新型六芳基二咪唑光敏引發劑及聚醯亞胺光敏組合物的製作方法
2023-11-02 05:44:12
專利名稱：新型六芳基二咪唑光敏引發劑及聚醯亞胺光敏組合物的製作方法
技術領域：
本發明涉及新型六芳基二咪唑化合物，其在光聚合反應體系中用作光引發劑；本發明同時涉及含有該光引發劑及聚醯亞胺光敏組合物。本發明同時提供了利用上述光敏組合物獲得生成圖象及相應電子元件的方法。
背景技術：
光敏樹脂組合物已經廣泛產業中得到應用，包括UV油墨、屏幕列印、近期發展起來的雷射全息照相以及其它特定領域。光敏耐熱性聚合物可作為正性光刻膠用以實現半導體日趨微型化，也可以用作保護塗層，負緩衝塗層及鈍化塗膜。JP5-67026及JP63-3139報導了利用芳香二胺化合物與芳香族四羧基二酸酐反應而得到光敏耐熱性材料。
隨和半導體產業的高速發展，步進機設備已經從g-線(435nm)逐漸過渡到i-線(365nm)，迎合更高標準微型設計尺寸的要求。
具有芳香單體骨架結構的聚醯亞胺前體化合物具有優異的抗熱性和用作光刻膠的機械特性；但是上述聚醯亞胺前體化合物本身具有光吸收特性，其在UV波段，尤其是在i-線波段(365nm)透明性差。相應地，聚醯亞胺前體塗層的光刻膠在曝光範圍內的光化學反應性低，光敏性不足，從而導致圖象生成效果惡化。
隨著LOC技術的出現，更厚料的聚醯亞胺塗膜被應用於半導體元件的高密度封裝技術中，而聚醯亞胺前體化合物的低透光性已經成為半導體器件進行光刻的嚴重缺陷。通常地，需要要求光敏聚醯亞胺組合物應該具有優異的光敏感性，以使得清晰圖象的形成成為可能，上述的應用特徵甚至被要求在半導體元件表面保護塗層的底部，而在此場合中i-線步進機的光強相當弱。
在光敏性樹脂組合物中，加入光聚合反應引發劑可以大大的提升整個體系的光敏性。一般來說，可以在上述應用場合具有高光敏性的光聚合反應引發劑包括1)肟酯化合物(例如1-苯基-1，2-丙基二酮-2-(o-乙氧基羰基)肟)；2)六芳香二咪唑化合物(例如2，2』-雙鄰氯苯基-4，4』，5，5』-四苯基二咪唑，通常簡稱為o-Cl-HABI)。
然而，肟酯化合物的熱穩定性差；而含氯六芳基二咪唑(例如o-Cl-HABI)用於半導體元件時，其中的氯離子分離是一個難題。由於這些因素，上述兩種光聚合反應引發劑都難以得到滿意的應用結果。此外，由於o-Cl-HABI在溶液中的溶解性往往不足，在可溶解的範圍內難以實現足夠的光敏性。
此外，六芳基二咪唑的衍生物可以作為一類重要的光致變色功能材料，其用途廣泛，特別在光信息儲存、生物分子活性的光調控、分子識別過程的光調控、自顯影感光膠片和全息攝影材料、光計算、新型變色玻璃等領域。
本發明涉及一類新型六芳基二咪唑衍生物，其具有優異的溶解性和光敏性，可以用於多種光聚合反應體系中，尤其適用於光敏聚醯亞胺體系。
發明內容
本發明涉及到通式I結構六芳基二咪唑衍生物，其用作光聚合反應引發劑。
其中R1，R2獨立是烷基、含氟烷基；X1，X2，X3，X4，X5獨立是氫，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5中至少有一個基團為含氟烷基。
針對R1，R2獨立是烷基、含氟烷基，其優選為C1～10烷基及C1～10含氟烷基，更優選為C1～2烷基及C1～2含氟烷基。
針對X1，X2，X3，X4，X5可能是烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5至少有一個基團為含氟烷基；優選為C1～10烷基，C1～10烷氧基及C1～10含氟烷基，更優選為C1～2烷基，C1～2烷氧基及C1～2含氟烷基。
本發明涉及一類光敏性組合物，其特徵在於可以在低水平曝光的情況下實現優異的光敏感性和優異光刻清晰圖象。其包括A)至少一種含有碳碳雙鍵的可光聚合化合物；B)至少含有一種六芳基二咪唑化合物，其特徵為通式I化合物。
在本發明中，光敏性組合物中組份A優選為含有碳碳雙鍵的可光聚合聚醯亞胺前體化合物。
特定的，本發明涉及一類光敏性組合物，其組成包括1)100份wt.％組份A；2)0.1～20份wt％組份B。
特定的，本發明涉及一類光敏性組合物，其組成物中含有可光聚合組份A在大氣壓情況下，具有高於100℃的沸點。
本發明也涉及一種獲得圖象的方法，其步驟包括1)利用上述光敏性組合物形成塗膜；2)帶有特定設計圖象的掩膜加以塗膜覆蓋，進行曝光；3)在有機溶劑或鹼性水相溶液中進行擴散。
