01:11 1
一種顯影方法及顯影裝置製造方法
【專利摘要】本發明提供一種顯影方法及顯影裝置，該方法包括：控制基板相對顯影機臺向第一方向傾斜第一角度θ1，控制多個噴嘴在與基板平行的第一平面上，將顯影液均勻地噴灑到基板上進行顯影；控制基板相對顯影機臺向第二方向傾斜第二角度θ2，控制多個噴嘴在與基板平行的第二平面上，將顯影液均勻地噴灑到基板上進行顯影；控制基板相對顯影機臺向第三方向傾斜第三角度θ3，控制多個噴嘴在與基板平行的第三平面上，將顯影液均勻地噴灑到基板上進行顯影；控制基板相對顯影機臺向第四方向傾斜第四角度θ4，控制多個噴嘴在與基板平行的第四平面上，將顯影液均勻地噴灑到基板上進行顯影。上述方案可提高顯影后的光刻圖形的線寬均勻性。
【專利說明】-種顯影方法及顯影裝置
【技術領域】
[0001] 本發明涉及顯影【技術領域】，尤其涉及一種顯影方法及顯影裝置。
【背景技術】
[0002] 在TFT-IXD (薄膜場效應電晶體液晶顯示器）生產過程中，塗布在玻璃基板上的光 刻膠經曝光後需要進行顯影才能得到需要的光刻圖形。
[0003] 如圖1所示，現有技術中，應用於高世代產線的一種顯影方法，玻璃基板2以傾角 Θ沿水平放置的顯影機臺1運動，玻璃基板2與顯影機臺1之間的傾角Θ始終保持不變， 多個噴嘴3均勻地固定於平板形的噴嘴架4上，噴嘴架4設置於玻璃基板2的上方，且噴嘴 架4與玻璃基板2平行。顯影過程中，顯影液被噴嘴3噴灑到玻璃基板2上，其中噴灑到玻 璃基板2的上側邊即a側邊的顯影液與光刻膠發生化學反應後濃度降低，且濃度降低的顯 影液向玻璃基板2的下側邊即b側邊流動，使得直接噴灑到玻璃基板2的b側邊的顯影液被 稀釋，從而導致與玻璃基板2的b側邊的光刻膠發生化學反應的顯影液濃度降低。採用該 種顯影方法製備的光刻圖形的線寬不均勻，由玻璃基板2的a側邊到其b側邊，光刻圖形的 線寬逐漸變寬。對於線寬均勻性要求較高的膜層，就需一種均勻性更好的顯影方法；此外， 目前的顯影方法不能實現局部調節線寬顯影。
【發明內容】
[0004] 本發明的目的是提供一種顯影方法及顯影裝置，可以提高顯影之後獲得的光刻圖 形的線寬均勻性，實現局部調節線寬顯影。
[0005] 本發明所提供的技術方案如下：
[0006] 一種顯影方法，包括如下步驟：
[0007] 控制基板相對於顯影機臺向第一方向傾斜第一角度Θ i，使所述基板的第一側邊 向上、與所述第一側邊位置相對的第二側邊向下，控制設置於所述基板上方的多個噴嘴均 勻排列在與所述基板平行的第一平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴灑到所述 基板上進行顯影，顯影時間為h ;
[0008] 控制基板相對於顯影機臺向第二方向傾斜第二角度θ2，使所述基板的與所述第 一側邊相鄰的第三側邊向上、與所述第三側邊位置相對的第四側邊向下，控制設置於所述 基板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平面上，並通過所述多個噴嘴將顯 影液均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 2 ;
[0009] 控制基板相對於顯影機臺向第三方向傾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述第二 側邊向上、與所述第二側邊位置相對的所述第一側邊向下，控制設置於所述基板上方的多 個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴 灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 3;
[0010] 控制基板相對於顯影機臺向第四方向傾斜第四角度θ4，使所述基板的所述第四 側邊向上、與所述第四側邊位置相對的所述第三側邊向下，控制設置於所述基板上方的多 個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴 灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t4。
[0011] 進一步的，所述方法還包括：
[0012] 重複所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第一方向傾斜第一角度Θ i，使所述基 板的第一側邊向上、與所述第一側邊位置相對的第二側邊向下，控制設置於所述基板上方 的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第一平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻 地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為 tl ;
[0013] 控制基板相對於顯影機臺向第二方向傾斜第二角度Θ2，使所述基板的與所述第 一側邊相鄰的第三側邊向上、與所述第三側邊位置相對的第四側邊向下，控制設置於所述 基板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平面上，並通過所述多個噴嘴將顯 影液均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 2;
