有機el裝置、有機el裝置的製造方法、和電子設備的製作方法

2023-06-05 20:05:21 6

專利名稱：有機el裝置、有機el裝置的製造方法、和電子設備的製作方法
技術領域：
本發明涉及有機EL裝置、有機EL裝置的製造方法、以及電子設備。
技術背景有機EL裝置是不需要背光燈等光源的自發光元件。有機EL裝置具 備在基板上設置有多個發光元件的構成，所述的發光元件是用一對電極夾 持由有機EL材料構成的發光層的構成，根據來自發光層的光的取出方向 的不同，可以分類為從基板取出光的底部發射結構、和從對置面取出光的 頂部發射結構。在頂部發射結構的有機EL裝置中，各像素由對像素電極(第一電極) 進行劃分並形成大致矩形形狀的開口部的隔壁形成。在夾持發光層的一對 電極當中，共用電極(第二電極)被配置在射出光的一側。此外，該共用 電極使用具有透光性的導電材料例如ITO (銦錫氧化物)或IZO (銦鋅氧 化物)等。ITO膜或IZO膜與金屬膜相比，其電阻更大，所以引起共用電極內的 電壓梯度。為此，電壓在共用電極內不均勻，成為有機EL裝置的畫質降 低的原因。為了消除該共用電極內的電壓不均衡，在共用電極上，在形成有各像 素的隔壁上與共用電極接觸的位置設置有電阻小的輔助布線。由此，防止 有機EL裝置的畫質降低。(專利文獻l、專利文獻2、專利文獻3、專利 文獻4)專利文獻l:特開2001 — 195008公報 專利文獻2:特開2003—288994公報 專利文獻3:特開2004—207217公報 專利文獻4:特開2005—235491公報但是，上述的有機EL裝置存在如下所述的問題。
輔助布線在形成像素區域的隔壁上形成，除了形成開口部所必需的區 域之外，必須確保輔助布線的區域和輔助布線的製造邊緣所必需的區域來 形成隔壁，所以每個像素的數值孔徑不夠充分。特別是在像素被微細化的
有機EL裝置中，其影響更大。
為此，為了得到足夠的光量，需要流過大量電流，結果給發光層等帶 來大的負荷，縮短有機EL裝置的壽命。

發明內容
本發明的目的在於，提供一種具有與各像素對應形成的有機功能層的 有機EL裝置，其可提高每個像素的數值孔徑並能實現長壽命化，還提供 該有機EL裝置的製造方法。
本發明是以下述構成為特徵的有機EL裝置、有機EL裝置的製造方 法、以及電子設備。
(1) 一種有機EL裝置，其在基板上具有與各像素對應形成的有機功 能層，該有機EL裝置具有第一電極，其與所述各像素對應；隔壁，其 對所述第一電極進行劃分，形成開口為近似矩形狀的像素區域；有機功能 層，其至少形成於所述像素區域；第二電極，其形成在所述有機功能層上 和所述隔壁上；和輔助布線，其層疊在所述第二電極的上面或下面，對所 述第二電極的導電性進行輔助；所述輔助布線至少以橫截所述像素區域的 長邊的方式配置。在具有該結構的有機EL裝置中，由於在像素區域上形 成輔助布線，所以可以不需要隔壁的輔助布線的區域、和用於確保輔助布 線的製造邊緣的區域，而使隔壁的幅度狹窄。由此，能較寬地形成開口部、 提高每個像素的數值孔徑、能以更好的電流得到足夠的光量，所以可以延 長有機EL裝置的壽命。
(2) —種有機EL裝置的製造方法，所述有機EL裝置在基板上具有 與各像素對應形成的有機功能層，該有機EL裝置的製造方法包括形成 與所述各像素對應的第一電極的工序；形成隔壁的工序，所述隔壁對所述 第一電極進行劃分，並形成開口為近似矩形狀的像素區域；至少在所述像 素區域形成有機功能層的工序；在所述有機功能層上和所述隔壁上形成第二電極的工序；和在所述第二電極的上面或下面形成輔助布線的工序，所 述輔助布線至少以橫截所述像素區域的長邊的形狀配置。如果使用該製造 方法，則所述輔助布線與形成在隔壁上的情況相比，被配設成具有足夠的 製造邊緣，所以產品的有效利用率提高，製造成本降低。