特定的，本發明涉及一種獲得圖象的方法，其擴散步驟是在鹼性水相溶液中進行。
具體的，針對通式I結構的六芳基二咪唑衍生物。
通式I化合物是具有異構體形式的二聚體結構，其中具有優勢的異構體構型如Ia所示 在通式Ia結構中R1，R2獨立是烷基、含氟烷基；X1，X2，X3，X4，X5獨立是氫，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5中至少有一個基團為含氟烷基。
針對R1，R2獨立是烷基、含氟烷基，其優選為C1～10烷基及C1～10含氟烷基，更優選為C1～2烷基及C1～2含氟烷基。
針對X1，X2，X3，X4，X5可能是烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5至少有一個基團為含氟烷基；優選為C1～10烷基，C1～10烷氧基及C1～10含氟烷基，更優選為C1～2烷基，C1～2烷氧基及C1～2含氟烷基。
在通式I和Ia所示六芳基二咪唑衍生物結構，在其中兩個含有X1，X2，X3，X4，X5的苯環上優選為其中有1～2個Xi(i＝1～6)為C1～2含氟烷基，或同時存在1～3個Xj(j＝1～6)為氟。
本發明涉及的通式I和Ia六芳基二咪唑化合物的苯環結構中至少含有一個含氟烷基，或同時存在1～3個氟取代，其較之已報導的六芳基二咪唑(HABI)，例如o-Cl-HABI，作為光聚合反應的引發劑具有更優良的光敏特性。因此，本發明涉及的通式I和Ia結構的六芳基二咪唑化合物可適用於低輻射曝光水平場合的光刻膠體系中，並通過光刻技術生成清晰圖象。
以下是本發明關於通式I和Ia六芳基二咪唑化合物的具體示例，但不局限於如下示例所包括的範圍之內。
2，2』-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(3-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，4-二(三氟甲基)-苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，6-二(三氟甲基)-苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-4-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-6-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-4，6-二氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，3-二氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑
2，2』-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(3-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，4-二(三氟甲基)-苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，6-二(三氟甲基)-苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-4-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-6-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-4，6-二氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，3-二氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑如下結構化合物具有更高的光敏活性，其為本發明通式I和Ia結構的尤其優選例。