[0014] 控制基板相對於顯影機臺向第三方向傾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述第二 側邊向上、與所述第二側邊位置相對的所述第一側邊向下，控制設置於所述基板上方的多 個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴 灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 3;
[0015] 控制基板相對於顯影機臺向第四方向傾斜第四角度Θ4，使所述基板的所述第四 側邊向上、與所述第四側邊位置相對的所述第三側邊向下，控制設置於所述基板上方的多 個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴 灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 4。"。
[0016] 進一步的，所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第一方向傾斜第一角度Θ i，使 所述基板的第一側邊向上、與所述第一側邊位置相對的第二側邊向下，控制設置於所述基 板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第一平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影 液均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t/'、
[0017] 所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第二方向傾斜第二角度Θ 2，使所述基板的 與所述第一側邊相鄰的第三側邊向上、與所述第三側邊位置相對的第四側邊向下，控制設 置於所述基板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平面上，並通過所述多個 噴嘴將顯影液均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 2 "、
[0018] 所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第三方向傾斜第三角度Θ 3，使所述基板的 所述第二側邊向上、與所述第二側邊位置相對的所述第一側邊向下，控制設置於所述基板 上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液 均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 3"、
[0019] 以及，所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第四方向傾斜第四角度Θ4，使所述 基板的所述第四側邊向上、與所述第四側邊位置相對的所述第三側邊向下，控制設置於所 述基板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平面上，並通過所述多個噴嘴將 顯影液均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 4"依次執行。
[0020] 進一步的，所述第一角度、所述第二角度θ2、所述第三角度θ3及所述第四角 度0 4均為大於0°、小於90°的銳角。
[0021] 進一步的，所述第一角度、所述第二角度θ2、所述第三角度θ3及所述第四角 度θ 4相等。
[0022] 進一步的，所述顯影時間h、所述顯影時間t2、所述顯影時間t3及所述顯影時間t 4 相等。
[0023] -種顯影裝置，包括：
[0024] 用於承載基板的顯影機臺；
[0025] 用於噴灑顯影液的多個噴嘴，多個噴嘴位於所述顯影機臺的上方；
[0026] 第一基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第一方向傾斜第一 角度Θ i，並維持傾斜時間為顯影時間h，以使所述基板的第一側邊向上、與所述第一側邊 位置相對的第二側邊向下進行顯影；
[0027] 第二基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第二方向傾斜第二 角度Θ 2，並維持傾斜時間為顯影時間t2，以所述基板的與所述第一側邊相鄰的第三側邊向 上、與所述第三側邊位置相對的第四側邊向下進行顯影；
[0028] 第三基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第三方向傾斜第三 角度Θ 3，並維持傾斜時間為顯影時間t3，以使所述基板的所述第二側邊向上、與所述第二 側邊位置相對的所述第一側邊向下進行顯影；
[0029] 第四基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第四方向傾斜第四 角度Θ 4，並維持傾斜時間為顯影時間t4，以使所述基板的所述第四側邊向上、與所述第四 側邊位置相對的所述第三側邊向下進行顯影；
[0030] 第一噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第一方向傾斜第一角 度Θ i時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第一平 面上；