(3) 在所述(2)記載的有機EL裝置的製造方法中，配設上述輔助 布線的工序是使用掩模蒸鍍法進行的。通過使用掩模蒸鍍法，可以不使用 光刻法等需要很多工序的製造方法，所以可以削減製造成本。另外，通過 使用掩模，能以良好的精度配設上述輔助布線。(4) 在所述(2)或(3)記載的有機EL裝置的製造方法中，形成上 述有機功能層的工序是使用蒸鍍法進行的。通過使用蒸鍍法，不需要在上 述隔壁的下部形成由無機化合物構成的隔壁，所以可以實現製造工序的壓 縮以及成本的降低。(5) 在上述(2) (4)的任一項記載的有機EL裝置的製造方法中， 形成上述第二電極的工序是使用蒸鍍法進行的。通過使用蒸鍍法形成第二 電極，可以不使第二電極的原料浸透有機功能層或隔壁而形成第二電極。 另外，由於利用蒸鍍法形成有機功能層、第二電極、和輔助布線，還由於 在同一蒸鍍裝置內形成有機功能層、第二電極、和輔助布線，所以可以實 現製造工序的壓縮以及製造成本的降低。(6) —種電子設備，其中具備所述(1)記載的有機EL裝置、或通 過所述(2) (5)的任一項記載的有機EL裝置的製造方法製造的有機 EL裝置。根據該構成，可以提供可靠性高且發光特性出色的電子設備。


圖1是有機EL裝置1的等效電路圖。圖2是有機EL裝置1的俯視圖。圖3是有機EL裝置1的實際顯示區域4的放大圖。圖4是圖3的有機EL裝置1的X—X截面圖。圖5是表示有機EL裝置1的製造工序的工序圖。圖6是將有機EL裝置1用於行動電話的顯示部的例子的概略構成圖。圖7是以往的構成的實際顯示區區域204的俯視圖。圖中2 —基板，5 —驅動用TFT， 14—像素電極，15 —有機功能層， 17 —隔壁，18 —空穴注入/輸送層，19一白色的發光層，20—電子注入/輸 送層，21 —共用電極，22 —輔助布線，23 —保護膜，24—對置基板，25 — 濾色器，26—黑矩陣圖案。
具體實施例方式
以下，使用附圖對本發明的有機EL裝置1的構成和有機EL裝置1 的製造方法進行說明。其中，本實施方式涉及頂部發射結構的有機EL裝 置1和其製造方法，該有機EL裝置1對發光層採用發白色光的有機EL 材料，在對置基板具備濾色器，由此進行彩色顯示。該發明的實施方式僅 是本發明的一個實施方式，並不對本發明進行限定，可以在本發明的技術 思想的範圍內進行任意變更。另外，在以下的附圖中，為了容易理解各構 成，實際的結構和各結構的比例尺或數量等不同。
另外，在以下的說明中，設定XYZ正交坐標系，參照XYZ正交坐標 系說明各構件的位置關係。此時，將水平面內的規定方向設為X軸方向， 將水平面內與X軸方向正交的方向設為Y軸方向，將分別與X軸方向和 Y軸方向正交的方向(即垂直方向)設為Z軸方向。
圖1是本發明的有機EL裝置1的等效電路圖。有機EL裝置1具備: 在X軸方向上延伸的多條掃描線101、在與掃描線101交叉的方向(Y軸 方向)上延伸的多條信號線102、與信號線102平行延伸的多條發光用電 源布線103。在掃描線101和信號線102的交點附近設置有像素區域A。
信號線102與具備移位寄存器、電平移動器、視頻線、和模擬開關的 數據側驅動電路104電連接。另外，各信號線102與具備薄膜電晶體的檢 查電路106電連接。進而，掃描線101與具備移位寄存器和電平移動器的 掃描側驅動電路105電連接。