a)2，2』-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-2-CF3-HABI)b)2，2』-雙(4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-4-CF3-HABI)c)2，2』-雙(2-三氟甲基4-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-2-CF3-4-F-HABI)d)2，2』-雙(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-2-F-4-CF3-HABI)關於六芳基二咪唑結構化合物的合成可以採用已知的各種方法。例如，HABI結構化合物的合成可以參照Journal of Organic Chemistry，Vol.36以及JP10-36354的合成方法。
具體的，本發明中六芳基二咪唑類化合物可以通過如下的步驟來加以實施1.溶解相應的2-含有含氟烷基取代苯基-4，5-雙(m-烷氧基苯基)咪唑溶解在極性溶劑中，包括甲基吡咯烷酮，醇類化合物(如甲醇、乙醇、異丙醇)，乙二醇烷基醚等；2.向上述1)的溶液中慢慢加入鐵氰化鉀(又名紅血鹽)及NaOH水溶液，保持溫度在10～20℃；3.攪拌情況下直至反應結束，過濾，水洗，乾燥處理得到反應產物。
如有必要，可以通過丙酮-甲醇體系對目標產物進行重結晶，以進一步純化。
本發明中所涉及一類光敏性組合物包括A)至少一種含有碳碳雙鍵的可光聚合化合物；B)至少含有一種本發明中所描述的六芳基二咪唑化合物。
其中組份A可以是具有雙鍵結構的高分子量化合物，也可以是可光聚合的低分子量化合物，也可以是上述兩種化合物的混合物。組份A主要依據其目標性的應用特性要求來加以分析選擇。
高分子量化合物是含有碳碳雙鍵的聚合物，其來自可光聚合化合物。具體可以包括(1)聚酯，例如可以是來源於多元醇和多元羧酸的共聚酯，具體的多元醇可以是二乙二醇，三乙二醇，四乙二醇，三甲醇丙烷，新戊二醇等；具體的多元羧酸可以是對苯二酸，異酞酸，癸二酸，己二酸等；(2)烯基聚合物，可以是烯基單體的均聚物和共聚物，例如甲基丙烯酸，丙烯酸，甲基丙烯酸烷基酯，丙烯酸烷基酯(具體如甲基(甲基)丙烯酸酯，乙基(甲基)丙烯酸酯，丁基(甲基)丙烯酸酯，2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯，苯基(甲基)丙烯酸酯，苄基(甲基)丙烯酸酯，2-二甲氨基(甲基)丙烯酸酯，2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯等)；(3)聚甲醛；(4)聚氨酯；(5)聚碳酸酯；(6)聚醯胺；(7)纖維素脂；(8)聚醯胺酸；(9)聚醯胺酸酯；(10)聚醯胺酸醯胺。
優選的低分子量可光聚合化合物在大氣壓下具有高於100℃的沸點，以避免在光刻膠溶劑移除以及光刻膠系統乾燥時的逃逸。用作組份A的低分子量化合物通常分子量不超過1000。具體的選擇包括如下(1)利用多元醇和α，β-不飽和羧酸的縮合物，具體如二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，三甲醇丙烷三(甲基)丙烯酸酯，1，2-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯，二(1，2-丙二醇)二(甲基)丙烯酸酯，三(1，2-丙二醇)二(甲基)丙烯酸酯，二乙氨基乙基二(甲基)丙烯酸酯，二甲氨基丙基(甲基)丙烯酸酯，二乙氨基丙基(甲基)丙烯酸酯，1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯，1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等；(2)烯基化合物，具體如苯乙烯，二乙烯基苯，4-乙烯基甲苯，4-乙烯基吡啶，N-乙烯基吡咯烷酮，2-羥乙基(甲基丙烯酸酯)，1，3-二(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙烷，亞甲基二丙烯醯胺，N，N-二甲基丙烯醯胺，N-羥甲基丙烯醯胺，新二醇二(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯，四羥甲基丙基四(甲基)丙烯酸酯。
單獨性上面所描述的高分子量化合物或低分子量化合物可以用作組份A，也可以是其中兩種或多種高分子量或低分子量化合物的混合物用作組份A。