[0031] 第二噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第二方向傾斜第二角 度θ2時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平 面上；
[0032] 第三噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第三方向傾斜第三角 度Θ 3時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平 面上；
[0033] 第四噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第四方向傾斜第四角 度Θ 4時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平 面上。
[0034] 進一步的，所述第一基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第一升降部件，所述 第一升降部件設置在所述基板的所述第一側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第一側 邊升降；
[0035] 所述第二基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第二升降部件，所述第二升降 部件設置在所述基板的所述第三側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第三側邊升降；
[0036] 所述第三基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第三升降部件，所述第三升降 部件設置在所述基板的所述第二側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第二側邊升降； [0037] 所述第四基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第四升降部件，所述第四升降 部件設置在所述基板的所述第四側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第四側邊升降。
[0038] 進一步的，所述多個噴嘴分布在一平板形的噴嘴架上；
[0039] 所述第一噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第五升降部件，所述第五升降 部件設置在與所述基板的所述第一側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所 述第一側邊相應的第一側升降；
[0040] 所述第二噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第六升降部件，所述第六升降 部件設置在與所述基板的所述第三側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所 述第三側邊相應的第三側升降；
[0041] 所述第三噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第七升降部件，所述第七升降 部件設置在與所述基板的所述第二側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所 述第二側邊相應的第二側升降；
[0042] 所述第四噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第八升降部件，所述第八升降 部件設置在與所述基板的所述第四側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所 述第四側邊相應的第四側升降。
[0043] 本發明的有益效果如下：
[0044] 本發明提供的顯影方法，基板的四個側邊可以依次傾斜向上進行顯影，從而基板 各方向的顯影液與光刻膠發生化學反應的程度基本相同，實現全方位傾斜顯影，提高顯影 液與光刻膠發生化學反應的均勻性，從而提高顯影之後獲得的光刻圖形的線寬均勻性；並 且，可以依據線寬分布調整每一側邊傾斜時的傾角及顯影時間，獲得分布更加均勻的線寬 或者進行局部調節線寬顯影，以進一步滿足工藝需求。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0045] 圖1為現有技術中顯影方法的結構示意圖；
[0046] 圖2為本發明中所提供的顯影方法的流程圖；
[0047] 圖3為本發明的顯影方法中對基板的第一側邊進行顯影的結構示意圖；
[0048] 圖4為本發明的顯影方法中對基板的第三側邊進行顯影的結構示意圖；
[0049] 圖5為本發明的顯影方法中對基板的第二側邊進行顯影的結構示意圖；
[0050] 圖6為本發明的顯影方法中對基板的第四側邊進行顯影的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0051] 以下結合附圖對本發明的原理和特徵進行描述，所舉實例只用於解釋本發明，並 非用於限定本發明的範圍。
