三銀低輻射鍍膜玻璃及製造方法和應用與流程

2023-10-24 22:22:47

本發明屬於玻璃技術領域，具體涉及一種三銀低輻射鍍膜玻璃及製造方法和應用。

背景技術：

鍍膜玻璃是一種通過在玻璃表面塗制一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以達到改變玻璃光學性能並且滿足特定要求的玻璃。根據具體的功能可以將鍍膜玻璃劃分為兩大類：陽光控制鍍膜玻璃和低輻射鍍膜玻璃。

其中，陽光控制鍍膜玻璃是一種通過簡單的太陽光全波段無差別反射，來達到遮陽效果的玻璃，且不具備低輻射效果。低輻射鍍膜玻璃則是通過選擇性的反射太陽光近紅外波段的光波，從而達到遮陽效果，低輻射鍍膜玻璃還具有低輻射效果。

隨著社會經濟的發展，市場對玻璃產品的性能要求越來越高，而隨著鍍膜技術的發展，人們在追求玻璃具有良好的性能的同時，又要求有更好的私密性和更低的反射率以便減少光汙染。

目前市場上主流的低輻射鍍膜玻璃為三銀產品。這種類型的玻璃要麼具有高透低反的效果，要麼具有低透高反的效果。然而，很難達到同時滿足低反低透的平衡。鑑於現在的光汙染現象較嚴重，對於節能要求較高場所，三銀產品也無法滿足要求，因此很難選擇到合適的膜系品種。

並且，目前使用的普通三銀膜系度輻射鍍膜玻璃，雖然能達到低反低透並且節能性佳的效果，但是這一類的玻璃並不能進行熱處理，因此具有生產成本較高、後期交貨難度大、補片成本高、不能進行後期熱處理等缺點。

技術實現要素：

針對目前的低輻射鍍膜玻璃無法實現低反低透效果或者能夠實現低反低透效果但是不能進行熱處理等問題，本發明提供一種三銀低輻射鍍膜玻璃。

為了實現上述發明目的，本發明實施例的技術方案如下：

一種三銀低輻射鍍膜玻璃，包括具有相對第一表面和第二表面的玻璃基板；

還包括自所述玻璃基板第一表面向外依次疊設的第一電介質膜層、第一複合功能膜層、第二電介質膜層、第二複合功能膜層、第三電介質膜層、第三複合功能膜層、第四電介質膜層；

所述第一複合功能膜層、第二複合功能膜層、第三複合功能膜層均為由第一功能保護膜層-銀層-第二功能保護膜層構成的三明治結構膜層；

所述第一功能保護膜層、第二功能保護膜層選自zn膜層、cr膜層、crox膜層、crnx膜層、nicr膜層、nicrnx膜層、nb膜層、nbnx膜層、ti膜層、tinx膜層、tiox膜層、cu膜層中的至少一層。

本發明的三銀低輻射鍍膜玻璃，可以直接熱處理，經過熱處理後產品反射顏色y(6～10)，a*(-1～-5)，b*(-4～-10)，透過率tr(40％～50％)，a*(-5～0)，b*(-4～2)，室外顏色顯示灰色或淺藍，透過顏色呈淺綠色，輻射率低於0.02，可見光透過率與陽光熱總透過率比值大於1.90，顏色、化學性能和機械性能均達到預期效果，實現的低反低透的效果，滿足人們對玻璃顏色的需求，而且也能很好的滿足人們對玻璃性能的要求。

進一步地，本發明還提供了上述三銀低輻射鍍膜玻璃的製造方法。

所述的製造方法至少包括以下步驟：至少包括如下步驟：

在真空條件下，在潔淨的玻璃基板一表面向外依次進行第一電介質膜層、第一複合功能膜層、第二電介質膜層、第二複合功能膜層、第三電介質膜層、第三複合功能膜層、第四電介質膜層的沉積處理；

將所述沉積處理得到的鍍膜玻璃的鍍膜面置於680℃～690℃環境中進行熱處理，同時將非鍍膜面置於670℃～680℃的環境中進行熱處理，熱處理時所述鍍膜面的溫度高於所述非鍍膜面的溫度。