在各像素區域A設置有由開關用TFT112、保持電容C、驅動用TFT5、 像素電極(第一電極)14、有機功能層15、和共用電極(第二電極)21 構成的像素電路。開關用TFT112的柵電極與掃描線101電連接。開關用TFT112根據從掃描線101提供的掃描信號成為導通狀態或截止狀態，借 助開關用TFT112從信號線102提供的圖像信號被保持電容C所保持。驅動用TFT5的柵電極與開關用TFT112和保持電容C電連接，由保 持電容C保持的圖像信號被提供給柵電極。像素電極14與驅動用TFT5 電連接，藉助驅動用TFT5從發光用電源布線103提供驅動電流。有機功 能層15由包括白色發光層的3層構成，且被夾持在像素電極14和共用電 極21之間。作為發光元件的有機EL元件含有像素電極14、有機功能層 15和共用電極2而構成。作為有機功能層15，形成有通過濾色器發出紅色光的紅色像素用的有 機功能層15R、通過濾色器發出綠色光的綠色像素用的有機功能層15G、 和通過濾色器發出藍色光的藍色像素用的有機功能層15B。有機功能層 15R、 15G、 15B分別沿著Y軸方向被大致配置成條紋狀，各有機功能層 按照有機功能層15R、有機功能層15G、有機功能層15B的順序在X軸方 向上周期性配置。有機功能層15R、 15G、 15B分別藉助驅動用TFT5與發 光用電源布線103R、 103G、 103B電連接，發光用電源布線103R、 103G、 103B分別與發光用電源電路133電連接。在共用電極21和發光用電源布線103R、 103G、 103B之間設置有第 一靜電電容C1。在第一靜電電容C1中存儲電荷，當在有機EL裝置1的 驅動中流過各發光用電源布線103的驅動電流的電位發生變動時，在第一 靜電電容C1中存儲的電荷被各發光用電源布線103放電，來抑制驅動電 流的電位變動。在上述構成的有機EL裝置1中，當從掃描線101提供掃描信號使開 關用TFT112處於導通狀態時，此時的信號線102的電位被保持電容C保 持，根據由保持電容C保持的電位決定驅動用TFT5的導通或截止狀態。 此外，藉助驅動用TFT5的溝道，從發光用電源布線103R、 103G、 103B 向像素電極14流過驅動電流，進而藉助有機功能層15R、 15G、 15B向共 用電極21流過電流。此時，從有機功能層15得到與流過有機功能層15 的電流量相對應的量的發光。圖2是有機EL裝置1的俯視圖。關於有機EL裝置1的平面結構， 使用圖2進行說明。本實施方式的有機EL裝置1具有頂部發射結構，因此以透明基板或不透明基板為基體，在基板2的中央部設置有發光用電源布線103 (103R、 103G、 103B)和顯示像素部(圖2中單點劃線的框內)。 在顯示像素部3的中央部設置有包括多個像素區域A的俯視下大致為矩形 狀的實際顯示區域4 (圖中雙點劃線的框內)，沿著實際顯示區域4的外周 設置有掃描線驅動電路105、 105和檢查電路106。在基板2的與X軸平 行的一個邊上設置有形成多個端子104的端子部2A。此外，沿著與該邊 鄰接的兩個邊分別設置有掃描線驅動電路105，在剩下的一個邊設置有檢 査電路106。在掃描線驅動電路105的外側設置有與掃描線驅動電路105 電連接的掃描線驅動電路用控制信號布線105a和掃描線驅動電路用電源 布線105b。顯示像素部3具備中央部的實際顯示區域4、和在實際顯示區域4的 周圍配置的虛擬區域D (點劃線和雙點劃線之間的區域)。在實際顯示區 域4有多個像素區域A配置成矩陣狀。掃描線驅動電路105、檢查電路106、 掃描線驅動電路用控制信號布線105a以及掃描線驅動電路用電源布線 105b，被設置在作為實際顯示區域4的周邊區域的虛擬區域D上，發光用 電源布線103 (103R、 103G、 103B)被設置在虛擬區域5的周圍(即顯示 像素部3的周圍)。發光用電源布線103沿著掃描線驅動電路用控制信號布線105a和檢 查電路106的外側被設置成俯視下L字狀。與紅色像素(R)連接的發光 用電源布線103R沿著圖2左側的掃描線驅動電路用控制信號布線105a在 Y軸方向上延伸，從掃描線驅動電路用控制信號布線105a中斷的位置向 圖示右側彎曲，沿著檢查電路106的外側在X軸方向上延伸。