透明層形成聚合物的製作方法
2023-10-08 21:46:04 1
專利名稱：透明層形成聚合物的製作方法
技術領域：
下文公開的實施方案總體上涉及形成可用於製造各種類型的顯示器的層/膜的聚合物，更特別是形成此類在可見光光譜內具有高透光度的層/膜的降冰片烯型聚合物和其組合物。
背景技術：
在液晶顯示器、有機發光二極體顯示器及其它光電子器件的製造中，仍需要形成許多不同的透明有機和無機層。例如，IXD通常涵蓋濾色器層、偏振層、平整層、防刮擦層等。因為這些顯示器的製造方法持續進展，用於這些層的材料通常也必須進展或改變以滿足由上述進展引起的更苛刻要求。因此，仍需要可以滿足這些進展的要求的透明層。
發明內容
詳細描述將參照下文中提供的實施例和權利要求描述根據本公開內容的示例性的實施方案。本文描述的這些示例性實施方案的各種改進、改編或變型由於這些實施方案被公開的緣故而對本領域技術人 員是顯而易見的。應當理解，依賴於本發明教導的、和這些教導經由它們已經推進技術進行的所有這些改進、改編或變型認為在本發明範圍和精神內。本文所使用的冠詞〃 一個(a) 〃、〃 一種(an) 〃和〃該(所述)〃包括複數指示，除非另外特意且明確地限於一個(一種)的指示。因為本文和所附權利要求中針對成分、反應條件等的量所使用的所有數字、數值和/或表述經歷獲得這些數值中遇到的各種測量不確定性，所以除非另有說明，所有這些應理解為在一切情況下由術語「大約」修飾。本文所使用的聚合物的分子量值，例如重均分子量(Mw)和數均分子量(Mn)是通過凝膠滲透色譜使用聚苯乙烯標準樣品測定的。當在本文使用時且除非另有說明，當提供聚合物玻璃化轉變溫度(Tg)值時，它們是通過差示掃描量熱法根據美國試驗和材料協會(ASTM)方法編號D3418測定的。當在本文使用時且除非另有說明，當提供聚合物分解溫度(Td)時，它們將理解為是通過熱重分析以10°c /分鐘的加熱速率在氮氣下測定的、當特定重量百分率)的聚合物已經測定為已經分解(通過蒸發損失)時的溫度。術語Tdl、Td5、Td5(l和Td95指示聚合物的Iwt %、5wt %、50wt %和95wt%已經分解時的溫度。當本文公開數值範圍時，此種範圍是連續的，包括該範圍的最小值和最大值以及在此種最小值和最大值之間的每個值。更進一步，當範圍是指整數時，包括在此種範圍的最小值和最大值之間的每個整數。另外，當提供多個範圍以描述特徵或特性時，這些範圍可以組合。就是說，除非另有說明，本文公開的所有範圍應當理解為涵蓋包含在其中的任何以及所有子範圍。例如，給定的範圍"I到10"應該認為包括介於最小值I和最大值10間的任何以及所有子範圍。範圍1-10的示例性的子範圍包括，但不限於，1-6.1,3.5-7.8和5.5-10。本文所使用的短語「透明聚合物」、「透明層」或「透明膜」將理解為是指對400nm-750nm(可見光範圍)的輻射基本上透明的聚合物、層或膜。就是說，此種透明聚合物或透明層將允許在上述範圍中的可見光的至少95%透射穿過。雖然本文提及在整個可見光光譜內的透射，但是％透光度的實際測量在400nm下進行，因為在可見光光譜下限的光的透射一般比更高波長的光的透射更成問題。本文所使用的「烴基」是指僅含碳和氫的烴基，非限制性實例是烷基、環烷基、鏈烯基、環烯基、炔基、芳基、芳烷基和烷芳基。本文所使用的術語「烷基」和「環烷基」分別是指具有C1-C25的合適的碳鏈長度的無環或環狀飽和烴基。適合的烷基的非限制性實例包括，但不限於，-CH3、_(CH2)3CH3、_(CH2)4CH3、- (CH2) 5CH3、- (CH2) 9CH3、- (CH2) 23CH3、環戊基、甲基環戊基、環己基和甲基環己基。