優選的低分子量可光聚合化合物可以溶解在溶劑中，具體的溶劑包括丙酮，甲基乙基酮，二乙基酮，甲苯，氯仿，甲醇，乙醇，1-丙醇，2-丙醇，1-丁醇，2-丁醇，叔丁基醇，乙二醇單甲醚，二甲苯，四氫呋喃，二氧六環，環戊酮，N，N-二甲基乙醯胺，N，N-二甲基甲醯胺，N-甲基-2-吡咯烷酮，N-乙醯基-2-吡咯烷酮，N-苄基-2-吡咯烷酮，γ-丁丙酯，二甲基亞碸，亞乙基碳酸酯，亞丙基碳酸酯，六甲基磷醯胺，N-乙醯基-ε-己內醯胺，二甲基咪唑啉酮，二乙二醇二甲基醚，三乙二醇二甲基醚。可以是單獨的溶劑也可以是兩種或多種溶劑的混合物。
當光敏性組合物用於半導體器件作為保護塗層或介電層時，塗層需要具有很好的耐熱性以及滿足其它的應力狀況。因此，含有碳碳雙鍵的可光聚合聚醯亞胺前體化合物用作組份A作為尤其優選的方案。
含有碳碳雙鍵的光敏性聚醯亞胺前體化合物包括(1)聚醯胺酸不飽和酯，其含有可光聚合的碳碳雙鍵共軛於聚醯胺酸側鏈；(2)具有(1)中所描述的結構特徵的聚醯胺酸不飽和醯胺；
(3)利用聚醯胺酸與含有不碳碳雙鍵的的胺類化合物進行合成，從而在羧基和氨基間形成離子鍵，將碳碳雙鍵鍵合到聚合物結構中。優選的碳碳雙鍵的形式為丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基結構。
如下具有重複鏈節的通式II聚醯胺酸不飽和酯作為優選的組份A。再與本發明涉及的六芳基二咪唑組份B合併後，此具有重複鏈節的通式II聚合物具有優異的光敏性，並縮短擴散時間。
通式II中R3為四價共價的有機基團；R4是二價共價，三價共價，四價共價的有機基團；R5是含有碳碳雙鍵的單價共價的有機基團；A是酸性的單價共價基團；n＝0，1，2。
在通式II特徵的重複鏈節的結構中，四價共價的有機基團R3可以是四羧酸基及其衍生結構(例如二酸酐，二酯化，二醯胺)，其與二胺化合物反應生成聚醯亞胺前體化合物。考慮到應力特徵，抗熱性以及聚醯亞胺塗層的交聯性，R3優選為大於四個碳原子的有機基團，更優選為合計在C6～C30的有機基團(包括可能的芳香環，如苯環、萘環等)。此外優選在芳香環的鄰位或對位作為鍵合位置，四羧酸基團中四個羧酸基的優選排列是四羧酸基中的四個羧酸基在芳香環上形成兩個的鄰-對特徵的取代。當聚醯胺酸不飽和酯含有複合特性的重複鏈節II的情況下，取代基R3可以是相同，也可以是不相同的。
在通式II重複鏈節中n＝1，2所對應的聚醯胺酸不飽和酯可以在鹼性水溶液中具有優異的溶解性，故作為優選。在通式II中，基團A是酸性基團，其可以從磺酸基(-SO3H)，亞磺酸基(-SO2H)，羧酸基(-COOH)或苯酚型羥基中進行選擇，其重要考慮是需在鹼性水溶液中具有優異的溶解性。羧酸基團作為優選基團，因為其可以更容易地合成聚醯亞胺前體化合物。當聚醯胺酸不飽和酯含有複合特性的重複鏈節II的情況下，取代基A可以是相同，也可以是不相同的。在通式II結構的重複鏈節中，當n＝0時，為了達到增加在鹼性水溶液中溶解特徵的目的，R4基團選擇可構成聚醯胺酸的半酯結構，則對應於通式II結構的重複鏈節的特定形式。
在通式結構II中，與酸性基團A鍵合的基團R4可以是一個可與四羧酸結構或其衍生物相反應形成聚醯亞胺前體化合物的二胺結構單元。考慮到應力特徵，抗熱性以及聚醯亞胺塗層的交聯性，R4基團優選含有芳香環，更優選是含有包括芳香環在內的C6～C30原子結構。在通式II結構的重複鏈節聚醯亞胺前體化合物中，R4基團可以是相同的，也可以是不相同的。
在通式II結構的重複鏈節聚醯亞胺前體化合物中，含有碳碳雙鍵的R5基團可以是相同的，也可以是不相同的。優選的R5基團具有如通式III結構，其可以具有更高的光敏特性。
通式III中R6，R7，R8獨立是氫，烴基，苯基，丙烯基；R9為二價共價有機基團。在此所述的烴基優選為C1～4結構。二價共價有機基團R9優選為C1～3烷撐結構，具體如甲撐、乙撐、丙撐。
含有C1～20碳原子的甲基丙烯醯氧基烷基以及丙烯醯氧基烷基結構是通式III結構的尤其優選，因為其具有高的光敏性，同時也容易合成製備。
本發明中，聚醯胺酸不飽和酯也可以含有通式II結構以外的其它重複鏈節結構。
本發明中聚醯亞胺前體化合物的具體應用中，通式II結構所表示的重複鏈節(n＝1，2時)在整個重複鏈節中的比例優選為10～100mol％。這樣的比例可以保證其在鹼性水溶液中具有優異的擴散性，同時獲得滿足的圖象效果。更優選的比例是80～100mol％，其相應與更滿意的應用特性。比例的調節可以通過改變四羧酸及其衍生物、二胺化合物以及含有碳碳雙鍵的化合物的類型以及數量來加以控制。