與綠色像素 (G)或藍色像素(B)連接的發光用電源布線103G或103B沿著圖示右 側的掃描線驅動電路用控制信號布線105a在Y軸方向上延伸，從掃描線 驅動電路用控制信號布線105a中斷的位置向圖示左側彎曲，沿著檢查電 路106的外側在X軸方向延伸。發光用電源布線103R、 103G、 103B被配 置成包圍顯示像素部3的3個邊，通過圖示省略的布線與像素A電連接。在發光用電源布線103R、 103G、 103B的外側設置有共用電極用布線 21a。共用電極用布線21a沿著基板2的設置有柔性布線基板130的邊以 外的3個邊被設置成俯視下為3字形，被配置成包圍發光用電源布線103R、 103G、 103B的外側。共用電極21被設置在包括實際顯示區域4 和設置有共用電極用布線21a的區域的基板2的大致整個面，在共用電極 21和共用電極用布線21a重疊的部分，共用電極21和共用電極用布線21a電連接。基板2的端子部2A與布線基板130電連接。布線基板130將具有撓 性的塑料制基材作為基體，在該基材的基板2側的邊端部設置有多個端子 132a。端子132a與布線132連接，在布線132上安裝有圖1所示的控制 用IC134，該控制用IC134包括數據側驅動電路104、共用電極用電源電 路131、以及發光用電源電路133。圖3是有機EL裝置1的實際顯示區域4的放大圖。如圖3所示，構 成像素區域A的有機功能層15R、 15G、 15B形成在藉助隔壁17開口大致 為矩形的像素電極14 (未圖示)上。輔助布線22橫截橫一列排列有多個 的像素區域A的長度方向(Y方向)的中央部、和與像素區域A的長邊 鄰接的隔壁17而在X方向上延伸，以將像素區域A截斷成多個區域的狀 態形成。圖4是圖3的有機EL裝置1的X—X截面圖。以下使用圖4說明有 機EL裝置1的構成。在是頂部發射結構的有機EL裝置1的情況下，由 於是藉助第二電極21取出光的構成，因此，作為基板2，除了使用玻璃等 透明基板之外，還可以使用不透明基板。作為不透明基板，例如可以舉出 氧化鋁等陶瓷、對不鏽鋼等金屬片實施表面氧化等絕緣處理的基板、或熱 固化性樹脂或熱塑性樹脂等。另外，在基板2上形成有驅動用TFT5。該驅動用TFT5構成為包括 在半導體膜6上形成的源極區域5a、漏極區域5b、以及溝道區域5c、和 隔著在半導體膜6的表面形成的柵極絕緣膜7而與溝道區域5c對置的柵 電極5d。另外，形成覆蓋半導體模6以及柵極絕緣膜7的第一層間絕緣膜 8，在該第一層間絕緣膜8表面、和貫通第一層間絕緣膜8到達半導體膜6 的接觸孔9、 10，分別設置漏電極ll、源電極12，這些電極ll、 12分別 與漏極區域5b、源極區域5a導電連接。在第一層間絕緣膜8上形成第二 層間絕緣膜13使其平坦化。在該第二層間絕緣膜13上形成有像素電極14，在有機EL元件中作為陽極使用。像素電極14的一部分被埋設於貫通設置在第二層間絕緣膜 13的接觸孔中，與漏電極ll導電連接。另外，在一部分跨越像素電極14的周緣部的方式層疊有由有機材料 構成的隔壁17，隔壁17在像素電極14上以俯視下開口近似矩形的形式設 置，形成為像素區域A的開口部。在具備像素電極14、該像素電極14上形成的空穴注入/輸送層18、該 空穴注入/輸送層18上形成的白色的發光層19、該發光層19上形成的電 子注入/輸送層20、以及該電子注入/輸送層20上形成的共用電極(第二電 極)21的有機EL元件中，空穴注入/輸送層18、發光層19、電子注入/ 輸送層20構成有機功能層15。在有機功能層15和共用電極21之間，輔助布線22以與像素區域A 的長邊交叉且橫截像素區域A的方式延伸形成。輔助布線22使用電阻低 的材質，其設置目的在於防止在後述的共用電極21內產生的電位差。在 本實施方式中，由於按照與像素區域A的長邊交叉且橫截像素區域A的 方式形成輔助布線22，假設在掩模的對位不充分等情況下，即使發生輔助 布線22的錯位，也不會對發光區域的大小造成影響。