本文所使用的術語「鏈烯基」和「環烯基」分別是指具有至少一個碳-碳雙鍵和C2-C25的合適的碳鏈長度的無環或環狀飽和烴基。非限制性實例尤其包括乙烯基和衍生自丙烯、丁烯、環戊烯、環己烯和異丙基異戊二烯基的基團。本文所使用的術語「芳基」是指包括，但不限於諸如苯基、聯苯基、苄基和二甲苯基的基團的芳族烴基。術語「烷芳基」或「芳烷基」在本文中可互換地使用並是指取代有至少一個烷基、環烷基、鏈烯基或環烯基的芳族烴基，例如，衍生自甲苯、丁基苯、環己基苯和1，2_ 二氫-1，I』 -聯苯的基團。本文所使用的「滷代烴基」是指其中的至少一個氫已經用滷素替換的任何此前所述的烴基，「全滷代烴基」相應地是指其中所有氫已經用滷素替換的此類烴基，例如五氟苯。本文所使用的術語〃雜烴基〃是指其中的至少一個碳原子用N、0、S、Si或P替換的任何此前描述的烴基。非限制性實例包括雜環的芳族基團例如吡咯基、呋喃基和pyridenyl以及非芳族基團例如環氧類、醇、醚、硫醚和甲矽烷基醚。此外，應當理解，術語「烴基」是通用術語，包括更具體的術語齒代烴基、全齒代烴基和雜烴基。此外，應當理解，任何這樣的結構部分可以進一步被取代，且當合適時，在碳原子的數目、直鏈、支鏈或環狀方面選取合適的。適合的取代基的非限制性實例尤其包括羥基、環氧基、苄基、羧酸和羧酸酯基團、醯胺和醯亞胺。更進一步，應當理解，術語「亞烴基」是指通過從任何上述烴基除去氫原子而形成的二價基團。術語「降冰片烯型」在本文中用來是指根據下面所示的結構I的單體，或由至少一種這樣的降冰片烯型單體形成的並因此具有至少一個根據結構2 (也顯示如下)的重複單元的聚合物材料:
權利要求
1.層形成聚合物，其包含各自由式A表示的第一類型的降冰片烯型重複單元和第二類型的降冰片烯型重複單元，這些類型的重複單元衍生自由式Al表示的降冰片烯型單體:
2.權利要求1的層形成聚合物，其中對於所述第一類型的重複單元，和#之一是由式B、C或D之一表不的可交聯烴基側基:
3.權利要求2的層形成聚合物，其中所述可交聯側基由式B或式C表示:
4.權利要求1的層形成聚合物，其中對於所述第二類型的重複單元，和#之一是由式E、F、G或H之一表示的烴基側基，和Ra、Rb、Rc和Rd中的其它是氫:
5.權利要求4的層形成聚合物，其中所述烴基側基由式E表示，其中R'R1和R2中的每一個是氟:
6.權利要求4的層形成聚合物，其中所述烴基側基由式H表示，其中η是1、2或3，R1和R2各自是-CF3且每個R*是氫:
7.權利要求1的層形成聚合物，其中所述可交聯側基由式I表示和所述具有高透光度的側基由式2表不:
8.權利要求1的層形成聚合物，其中所述可交聯側基由式I表示和所述具有高透光度的側基由式3表不:
9.權利要求1的層形成聚合物，其中所述可交聯側基由式I表示和所述具有高透光度的側基由式4表示:
10.權利要求1的層形成聚合物，其中所述可交聯側基由式I表示和所述具有高透光度的側基由式5表不:
11.權利要求7、8、9或10中任一項的層形成聚合物，其中所述可交聯側基由式6或式7表示:
12.權利要求1的層形成聚合物，包含具有可交聯側基的第一類型的重複單元，所述可交聯側基選自由式1、6或7表示的基團:
13.權利要求1-12中任一項的層形成組合物，還包含澆鑄溶劑。
14.權利要求13的層形成組合物，其中所述澆鑄溶劑選自N-甲基吡咯烷酮(NMP)、Y-丁內酯(GBL)、N，N-二甲基乙醯胺(DMA)、二甲基亞碸(DMSO)、二甘醇二甲醚、二甘醇二丁醚、丙二醇單甲醚(PGME)、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、甲基乙基酮或環己酮中的一種或多種。