本發明的三銀低輻射鍍膜玻璃的製造方法，工序簡單，可行性高，提高了生產效率，降低了生產成本，製造的三銀低輻射鍍膜玻璃可以直接進行熱處理，而且玻璃的結構緊湊，適於工業化生產。

更進一步地，上述三銀低輻射鍍膜玻璃在建築門窗、建築幕牆以及建築物內部裝飾領域中的應用。

由於本發明提供的三銀低輻射鍍膜玻璃的反射顏色y(6～10)，a*(-1～-5)，b*(-4～-10)，透過率tr(40％～50％)，a*(-5～0)，b*(-4～2)，室外顏色顯示灰色或淺藍，透過顏色呈淺綠色，輻射率低於0.02，可見光透過率與陽光熱總透過率比值大於1.90，顏色、化學性能和機械性能均達到預期效果，滿足人們對玻璃顏色的需求，而且也能很好的滿足人們對玻璃性能的要求。用在建築門窗、建築幕牆及建築物內部裝飾，能夠極大的滿足人們對鍍膜玻璃色澤的要求，並且由於該鍍膜玻璃具有可熱處理特性，可大大降低玻璃的成本。

附圖說明

下面將結合附圖及實施例對本發明作進一步說明，附圖中：

圖1是本發明實施例三銀低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖；

圖2是本發明實施例提供的三銀低輻射鍍膜玻璃的第一複合功能膜層結構示意圖；

圖3是本發明實施例提供的三銀低輻射鍍膜玻璃的第二複合功能膜層結構示意圖；

圖4是本發明實施例提供的三銀低輻射鍍膜玻璃的第三複合功能膜層結構示意圖；

圖5是本發明實施例1提供的三銀低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖；

圖6是本發明實施例2提供的三銀低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖；

圖7是本發明實施例3提供的三銀低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖。

其中，1-玻璃基板；2-第一電介質膜層；3-第一複合功能膜層，31-第一功能保護膜層、32-第一銀層、33-第二功能保護膜層；4-第二電介質膜層；5-第二複合功能膜層，51-第一功能保護膜層、52-第二銀層、53-第二功能保護膜層；6-第三電介質膜層；7-第三複合功能膜層，71-第一功能保護膜層、72-第三銀層、73-第二功能保護膜層；8-第四電介質膜層，其餘數字代表的含義詳見實施例1～3的詳細標註。

具體實施方式

為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，並不用於限定本發明。

低反低透指的是，由於現有技術中，玻璃可見光透過率如果低於50％，非鍍膜面的反射率就會超過10％，無法達到可見光透過率低於50％同時又滿足非鍍膜面的反射率低於10％的雙低要求。因此，本發明中提到的低反低透指的是，玻璃鍍膜表面的可見光透過率低於50％，同時可見光反射率低於10％。如圖1所示，本發明實例提供了一種三銀低輻射鍍膜玻璃。

該三銀低輻射鍍膜玻璃包括具有相對第一表面和的第二表面的玻璃基板1，以及自所述玻璃基板1第一表面向外依次疊設的第一電介質膜層2、第一複合功能膜層3、第二電介質膜層4、第二複合功能膜層5、第三電介質膜層6、第三複合功能膜層7、第四電介質膜層8。

其中，在任一實施例中，玻璃基板1為浮法玻璃。本發明使用的浮法玻璃，厚度沒有特別的限定，當然一般採用1～50mn的浮法玻璃即可。

在任一實施例中，第一電介質膜層2為siox膜層、znox膜層、znalox膜層、znsnox膜層中的至少一層。

第一電介質膜層2位於玻璃基板1和第一複合功能膜層3之間，能夠阻止玻璃基板1中的na+向膜層中滲透，增加膜層和玻璃基片之間的吸附力，提高物理和化學性能，控制膜系的光學性能和顏色。