允許該錯開幅度為 像素的長邊的長度的量。為此，可以較大地採取製造邊緣，提高產品的有 效利用率，降低製造成本。另外，可以使隔壁17的幅度狹窄，提高每個 像素的數值孔徑。輔助布線22形成在將像素區域A分割成多個的位置。即，輔助布線 22被配置成與像素區域A的短邊不重疊。這是因為，當與短邊重疊時， 發光區域的面積發生變化，顯示亮度變得不均勻。在有機EL元件中，共用電極21發揮陰極的功能。作為共用電極21 的材質，使用具有透光性和導電性的材料，例如可以舉出MgAg (鎂銀)、 ITO (銦錫氧化物)、IZO (銦鋅氧化物)等。但是，使用這些材質形成薄 膜與金屬膜相比電阻大，在大規模的有機EL裝置1中，在共用電極21內 部在靠近電源的周邊部和遠離電源的中心部之間電位差。為此，如上所述， 設置輔助布線22，防止共用電極21內的電位差的產生。在共用電極21的表面，覆蓋共用電極21地設置有保護膜23。保護膜 23覆蓋共用電極21的整個表面而設置在基板2的大致整個面上，防止大氣中的氧氣或水蒸氣引起的腐蝕。保護膜23從透明性、密接性、耐水性等方面出發優選由矽氧氮化物等無機化合物形成。在保護膜23的表面根據需要設置有包括緩衝層、阻氣層(第二保護膜)的密封層。其中，輔助布線22形成在共用電極21的下面已如上所述，但還可以 形成在共用電極21的上面，此時由保護膜23覆蓋共用電極21和輔助布 線22。進而，與基板2對置地設置對置基板24。在該對置基板24上形成有 與三原色的各顏色(R、 G、 B)對應的濾色器25和遮光用的BM (黑矩 陣BlackMatrix)圖案26。另外，對置基板24被設置成基板2側的像素 區域A與濾色器25對置。其中，該對置基板26使用玻璃等具有透明性的 基板。在本實施方式中，還可以為將像素區域A分塗成R(發出紅色光的有 機功能層)、G (發出綠色光的有機功能層)、B (發出藍色光的有機功能 層)的構成，但伴隨掩模製作或掩模使用，製造工序增加，由此與使用濾 色器25的方法相比製造成本增加。[有機EL裝置的製造方法]圖5是表示本發明的有機EL裝置1的製造方法的工序圖。接著，使 用圖5對有機EL裝置1的製造方法進行說明。在本實施方式中，通過實 施在基板2上形成各種布線或驅動用TFT5等的工序、在該驅動用TFT5 上形成像素電極14的工序、在該像素電極14上形成隔壁17的工序、在 該隔壁上形成有機功能層15的工序、在有機功能層15上形成輔助布線22 的工序、形成覆蓋有機功能層15和輔助布線22的共用電極21的工序， 來製造有機EL裝置1。在這些工序中，形成各種布線或驅動用TFT5等的 工序與眾所周知的工序相同，所以對其以後的工序進行說明。 (1)像素電極首先，如圖5 (a)所示，準備在基板2上形成驅動用TFT5、且覆蓋 驅動用TFT5地形成了第二層間絕緣膜13的構件。第二層間絕緣膜13在 漏電極11上具有開口部。其表面使用濺射法將鋁、ITO、 IZO等全面成膜， 然後使用光刻法或蝕刻法形成圖案，由此形成如圖5 (b)所示的像素電極14。其中，本實施方式的有機EL顯示裝置1如前所述具有頂部發射結構， 所以像素電極14不必為透明，可以由適當的導電材料形成。(2) 隔壁形成工序接著，如圖5 (c)所示，在第二層間絕緣膜13、像素電極14上形成 隔壁17。該隔壁17例如可以使用丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂等具有耐熱 性、耐溶劑性的有機樹脂作為材料。就隔壁17而言，通過旋塗、浸塗等 將在溶劑中溶解了丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂等有機樹脂而成的溶液塗敷 在第二層間絕緣膜13和像素電極14上，使溶劑乾燥，進行熱處理，由此 形成。