15.權利要求13的層形成組合物，還包含熱酸產生劑(TAG)和抗氧化劑/協同劑添加劑。
16.權利要求11的層形成組合物，其中TAG選自S1-150L(六氟銻酸二甲基-對-乙醯氧基鋶)、S1-1OOL (六氟銻酸二苄基甲基-對羥基苯基鋶)或S1-60L (六氟銻酸1-萘基甲基甲基_對輕基苯基琉)。
17.權利要求12的層形成組合物，其中所述抗氧化劑/協同劑添加劑選自以下物質中的一種或多種:ADEKA STAB A0-20、ADEKA STABA0-30、ADEKA STAB A0-40、ADEKASTAB A0-50、ADEKA STAB A0-60、ADEKA STAB A0-80、ADEKA STAB A0-330、SumilizerGM> Sumilizer GS> Sumilizer GA-80、Sumilizer MDP-S> Sumilizer BBM-S> SumilizerWX-R、 IRGANOX 1010、 IRGAN0X 1035、 IRGANOX 1076、 IRGANOX 1098、 IRGANOX 1135、IRGAN0X 1330、 IRGANOX 1726、 IGRANOX 1425、 IRGANOX 1520、 IRGANOX 245、 IRGANOX259、IRGANOX 3114、IRGANOX 565、ADEKA STAB PEP-4C、ADEKA STAB PEP-8、ADEKA STABPEP-8W、ADEKASTAB PEP-36、ADEKA STAB HP-10, ADEKA STAB2112、ADEKA STAB1178、ADEKASTAB 1500、ADEKA STAB C、ADEKA STAB135A、ADEKA STAB3010、IRGAF0S12、IRGAF0S38、Sumilizer TPL-R、Sumilizer TPM、Sumilizer TDS、Sumilizer TP-D、Sumilizer MB>ADEKASTAB A0-412S、ADEKA STAB A0-503、IRGANOX PS800FD 或 IRGANOX PS802FD。
18.層形成組合物，包含降冰片烯型聚合物、熱酸產生劑、環狀新戊烷四基雙(2，6- 二-叔丁基-4-甲基苯基亞磷酸酯)、四[亞甲基3-(3』，5』 - 二-叔丁基-4-羥苯基)丙酸酯]甲烷和季戊四 醇四月桂基硫代丙酸酯)。
19.權利要求18的層形成組合物，其中所述降冰片烯型聚合物包含衍生自以下的重複單元:
20.權利要求19的層形成組合物，其中所述熱酸產生劑是S1-150L，和其中此種層形成組合物還包含 ADEKA STAB A0-60, ADEKA STABA0-412S 和 ADEKA STAB PEP-36。
21.權利要求18的層形成組合物，其中所述降冰片烯型聚合物包含衍生自以下的重複單元:
22.權利要求21的層形成組合物，其中所述熱酸產生劑是S1-150L，和其中此種層形成組合物還包含 A DEKA STAB A0-60、ADEKA STABA0-412S 和 ADEKA STAB PEP-36。
全文摘要
根據本發明的實施方案提供形成可用於製造各種類型的光電子顯示器的層/膜的聚合物。這些實施方案還提供此類聚合物的用於形成此類層/膜的組合物，其中所形成的層/膜在可見光光譜內具有高透光度。
文檔編號C08F232/08GK103249750SQ201180055847
公開日2013年8月14日 申請日期2011年12月13日 優先權日2010年12月14日
發明者大西治, L·F·羅茲, 田頭宣雄 申請人:普羅米魯斯有限責任公司, 住友電木株式會社