優選地，第一電介質膜層2的厚度為10.0nm～50.0nm。

第一複合功能膜層3為一三明治結構的膜層，如圖2所示。具體為第一功能保護膜層31-第一銀層32-第二功能保護膜層33。第一功能膜層31緊貼於第一電介質膜層2表面，第一銀層32位於三明治結構膜層的中間層，第二功能保護膜層33與第二電介質膜層4相互緊貼。第一功能膜層31選自zn膜層、cr膜層、crox膜層、crnx膜層、nicr膜層、nicrnx膜層、nb膜層、nbnx膜層、ti膜層、tinx膜層、tiox膜層、cu膜層中的至少一層；第二功能保護膜層33選自zn膜層、cr膜層、crox膜層、crnx膜層、nicr膜層、nicrnx膜層、nb膜層、nbnx膜層、ti膜層、tinx膜層、tiox膜層、cu膜層中的至少一層。

優選地，第一複合功能膜層3的厚度為5.0nm～40.0nm，其中，第一銀層32的厚度為3nm～20nm，鍍覆於第一銀層32兩相對表面的其他保護膜層則只要滿足第一複合功能膜層3總厚度達到5.0nm～40.0nm即可。

所述第二電介質膜層4為tiox膜層、sinx膜層、siox膜層、znox膜層、znalox膜層、znsnox膜層中的至少一層；

第二電介質膜層4位於第一複合功能膜層3和第二複合功能膜層5之間，具有控制膜系的光學性能和顏色的作用。

優選地，第二電介質膜層4的厚度為40nm～100nm。

第二複合功能膜層5為一三明治結構的膜層，如圖3所示，具體為第一功能保護膜層51-第二銀層52-第二功能保護膜層53。第一功能膜層51緊貼於第二電介質膜層4表面，第二銀層52位於三明治結構膜層的中間層，第二功能保護膜層53與第三電介質膜層6相互緊貼。第一功能膜層51選自zn膜層、cr膜層、crox膜層、crnx膜層、nicr膜層、nicrnx膜層、nb膜層、nbnx膜層、ti膜層、tinx膜層、tiox膜層、cu膜層中的至少一層；第二功能保護膜層53選自zn膜層、cr膜層、crox膜層、crnx膜層、nicr膜層、nicrnx膜層、nb膜層、nbnx膜層、ti膜層、tinx膜層、tiox膜層、cu膜層中的至少一層。

優選地，第二複合功能膜層5的厚度為5.0nm～40.0nm，其中，第一銀層52的厚度為3nm～25nm(不取3nm這個值，避免與第一銀層32的厚度相同)，且第二複合功能膜層5中的第一銀層52的厚度大於第一功能膜層3中的第一銀層32的厚度，鍍覆於第二銀層52兩相對表面的其他保護膜層則只要滿足第二複合功能膜層5總厚度達到5.0nm～40.0nm即可。

所述第三電介質膜層6為tiox膜層、sinx膜層、siox膜層、znox膜層、znalox膜層、znsnox膜層中的至少一層；

第三電介質膜層6位於第二複合功能膜層5和第三複合功能膜層7之間，具有控制膜系的光學性能和顏色的作用。

優選地，第三電介質膜層6的厚度為60nm～140nm。

第三複合功能膜層7為一三明治結構的膜層，如圖4所示，具體為第一功能保護膜層71-第二銀層72-第二功能保護膜層73。第一功能膜層71緊貼於第三電介質膜層5表面，第二銀層72位於三明治結構膜層的中間層，第二功能保護膜層73與第四電介質膜層8相互緊貼。第一功能膜層71選自zn膜層、cr膜層、crox膜層、crnx膜層、nicr膜層、nicrnx膜層、nb膜層、nbnx膜層、ti膜層、tinx膜層、tiox膜層、cu膜層中的至少一層；第二功能保護膜層73選自zn膜層、cr膜層、crox膜層、crnx膜層、nicr膜層、nicrnx膜層、nb膜層、nbnx膜層、ti膜層、tinx膜層、tiox膜層、cu膜層中的至少一層。