[0052] 如圖2所示，本發明提供了一種顯影方法，包括如下步驟：
[0053] 步驟S1、如圖3所示，控制基板100相對於顯影機臺200向第一方向傾斜第一角度 Θ i，使得所述基板1〇〇的第一側邊a向上、與第一側邊a位置相對的第二側邊b向下，控制 設置於所述基板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第一平面上，並通過所述多 個噴嘴將顯影液從基板100上方均勻地噴灑到所述基板100上進行顯影，顯影時間為h;
[0054] 步驟S2、如圖4所示，控制基板100相對於顯影機臺200向第二方向傾斜第二角 度Θ 2，使得所述基板100的與第一側邊a相鄰的第三側邊向上、與第三側邊位置相對的第 四側邊向下，控制設置於所述基板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平面 上，並通過所述多個噴嘴將顯影液從基板100上方均勻地噴灑到所述基板100上進行顯影， 顯影時間為t2;
[0055] 步驟S3、如圖5所示，控制基板100相對於顯影機臺200向第三方向傾斜第三角度 Θ 3，使得所述基板1〇〇的第二側邊b向上、與第二側邊b位置相對的第一側邊a向下，控制 設置於所述基板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平面上，並通過所述多 個噴嘴將顯影液從基板100上方均勻地噴灑到所述基板100上進行顯影，顯影時間為t 3;
[0056] 步驟S4、如圖6所示，控制基板100相對於顯影機臺200向第四方向傾斜第四角度 Θ 4，使得所述基板100的第四側邊向上、與第四側邊位置相對的第三側邊向下，控制設置於 所述基板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平面上，並通過所述多個噴嘴 將顯影液從基板100上方均勻地噴灑到所述基板100上進行顯影，顯影時間為t 4。
[0057] 上述方案中，基板的四個側邊可以分別傾斜向上進行顯影，從而基板各方向上的 顯影液與光刻膠發生化學反應的程度基本相同，實現全方位傾斜顯影，提高顯影液與光刻 膠發生化學反應的均勻性，從而提高顯影之後獲得的光刻圖形的線寬均勻性；並且，本發明 的顯影方法中，可以依據線寬分布調整每一側邊傾斜時的傾角及顯影時間，以獲得分布更 加均勻的線寬，或者進行局部調節線寬顯影。
[0058] 本發明中，優選的，上述步驟S1、步驟S2、步驟S3、步驟S4可以作為一個工藝循環 周期，當工藝需求循環周期為至少兩個時，在完成一個工藝循環周期後，可以重複上述步驟 S1、步驟S2、步驟S3、步驟S4,進行下一個工藝循環周期，直至完成顯影工藝。
[0059] 此外，還需說明的是，本發明的優選實施例中，上述步驟S1、步驟S2、步驟S3、步驟 S4可以是依次執行，S卩，在顯影時，基板的四個側邊按周向順序依次進行顯影。
[0060] 當然可以理解的是，在實際應用中，上述步驟S1、步驟S2、步驟S3、步驟S4也可以 是根據需求按照其他順序執行，例如：可以在執行上述步驟S1之後，執行上述步驟S3,然後 再執行上述步驟S2,最後執行上述步驟S4 ;在此對於上述步驟S1、步驟S2、步驟S3、步驟S4 的執行次序並不作限定。
[0061] 此外，在本發明的優選實施例中，如圖3至圖6所示，在上述步驟S1、步驟S2、步驟 S3、步驟S4中，所述顯影液可以通過設置於基板上方的多個噴嘴300噴灑至所述基板100 上，且所述多個噴嘴300始終均勻排列於與所述基板100平行的平面上。具體地，多個噴嘴 300可以設置在一與基板100平行的噴嘴架400上。通過控制噴嘴架400的傾斜角度，使得 多個噴嘴300在執行每一步驟時，多個噴嘴300的分布平面均與基板100平行，從而保證從 噴嘴300噴出的顯影液均勻地噴灑在基板100上。
[0062] 此外，需要說明的是，本發明中，優選的，所述顯影時間tl、所述顯影時間t2、所述 顯影時間t3及所述顯影時間t4相等。當然，不同設備存在差異性，有可能得到的圖形線寬 仍存在較大偏差，因此，可以依據線寬分布要求調整每一步驟的顯影時間，獲得分布更加均 勻的線寬或者進行局部調節線寬顯影，也就是說，上述步驟S1、步驟S2、步驟S3、步驟S4中 的顯影時間可以相同，也可以不同，具體可根據實際生產需要設定。
[0063] 此外，本發明中，優選的，所述第一角度、所述第二角度θ2、所述第三角度θ3 及所述第四角度94均為大於0°、小於90°的銳角。進一步優選的，，所述第一角度、所 述第二角度θ 2、所述第三角度θ3及所述第四角度θ4相等。當然，不同設備存在差異性， 可以依據線寬分布要求調整每一步驟中基板與顯影機臺的傾角，以獲得分布更加均勻的線 寬或者進行局部調節線寬顯影，也就是說，上述步驟S1、步驟S2、步驟S3、步驟S4中的基板 與顯影機臺的傾角，可以相同，也可以不同，具體可根據實際生產需要設定。
[0064] 本發明的還一個目的是提供一種能夠實現上述顯影方法的顯影裝置，所述顯影裝 置包括：
[0065] 用於承載基板的顯影機臺；
[0066] 用於噴灑顯影液的多個噴嘴，多個噴嘴位於所述顯影機臺的上方；
[0067] 第一基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第一方向傾斜第一 角度Θ i，並維持傾斜時間為顯影時間h，以使所述基板的第一側邊向上、與所述第一側邊 位置相對的第二側邊向下進行顯影；