此外，成為像素區域A的開口部是通過利用光刻法使隔壁17形成 圖案而設置的。對於如此形成至隔壁17的構件，接著進行等離子處理。該等離子處 理是使像素電極14的電極面14a活化的處理，其主要目的在於像素電極 14的電極面14a的表面清潔、功函數的調整等。(3) 有機功能層形成工序接著，如圖5 (d)所示，在像素電極14、隔壁17的整個面形成空穴 注入/輸送層18，進而在其上形成發光層19，進而在其上形成電子注入/ 輸送層20，由此形成有機功能層。空穴注入/輸送層18、發光層19以及電 子注入/輸送層20通過基於眾所周知的蒸鍍法向各層蒸鍍適當的蒸鍍材料 而形成。作為發光層19的蒸鍍材料，可以使用能發出白色螢光或磷光的公知 低分子材料，例如可以使用蒽或芘、8 —羥基喹啉鋁、雙苯乙烯基蒽衍生 物、四苯基丁二烯衍生物、香豆素衍生物、噁二唑衍生物、二苯乙烯基苯 衍生物、吡咯並吡啶衍生物、perinone衍生物、環戊二烯衍生物、噻二唑 並吡啶衍生物，或者向這些低分子材料摻雜紅熒烯、喹吖酮衍生物、吩噁 嗪酮衍生物、DCM、 DCJ、 perinone、 二萘嵌苯衍生物、香豆素衍生物、 二氮苯並二茚衍生物等後使用。另外，作為電子注入/輸送層20的蒸鍍材 料，可以使用LiF等鹼金屬的氟化物或氧化物、鎂鋰合金等。(4) 輔助布線形成工序接著，如圖5 (d)所示，利用掩模蒸鍍法在多個像素區域A以直線 狀將其橫截的方式形成輔助布線22。輔助布線22使用的材質是鋁等電阻小的材質。(5)共用電極形成工序此外，如圖5 (d)所示，在覆蓋電子注入/輸送層20和輔助布線22 的整個面上形成共用電極21。該共用電極21通過使用了鎂銀、ITO、 IZO 等具有透光性、導電性的材質的蒸鍍法而形成。上述(3)、 (4)、 (5)的各工序都使用蒸鍍法進行功能層等的成膜， 可以在同一裝置內連續作業，所以具有製造工序的壓縮和與其相伴隨的制 造成本的削減的效果。[電子設備]接著，使用圖6對具備本發明的有機EL裝置的電子設備的實施方式 進行說明。圖6是有關將作為本發明的有機EL裝置的一例的圖1的有機 EL裝置1用於行動電話的顯示部的例子的概略構成圖。該圖所示的移動 電話1300具備上述實施方式的有機EL裝置作為小尺寸的顯示部1301， 還具備多個操作按鈕1302、受話口 1302、以及送話口 1304而構成。上述 各實施方式的有機EL裝置不限於上述行動電話，還可以適當用作電子書、 投影儀、個人電腦、數位相機、電視顯影機、取景器型或監視器直視型的 磁帶錄像機、汽車導航裝置、尋呼機、電子記事本、臺式電子計算機、文 字處理器、工作站、電視電話、POS終端、具備觸摸面板的設備等的圖像 顯示機構，通過成為該構成，可以提供壽命長且發光特性出色的電子設備。[實施例]在本實施例中製作的有機EL裝置1具有200ppi (Pixel Per Inch)的 實際顯示區域4。就各部分的尺寸而言，如圖3所示，l個像素為127um X127Pm、像素區域A為(46+46) umX22.3um，輔助布線22的寬度 為15um，像素區域A的間隔為20iim。使用這些數值計算每個像素的數 值孔徑，大約為38.2。/^。就像素電極14而言，在漏電極11和第二層間絕緣膜13的表面，利 用全面濺射使鋁成膜，然後使用光刻法和蝕刻法使該薄膜形成圖案，由此 形成。就構成有機功能層15的空穴注入/輸送層18、白色的發光層19、電子 注入/輸送層20而言，通過蒸鍍到像素電極14和隔壁17的整個面上而形 成。輔助布線22是通過使用掩模蒸鍍鋁而形成。輔助布線22的厚度為 400nm。共用電極21是通過在電子注入/輸送層20的整個面上蒸鍍MgAg而 形成。