優選地，第三複合功能膜層7的厚度為5.0nm～40.0nm，其中，第一銀層72的厚度為3nm～25nm(不取3nm這個值，避免與第一銀層32的厚度相同)，且第三複合功能膜層7中的第一銀層72的厚度大於第一功能膜層3中的第一銀層32的厚度，鍍覆於第三銀層72兩相對表面的其他保護膜層則只要滿足第三複合功能膜層7總厚度達到5.0nm～40.0nm即可。

第四電介質膜層8位於第三複合功能膜層7之上，具有保護整個膜層結構、減少氧化、提高物理和化學性能；控制膜系的光學性能和顏色的作用。

優選地，第四電介質膜層8的厚度為10.0nm～50.0nm。

上述各層按順序結合，從而保障了三銀低輻射鍍膜玻璃的整體性能，能夠實現膜系顏色低反低透的效果。

上述各層按上述順序結合併且在上述厚度所限定範圍內，三銀低輻射鍍膜玻璃的緊湊性、整體性能更加良好。各個膜層厚度的限定是考慮到整體效果的低反低透，在低反低透的基礎上，室外顏色顯示灰色或淺藍色，透過顏色呈現淺綠色，輻射率低於0.02，可見光透過率與陽光熱總透過率比值大於1.90，顏色、化學性能和機械性能均達到預期效果，滿足人們對玻璃顏色的需求，而且也能很好的滿足人們對玻璃性能的要求。

本發明提供的三銀低輻射鍍膜玻璃需要經過熱處理才能使用。經過熱處理後，產品反射顏色y(6～10)，a*(-1～-5)，b*(-4～-10)，透過率tr(40％～50％)，a*(-5～0)，b*(-4～2)，室外顏色顯示灰色或淺藍，透過顏色呈淺綠色，輻射率低於0.02，可見光透過率與陽光熱總透過率比值大於1.90，顏色、化學性能和機械性能均達到預期效果，滿足人們對玻璃顏色的需求，而且也能很好的滿足人們對玻璃性能的要求。

熱處理的具體操作為：將三銀低輻射鍍膜玻璃置於鋼化爐內，鍍膜表面的加熱溫度為680～690℃，玻璃基板1的非鍍膜表面的加熱溫度較鍍膜表面溫度低，為670～680℃，因為膜層是低輻射鍍膜，其性能決定了膜層的吸熱能力不如非鍍膜面強，為了確保鍍膜面和非鍍膜面面吸熱一致，避免鋼化處理時玻璃被燒彎，鍍膜面的溫度需高於非鍍膜面。熱處理時間為570～590s，即可獲得三銀低輻射鍍膜玻。

經過熱處理，本發明實施例獲得的三銀低輻射鍍膜玻的各膜層有機的結合在一起，玻璃的可加工性能得到進一步的提高。

相應地，在上文所述的三銀低輻射鍍膜玻璃的基礎上，本發明實施例還提供了本發明實施例三銀低輻射鍍膜玻璃的一種製備方法。

作為本發明優選實施例，該三銀低輻射鍍膜玻璃的製備方法包括如下步驟：

步驟s01：前處理，清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基板1，並將所述清洗後的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8×10-6mbar以上；

步驟s02、膜層沉積處理，控制濺射真空度為2×10-3mbar～5×10-3mbar，在所述浮法玻璃基板上依次沉積如下厚度的膜層：10.0nm～50.0nm的第一電介質膜層2、5.0nm～40.0nm的第一複合功能膜層3、40nm～100nm的第二電介質膜層4、5.0nm～40.0nm的第二複合功能膜層5、60nm～140nm的第三電介質膜層6、5.0nm～40.0nm的第三複合功能膜層7和10.0nm～50.0nm的第四電介質膜層8。

具體地，上述步驟s01中，採用benteler清洗機對浮法玻璃進行清洗。

具體地，步驟s02在濺射鍍膜過程中，採用德國馮·阿登那公司生產的磁控濺射鍍膜設備控制濺射的真空度，並應當注意膜層厚度的調整，可使用在線光度計測量膜層顏色參數，並進行膜層厚度的調整，使顏色參數呈現低反低透的效果。