[0068] 第二基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第二方向傾斜第二 角度Θ 2，並維持傾斜時間為顯影時間t2，以所述基板的與所述第一側邊相鄰的第三側邊向 上、與所述第三側邊位置相對的第四側邊向下進行顯影；
[0069] 第三基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第三方向傾斜第三 角度Θ 3，並維持傾斜時間為顯影時間t3，以使所述基板的所述第二側邊向上、與所述第二 側邊位置相對的所述第一側邊向下進行顯影；
[0070] 第四基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第四方向傾斜第四 角度Θ 4，並維持傾斜時間為顯影時間t4，以使所述基板的所述第四側邊向上、與所述第四 側邊位置相對的所述第三側邊向下進行顯影；
[0071] 第一噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第一方向傾斜第一角 度Θ i時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第一平 面上；
[0072] 第二噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第二方向傾斜第二角 度θ2時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平 面上；
[0073] 第三噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第三方向傾斜第三角 度Θ 3時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平 面上；
[0074] 第四噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第四方向傾斜第四角 度Θ 4時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平 面上。本發明所提供的顯影裝置，可以通過第一基板控制機構、第二基板控制機構、第三基 板控制機構及第四基板控制機構來控制基板相對於顯影機臺分別向基板的四個側邊方向 在預定時間內傾斜預定角度，由此，可以使得基板的四個側邊可以分別傾斜向上進行顯影， 並通過第一噴嘴控制機構、第二噴嘴控制機構、第三噴嘴控制機構及第四噴嘴控制機構使 得在基板向某一方向傾斜一預定角度時，控制多個噴嘴向同一方向傾斜相同角度，以使得 多個噴嘴的分布平面始終與基板保持平行，進而保證了顯影液能夠在基板上均勻噴灑。
[0075] 本發明所提供的顯影裝置，可以實現基板的四個側邊可以分別傾斜向上進行顯 影，從而基板各方向上的顯影液與光刻膠發生化學反應的程度基本相同，實現全方位傾斜 顯影，提高顯影液與光刻膠發生化學反應的均勻性，從而提高顯影之後獲得的光刻圖形的 線寬均勻性；並且，本發明的顯影方法中，可以依據線寬分布調整每一側邊傾斜時的傾角及 顯影時間，以獲得分布更加均勻的線寬，或者進行局部調節線寬顯影。
[0076] 在本發明的具體實施例中，所述第一控制機構可以採用設置於顯影機臺上的升降 裝置實現，優選的，所述第一基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第一升降部件，所述 第一升降部件設置在所述基板的所述第一側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第一側 邊升降；
[0077] 所述第二基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第二升降部件，所述第二升降 部件設置在所述基板的所述第三側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第三側邊升降；
[0078] 所述第三基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第三升降部件，所述第三升降 部件設置在所述基板的所述第二側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第二側邊升降；
[0079] 所述第四基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第四升降部件，所述第四升降 部件設置在所述基板的所述第四側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第四側邊升降。
[0080] 上述方案中，在顯影機臺上與基板的四個側邊對應位置分別設置可以實現升降的 升降部件，某一位置的升降部件上升並保持預定時間，則帶動對應一側的基板的側邊向上， 通過控制每一升降部件的上升距離，即可控制基板的在某一方向上的傾斜角度，同時通過 控制每一升降部件上升至預定位置後的保持時間，即可控制基板的在某一方向上傾斜時的 顯影時間。當然可以理解的是，在實際應用中，所述第一基板控制機構、第二基板控制機構、 第三基板控制機構及第四基板控制機構的結構並不僅局限於此。