在利用以上的工序製作的有機EL裝置1中，輔助布線22設置成以一 直線橫截橫一列排列了多個的像素區域A的長度方向的中央部、和與長邊 鄰接的隔壁17的狀態，像素區域A被截斷成夾持輔助布線22的2個區域。作為比較例，可以舉出在隔壁217上形成輔助布線222的以往構成。 圖7是在隔壁217上形成輔助布線222的情況下的有機EL裝置的放大圖。 該比較例也是具有200ppi (Pixel Per Inch)的實際顯示區域204的有機EL 裝置，各部分的尺寸如下所示。1個像素為127ymX127um、像素區域 A為72umX22.3um，輔助布線222的寬度為15 u m，像素區域A的間 隔為20um。另外，在該比較例中，因錯位而未在像素區域A形成輔助布 線222，所以輔助布線222和像素區域A的間隔20 u m作為輔助布線222 的製造邊緣是必要的。使用這些數值計算數值孔徑，大約為29.9%。本實 施例的數值孔徑大約為38.2%，所以通過應用本實施例，大約38.2% 29.9 % = 8.3%，數值孔徑得到提高。使在本實施例中製作的有機EL裝置1點亮，結果沒有由輔助布線22 引起的像素區域A的截斷的影響，在外觀上不存在問題。
權利要求
1、一種有機EL裝置，其在基板上具有與各像素對應形成的有機功能層，該有機EL裝置具有第一電極，其與所述各像素對應；隔壁，其對所述第一電極進行劃分，形成開口為近似矩形狀的像素區域；有機功能層，其至少形成於所述像素區域；第二電極，其形成在所述有機功能層上和所述隔壁上；和輔助布線，其層疊在所述第二電極的上面或下面，對所述第二電極的導電性進行輔助；所述輔助布線與所述像素區域的長邊交叉並橫截像素區域，將所述像素區域分割成多個區域。
2、 一種有機EL裝置的製造方法，所述有機EL裝置在基板上具有與 各像素對應形成的有機功能層，該有機EL裝置的製造方法包括 形成與所述各像素對應的第一電極的工序；形成隔壁的工序，所述隔壁對所述第一電極進行劃分，並形成開口為近似矩形狀的像素區域；至少在所述像素區域形成有機功能層的工序； 在所述有機功能層上和所述隔壁上形成第二電極的工序；和 在所述第二電極的上面或下面形成輔助布線的工序，所述輔助布線與所述像素區域的長邊交叉並橫截像素區域，將所述像素區域分割成多個區域。
3、 根據權利要求2所述的有機EL裝置的製造方法，其特徵在於， 形成所述輔助布線的工序利用掩模蒸鍍法進行。
4、 根據權利要求2或3所述的有機EL裝置的製造方法，其特徵在於, 形成所述有機功能層的工序利用蒸鍍法進行。
5、 根據權利要求2 4中任一項所述的有機EL裝置的製造方法，其 特徵在於，形成所述第二電極的工序利用蒸鍍法進行。
6、 一種電子設備，其中具備權利要求1所述的有機EL裝置、或通過權利要求2 5中任一項所述 的有機EL裝置的製造方法製造的有機EL裝置。
全文摘要
一種具有與各像素對應形成的有機功能層的有機EL裝置，是提高每個像素的數值孔徑並實現長壽命化的有機EL裝置，還提供該有機EL裝置的製造方法。在基板上具有與各像素分別對應形成的有機功能層(15R、15G、15B)的有機EL裝置，其中具有與各像素區域(A)對應的像素電極、對像素電極進行劃分且形成開口為近似矩形形狀的像素區域(A)的隔壁(17)、至少在像素區域(A)形成的有機功能層(15R、15G、15B)、在有機功能層(15R、15G、15B)上和隔壁(17)上形成的共用電極、和在共用電極的上面或下面層疊且對共用電極的導電性進行輔助的輔助布線(22)，輔助布線(22)與像素區域(A)長邊交叉而橫截像素區域(A)，將像素區域(A)截斷成多個區域。
文檔編號H05B33/22GK101242690SQ20081000898
公開日2008年8月13日 申請日期2008年2月2日 優先權日2007年2月6日
發明者倉內伸幸 申請人:精工愛普生株式會社