具體地，上述步驟s02中膜層沉積處理後的玻璃，應採用濃度為1mol/l的hcl溶液和濃度為1mol/l的naoh溶液作為浸漬液，按照《gbt18915.2鍍膜玻璃第2部分低輻射鍍膜玻璃鍍膜玻璃》檢測膜層沉積處理後的玻璃的耐酸性能和耐鹼性能。與此同時，還採用臺式光度計、研磨機、u4100紫外可見紅外分光光度計等測試分析儀器測試獲得三銀低輻射鍍膜玻璃的耐磨性以及玻面反射率、膜面反射率和透過光譜。

需要說明的是，在濺射靶材和鍍膜的各層結構確定之後，決定產品性能特點的核心部分就是各層的厚度，即通過調整鍍膜工藝，控制各層厚度，最終達到不同的效果。

相應地，本發明實施例製備的三銀低輻射鍍膜玻璃，可應用於建築門窗、建築幕牆以及建築物內部裝飾等領域中。

為了更好的說明本發明的技術方案，以下通過多個實施例來舉例說明本發明實施例三銀低輻射鍍膜玻璃的原理、作用以及達到的功效。

下述各具體實施示範例中涉及的儀器設備為：vaatgc330h鍍膜設備、benteler清洗機、在線檢測光度計、datacolarcheckⅱ(可攜式測色儀)、colori5透射比測試儀、u4100(紫外可見紅外分光光度計)、bta-5000型耐磨試驗機。

實施例1

如圖5所示，本實施例提供一種三銀低輻射鍍膜玻璃。

所述玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外依次疊的sixny膜層21、znox膜層22、nicr膜層31、ag膜層32、nicr膜層33、znox膜層41、sixny膜層42、znox膜層43、nicr膜層51、ag膜層52、nicr膜層53、znox膜層61、sixny膜層62、znox膜層63、nicr膜層71、ag膜層72、nicr膜層73、znox膜層81、sixny膜層82、tiox膜層83。其中，sixny膜層21、znox膜層22構成第一電介質膜層2；nicr膜層31、ag膜層32、nicr膜層33構成帶有保護的第一複合功能膜層3；znox膜層41、sixny膜層42、znox膜層43構成第二電介質膜層4；nicr膜層51、ag膜層52、nicr膜層53構成帶有保護的第二複合功能膜層5；znox膜層61、sixny膜層62、znox膜層63構成第三電介質膜層6；nicr膜層71、ag膜層72、nicr膜層73構成帶有保護的第三複合功能膜層7；znox膜層81、sixny膜層82、tiox膜層83構成第四電介質膜層8。

所述sixny膜層21厚度為29.2nm、znox膜層22厚度為8.5nm、nicr膜層31厚度為1.5nm、ag膜層32厚度為8.7nm、nicr膜層33厚度為2.0nm、znox膜層41厚度為10nm、sixny膜層42厚度為70.4nm、znox膜層43厚度為10nm、nicr膜層51厚度為1.5nm、ag膜層52厚度為15.5nm、nicr膜層53厚度為1.8nm、znox膜層61厚度為10nm、sixny膜層62厚度為103.19nm、znox膜層63厚度為10nm、nicr膜層71厚度為1.0nm、ag膜層72厚度為18.3nm、nicr膜層73厚度為1.6nm、znox膜層81厚度為18.2nm、sixny膜層82厚度為13.4nm、tiox膜層83厚度為5nm。

該三銀低輻射鍍膜玻璃的製備方法包括如下步驟：

利用平板玻璃雙端連續式鍍膜機，採用下述表1中列出的工藝參數，使用17個交流旋轉陰極，9直流平面陰極，共26個陰極進行生產，製備出本發明三銀低輻射鍍膜玻璃，其具體的工藝參數和陰極的位置見如下表1：

表1實施例1工藝參數

將按照上述表1中的工藝參數製備出來的三銀低輻射鍍膜玻璃進行光學性能測試，其測試結果如下：

第四電介質膜層8面的可見光透過率：29.9％，透過顏色：a*＝-7.4，b*＝-8.5；

第四電介質膜層8面的可見光光反射率：11.2％，反射顏色：a*＝-17.4，b*＝5.9；

普通白玻璃基板1的可見光光反射率：7.9％，反射顏色：a*＝5.4，b*＝-11.4。

對三銀低輻射鍍膜玻璃進行熱處理，熱處理時，玻璃基板1的非鍍膜面的加熱溫度為680℃，鍍膜面的加熱溫度為690℃，熱處理時間580s，經過熱處理後進行光學性能測試，其中，其測試結果如下：