[0081] 在本發明的具體實施例中，所述第一噴嘴控制機構、所述第二噴嘴控制機構、所述 第三噴嘴控制機構及所述第四噴嘴控制機構同樣可以採用升降裝置實現，優選的，所述第 一噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第五升降部件，所述第五升降部件設置在與所 述基板的所述第一側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所述第一側邊相應 的第一側升降；
[0082] 所述第二噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第六升降部件，所述第六升降 部件設置在與所述基板的所述第三側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所 述第三側邊相應的第三側升降；
[0083] 所述第三噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第七升降部件，所述第七升降 部件設置在與所述基板的所述第二側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所 述第二側邊相應的第二側升降；
[0084] 所述第四噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第八升降部件，所述第八升降 部件設置在與所述基板的所述第四側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所 述第四側邊相應的第四側升降。
[0085] 上述方案中，多個噴嘴分布於一平板形的噴嘴架上，噴嘴架下方可在與基板的四 個側邊對應位置上設置升降部件，某一位置的升降部件上升並保持預定時間，則帶動對應 一側的噴嘴架一側向上，通過控制每一升降部件的上升距離，即可控制噴嘴架的傾斜角度， 即控制多個噴嘴的分布平面在某一方向上的傾斜角度，同時通過控制每一升降部件上升至 預定位置後的保持時間，即可控制多個噴嘴在該傾斜角度上的噴灑時間。當然可以理解的 是，在實際應用中，所述第一噴嘴控制機構、所述第二噴嘴控制機構、所述第三噴嘴控制機 構及所述第四噴嘴控制機構的結構並不僅局限於此。
[0086] 此外，還需說明的是，為了使得噴嘴架與基板同步傾斜，優選的，所述第一基板控 制機構和所述第一噴嘴控制機構可以採用同一升降部件，所述第二基板控制機構和所述第 二噴嘴控制機構可以採用同一升降部件，所述第三基板控制機構和所述第三噴嘴控制機構 可以採用同一升降部件，所述第四基板控制機構和所述第四噴嘴控制機構可以採用同一升 降部件，以同時帶動基板及噴嘴向同側傾斜。當然，第一基板控制機構、第二基板控制機構、 第三基板控制機構及第四基板控制機構與第一噴嘴控制機構、所述第二噴嘴控制機構、所 述第三噴嘴控制機構及所述第四噴嘴控制機構也可以分別單獨採用不同的升降部件。
[0087] 此外，還需說明的是，以上僅提供的是一種可以本發明的顯影方法的顯影裝置，在 實際生產中，也可以採用其他結構的顯影裝置實現該顯影方法，例如：
[0088] 顯影裝置包括：依次設置的四個顯影腔室；及，輸送裝置；其中四個顯影腔室之間 通過輸送裝置輸送基板，每一顯影腔室內設置多個噴嘴及位於噴嘴下方的顯影機臺，且四 個顯影腔室內的顯影機臺分別可以向第一方向、第二方向、第三方向及第四方向傾斜所述 基板，且四個顯影腔室內的多個噴嘴均勻排列在位於顯影機臺上方、並與顯影機臺平行的 平面上。
[0089] 基板輸送至第一顯影腔室內的顯影機臺上，向第一方向傾斜，利用第一顯影腔室 內的多個噴嘴向基板上噴灑顯影液進行顯影；在第一顯影腔室顯影完成後，基板被輸送裝 置輸送至第二顯影腔室的顯影機臺上，向第二方向傾斜，利用第二顯影腔室內的多個噴嘴 向基板上噴灑顯影液進行顯影；在第二顯影腔室顯影完成後，基板被輸送裝置輸送至第三 顯影腔室的顯影機臺上，向第三方向傾斜，利用第三顯影腔室內的多個噴嘴向基板上噴灑 顯影液進行顯影；在第三顯影腔室顯影完成後，基板被輸送裝置輸送至第四顯影腔室的顯 影機臺上，向第四方向傾斜，利用第四顯影腔室內的多個噴嘴向基板上噴灑顯影液進行顯 影。
[0090] 以上所述是本發明的優選實施方式，應當指出，對於本【技術領域】的普通技術人員 來說，在不脫離本發明所述原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也 應視為本發明的保護範圍。
【權利要求】
1. 一種顯影方法，其特徵在於，包括如下步驟： 控制基板相對於顯影機臺向第一方向傾斜第一角度Θ i，使所述基板的第一側邊向上、 與所述第一側邊位置相對的第二側邊向下，控制設置於所述基板上方的多個噴嘴均勻排列 在與所述基板平行的第一平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴灑到所述基板上 進行顯影，顯影時間為t 1; 控制基板相對於顯影機臺向第二方向傾斜第二角度Θ 2，使所述基板的與所述第一側 邊相鄰的第三側邊向上、與所述第三側邊位置相對的第四側邊向下，控制設置於所述基板 上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液 均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 2; 控制基板相對於顯影機臺向第三方向傾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述第二側邊 向上、與所述第二側邊位置相對的所述第一側邊向下，控制設置於所述基板上方的多個噴 嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴灑到 所述基板上進行顯影，顯影時間為t 3; 控制基板相對於顯影機臺向第四方向傾斜第四角度θ4，使所述基板的所述第四側邊 向上、與所述第四側邊位置相對的所述第三側邊向下，控制設置於所述基板上方的多個噴 嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴灑到 所述基板上進行顯影，顯影時間為t 4。
2. 根據權利要求1所述的顯影方法，其特徵在於，所述方法還包括： 重複所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第一方向傾斜第一角度Θ i，使所述基板的 第一側邊向上、與所述第一側邊位置相對的第二側邊向下，控制設置於所述基板上方的多 個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第一平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴 灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為h ; 控制基板相對於顯影機臺向第二方向傾斜第二角度Θ 2，使所述基板的與所述第一側 邊相鄰的第三側邊向上、與所述第三側邊位置相對的第四側邊向下，控制設置於所述基板 上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液 均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 2 ; 控制基板相對於顯影機臺向第三方向傾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述第二側邊 向上、與所述第二側邊位置相對的所述第一側邊向下，控制設置於所述基板上方的多個噴 嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴灑到 所述基板上進行顯影，顯影時間為t 3 ; 控制基板相對於顯影機臺向第四方向傾斜第四角度θ4，使所述基板的所述第四側邊 向上、與所述第四側邊位置相對的所述第三側邊向下，控制設置於所述基板上方的多個噴 嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴灑到 所述基板上進行顯影，顯影時間為t 4。"。
3. 根據權利要求1所述的顯影方法，其特徵在於， 所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第一方向傾斜第一角度Θ i，使所述基板的第一 側邊向上、與所述第一側邊位置相對的第二側邊向下，控制設置於所述基板上方的多個噴 嘴均勻排列在與所述基板平行的第一平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻地噴灑到 所述基板上進行顯影，顯影時間為t/'、 所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第二方向傾斜第二角度Θ 2，使所述基板的與所 述第一側邊相鄰的第三側邊向上、與所述第三側邊位置相對的第四側邊向下，控制設置於 所述基板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平面上，並通過所述多個噴嘴 將顯影液均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 2 "、 所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第三方向傾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述 第二側邊向上、與所述第二側邊位置相對的所述第一側邊向下，控制設置於所述基板上方 的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影液均勻 地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 3"、 以及，所述步驟"控制基板相對於顯影機臺向第四方向傾斜第四角度θ4，使所述基板 的所述第四側邊向上、與所述第四側邊位置相對的所述第三側邊向下，控制設置於所述基 板上方的多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平面上，並通過所述多個噴嘴將顯影 液均勻地噴灑到所述基板上進行顯影，顯影時間為t 4"依次執行。
4. 根據權利要求1所述的顯影方法，其特徵在於， 所述第一角度、所述第二角度θ2、所述第三角度03及所述第四角度04均為大於 0°、小於90°的銳角。
5. 根據權利要求1所述的顯影方法，其特徵在於， 所述第一角度、所述第二角度θ2、所述第三角度θ3及所述第四角度θ4相等。
6. 根據權利要求1所述的顯影方法，其特徵在於， 所述顯影時間h、所述顯影時間t2、所述顯影時間t3及所述顯影時間t4相等。