第四電介質膜層8面的可見光透過率：48.6％，透過顏色：a*＝-4.5，b*＝0.5；

第四電介質膜層8面的可見光反射率：14.4％，反射顏色：a*＝-16.8，b*＝0.8；

普通白玻璃基板1的可見光反射率：9.8％，反射顏色：a*＝-2.1，b*＝-5.5。

室外顏色顯示灰色，透過顏色呈淺綠色，輻射率為0.014，可見光透過率與陽光熱總透過率比值為2.07。

顏色為較為純正的灰色，產品理化性能達到gb/t18915.2-2013要求。

實施例2

如圖6所示，本實施例提供一種三銀低輻射鍍膜玻璃。

本實施例三銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外依次疊設的tiox膜層2、znox膜層31、ag膜層32、nicr膜層33、zno膜層4、znox膜層51、ag膜層52、nicr膜層53、zno膜層6、znox膜層71、ag膜層72、nicr膜層73、znox膜層81、tiox膜層82。其中，tiox膜層2構成第一電介質膜層2；znox膜層31、ag膜層32、nicr膜層33構成帶有保護的第一複合功能膜層3；zno層4構成第二電介質膜層4；znox層51、ag層52、nicr層53構成帶有保護的第二複合功能層5；zno膜層6構成第三電介質膜層6；znox膜層71、ag膜層72、nicr膜層73構成帶有保護的第三複合功能膜層7；znox膜層81、tiox膜層82構成第四電介質保護膜層8。

所述tiox膜層2厚度為30.2nm、znox膜層31厚度為5.5nm、ag膜層32厚度為8.5nm、nicr膜層33厚度為2.1nm、zno膜層4厚度為63.4nm、znox膜層51厚度為5.2nm、ag膜層52厚度為15.4nm、nicr膜層53厚度為2.3nm、zno膜層6厚度為80.4nm、znox膜層71厚度為5.1nm、ag膜層72厚度為18.2nm、nicr膜層73厚度為2.4nm、znox膜層81厚度為31.6nm、tiox膜層82厚度為5nm。

其製備方法為：利用平板玻璃雙端連續式鍍膜機，採用下述表2中列出的工藝參數，使用20個交流旋轉陰極，6直流平面陰極，共26個陰極進行生產，製備出本發明三銀低輻射鍍膜玻璃，其具體的工藝參數和陰極的位置見如下表2：

表2實施例2工藝參數

將按照上述表2中的工藝參數製備出來的三銀低輻射鍍膜玻璃進行光學性能測試，其測試結果如下：

第四電介質膜層8面的可見光透過率：26.4％，透過顏色：a*＝-5.2，b*＝-10.2；

第四電介質膜層8面的可見光光反射率：14.2％，反射顏色：a*＝-14.2，b*＝7.3；

普通白玻璃基板1的可見光光反射率：7.4％，反射顏色：a*＝6.1，b*＝-14.4。

對三銀低輻射鍍膜玻璃進行熱處理，熱處理時，玻璃基板1的非鍍膜面的加熱溫度為670℃，鍍膜面的加熱溫度為680℃，熱處理時間590s，經過熱處理後進行光學性能測試，其中，其測試結果如下：

第四電介質膜層8面的可見光透過率：45.1％，透過顏色：a*＝-2.7，b*＝-2.1；

第四電介質膜層8面的可見光反射率：16.8％，反射顏色：a*＝-12.9，b*＝3.1；

普通白玻璃基板1的可見光反射率：9.4％，反射顏色：a*＝-2.8，b*＝-5.9。

室外顏色顯示灰色，透過顏色呈淺綠色，輻射率為0.011，可見光透過率與陽光熱總透過率比值為2.23。

顏色為較為純正的灰色，產品理化性能達到gb/t18915.2-2013要求。

實施例3

如圖7所示，本實施例三銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板1自所述玻璃基板1一表面向外依次疊設的znsnox膜層2、znox膜層31、ag膜層32、nicr膜層33、tiox膜層41、znsnox膜層42、znox膜層51、ag膜層52、nicr膜層53、tiox膜層61、znsnox膜層62、znox膜層71、ag膜層72、nicr膜層73、tiox膜層81、znsnox膜層82、tiox膜層83。其中，znsnox膜層構成第一電介質膜層2；znox膜層31、ag膜層32、nicr膜層33構成帶有保護的第一複合功能膜層3；tiox膜層41、znsnox膜層42構成第二電介質膜層4；znox膜層51、ag膜層52、nicr膜層53構成帶有保護的第二複合功能膜層5；tiox膜層61、znsnox膜層62構成第三電介質膜層6；znox膜層71、ag膜層72、nicr膜層73構成帶有保護的第三複合功能膜層7；tiox膜層81、znsnox膜層82、tiox膜層83構成第四電介質膜層8。

所述znsnox膜層2的厚度為35.4nm、znox膜層31的厚度為6.1nm、ag膜層32的厚度為9.2nm、nicr膜層33的厚度為1.8nm、tiox膜層41的厚度為15.4nm、znsnox膜層42的厚度為39.7nm、znox膜層51的厚度為5.8nm、ag膜層52的厚度為15.5nm、nicr膜層53的厚度為2.7nm、tiox膜層61的厚度為19.6nm、znsnox膜層62的厚度為51.4nm、znox膜層71的厚度為5.6nm、ag膜層72的厚度為18.7nm、nicr膜層73的厚度為3.0nm、tiox膜層81的厚度為10.4nm、znsnox膜層82的厚度為22.3nm、tiox膜層83的厚度為5nm。

其製備方法為：利用平板玻璃雙端連續式鍍膜機，採用下述表3中列出的工藝參數，使用20個交流旋轉陰極，6直流平面陰極，共26個陰極進行生產，製備出本發明三銀低輻射鍍膜玻璃，其具體的工藝參數和陰極的位置見如下表3：

表3實施例3工藝參數

將按照上述表3中的工藝參數製備出來的三銀低輻射鍍膜玻璃進行光學性能測試，其測試結果如下：

第四電介質膜層8面的可見光透過率：26.7％，透過顏色：a*＝-8.6，b*＝-9.5；

第四電介質膜層8面的可見光光反射率：9.2％，反射顏色：a*＝-15.4，b*＝9.4；

普通白玻璃基板1的可見光光反射率：6.6％，反射顏色：a*＝5.8，b*＝-12.6。

對三銀低輻射鍍膜玻璃進行熱處理，熱處理時，玻璃基板1的非鍍膜面的加熱溫度為675℃，鍍膜面的加熱溫度為685℃，熱處理時間585s，經過熱處理後進行光學性能測試，其中，其測試結果如下：

第四電介質膜層8面的可見光透過率：46.8％，透過顏色：a*＝-4.2，b*＝-2.8；

第四電介質膜層8面的可見光反射率：12.1％，反射顏色：a*＝-14.1，b*＝5.5；

普通白玻璃基板1的可見光反射率：8.2％，反射顏色：a*＝-1.7，b*＝-4.5。

室外顏色顯示灰色，透過顏色呈淺綠色，輻射率為0.019，可見光透過率與陽光熱總透過率比值為2.01。

顏色為較為純正的灰色，產品理化性能達到gb/t18915.2-2013要求。

從上述實施例1～3中可見，採用本發明的膜層結構，獲得的三銀低輻射鍍膜玻璃熱處理後的鍍膜表面的可見光透過率分別為48.6％、45.1％、46.8％，而非鍍膜表面(也叫做玻璃基板表面)的可見光反射率分別為9.8％、9.4％、8.2％，滿足了低反低透的要求。

以上所述僅為本發明的較佳實施例而已，並不用以限制本發明，凡在本發明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包括在本發明的保護範圍之內。