7. -種顯影裝置，其特徵在於，包括： 用於承載基板的顯影機臺； 用於噴灑顯影液的多個噴嘴，多個噴嘴位於所述顯影機臺的上方； 第一基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第一方向傾斜第一角度 Θ i，並維持傾斜時間為顯影時間&，以使所述基板的第一側邊向上、與所述第一側邊位置相 對的第二側邊向下進行顯影； 第二基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第二方向傾斜第二角度 θ2，並維持傾斜時間為顯影時間&，以所述基板的與所述第一側邊相鄰的第三側邊向上、與 所述第三側邊位置相對的第四側邊向下進行顯影； 第三基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第三方向傾斜第三角度 Θ 3，並維持傾斜時間為顯影時間t3，以使所述基板的所述第二側邊向上、與所述第二側邊位 置相對的所述第一側邊向下進行顯影； 第四基板控制機構，用於控制所述基板相對於所述顯影機臺向第四方向傾斜第四角度 θ4，並維持傾斜時間為顯影時間、，以使所述基板的所述第四側邊向上、與所述第四側邊位 置相對的所述第三側邊向下進行顯影； 第一噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第一方向傾斜第一角度 Θ i時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第一平面 上； 第二噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第二方向傾斜第二角度 Θ 2時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第二平面 上； 第三噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第三方向傾斜第三角度 Θ 3時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第三平面 上； 第四噴嘴控制機構，用於在所述基板相對於所述顯影機臺向第四方向傾斜第四角度 Θ 4時，控制設置於所述基板上方的所述多個噴嘴均勻排列在與所述基板平行的第四平面 上。
8. 根據權利要求7所述的顯影裝置，其特徵在於， 所述第一基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第一升降部件，所述第一升降部件 設置在所述基板的所述第一側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第一側邊升降； 所述第二基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第二升降部件，所述第二升降部件 設置在所述基板的所述第三側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第三側邊升降； 所述第三基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第三升降部件，所述第三升降部件 設置在所述基板的所述第二側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第二側邊升降； 所述第四基板控制機構包括：設置在顯影基臺上的第四升降部件，所述第四升降部件 設置在所述基板的所述第四側邊對應位置，用於帶動所述基板的所述第四側邊升降。
9. 根據權利要求7所述的顯影裝置，其特徵在於， 所述多個噴嘴分布在一平板形的噴嘴架上； 所述第一噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第五升降部件，所述第五升降部件 設置在與所述基板的所述第一側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所述第 一側邊相應的第一側升降； 所述第二噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第六升降部件，所述第六升降部件 設置在與所述基板的所述第三側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所述第 三側邊相應的第三側升降； 所述第三噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第七升降部件，所述第七升降部件 設置在與所述基板的所述第二側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所述第 二側邊相應的第二側升降； 所述第四噴嘴控制機構包括：與所述噴嘴架連接的第八升降部件，所述第八升降部件 設置在與所述基板的所述第四側邊對應位置，用於帶動所述噴嘴架的與所述基板的所述第 四側邊相應的第四側升降。
【文檔編號】G03F7/30GK104062857SQ201410258414
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年6月11日 優先權日:2014年6月11日
【發明者】馮賀, 吳洪江, 王聳, 楊同華, 董明 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司