在通式II結構中，當n＝0時，通式II結構所表示的重複鏈節在整個重複鏈節中的比例優選為10～100mol％，更優選的比例範圍是30～100mol％，可以獲得滿意的圖象特徵。為了達到提高在鹼性水溶液中的擴散特徵，其它不同於通式II的重複鏈節的比例也是重要的影響因素。
本發明中聚醯胺酸不飽和酯可以通過如下步驟來進行合成(1)四羧酸二酸酐、含有羥基的化合物、含有不飽和基團的化合物進行混合以得到四羧酸二酸酐的半酯結構；然後利用亞硫醯氯製備得到相應的醯氯化合物；(2)上述四羧酸二酸酐半酯結構的醯氯化合物與縮合劑反應，具體可以是二胺類化合物；(3)保證縮合反應得到完成的方法，並進行分離純化處理。
本發明中四羧酸二酸酐具體包括氧二鄰苯二甲酸二酸酐，3，3』，4，4』-二苯甲酮四羧酸二酸酐，3，3』，4，4』-聯苯四羧酸二酸酐，1，2，5，6-萘四羧酸二酸酐，2，3，6，7-萘四羧酸二酸酐，1，4，5，8-萘四羧酸二酸酐，2，3，5，6-吡啶四羧酸二酸酐，3，4，9，10-二萘嵌苯四羧酸二酸酐，磺醯基二鄰苯二甲酸二酸酐，間-三聯苯-3，3』，4，4』-四羧酸二酸酐，對-三聯苯-3，3』，4，4』-四羧酸二酸酐，1，1，1，3，3，3-六氟-2，2』-雙(2，3-或3，4-二羧酸基苯基)丙基二酸酐，2，2』-雙(2，3-或3，4-二羧酸基苯基)丙基二酸酐，2，2』-雙(4』-(2，3-或3，4-二羧酸基苯氧基)苯基)丙基二酸酐，1，1，1，3，3，3-六氟-2，2』-雙(4』-(2，3-或3，4-二羧酸基苯氧基)苯基)丙基二酸酐以及如通式IV所表示的芳香族四羧酸二酸酐結構化合物。
通式IV中R10，R11獨立是C1～12的單價共價烴基；s大於等於1。
本發明中二胺類化合物在通式II重複鏈節結構中對應於R4-(A)n(當n＝1，2時)，其具體包括3，5-二氨基苯甲酸，4，4』-二羥基-3，3』-二氨基聯苯，3，4-二氨基苯甲酸，3，3』-二羥基-4，4』-二氨基聯苯，2，3-二氨基-4-羥基吡啶，2，2』-雙(4-羥基-3-氨基苯基)六氟丙基，2，4-二氨基苯酚，2，4-二氨基苯甲酸，3-羧基-4，4』-二氨基二苯醚，3，3』-二羧基-4，4』-二氨基丙基醚，3，3』-二羧基-4，4』-二氨基二苯基甲烷，3，3』-二羧基-4，4』-二氨基二苯基甲烷，3，3』-二羧基-4，4』-二氨基聯苯，3，3』，5，5』-四羧酸基-4，4』-二氨基聯苯，3-羧基-4，4』-二氨基二苯基碸，3，3』-二羧基-4，4』-二氨基二苯基碸，1，1，1，3，3，3-六氟-2，2』-雙(3-羧基-4-氨基苯基)丙基以及其它。
本發明中二胺類化合物在通式II重複鏈節結構中對應結構(當n＝0時)，其具體包括4，4』-(或3，4』-，或3，3』-，或2，4』-，或2，2』-)二氨基二苯基醚，4，4』-(或3，4』-，或3，3』-，或2，4』-，或2，2』-)二氨基二苯基甲烷，4，4』-(或3，4』-，或3，3』-，或2，4』-，或2，2』-)二氨基二苯基碸，4，4』-(或3，4』-，或3，3』-，或2，4』-，或2，2』-)二氨基二苯基亞碸，對-亞苯基二胺，間-亞苯基二胺，對二甲苯二胺，間-二甲苯二胺，鄰-聯甲苯胺，鄰-聯甲苯胺碸，4，4』-亞甲基-雙(2，6-二乙基苯胺)，4，4』-亞甲基-雙(2，6-二異丙基苯胺)，2，4-二氨基-1，3，5-三甲基苯，1，5-二氨基萘，4，4』-二苯甲酮二胺，雙(4-(4』-氨基苯氧基)苯基)碸，1，1，1，3，3，3-六氟-2，2』-雙(4-氨基苯基)丙基，2，2』-雙(4-氨基苯基)丙基，3，3』-二甲基-4，4』-二氨基二苯基甲烷，3，3』，5，5』-四甲基-4，4』-氨基苯基甲烷，雙(4-(3』-氨基苯氧基)苯基)碸，2，2』-雙(4-氨基苯基)丙基以及其它。
本發明中，可以獨立使用二胺類化合物或不同結構的二胺類化合物合併使用。
對應於前述的通式IV結構中，如下通式V結構的二氨基聚矽氧烷可以用於本發明中以提高交聯特性。
通式結構V中R12，R13獨立是二價共價烴基，其可以相同也可以不相同；R14，R15獨立是單價共價烴基，其可以相同也可以不相同。二價共價烴基可以是1)低碳烷撐，如甲撐，乙撐，丙撐；2)單環結構的亞芳基，如亞苯基。R12和R13可以同時低碳烷撐，也可以同時是亞芳基，也可以分別為低碳烷撐和亞芳基。單價共價烴基可以是1)低碳烷基，如甲基，乙基；2)單環結構的芳基。R14和R15可以同時低碳烷基，也可以同時是芳基，也可以分別為低碳烷基和芳基。具有通式結構V的二胺類化合物在整個二胺類化合物中的優選比例是1～30mol％。
為了提高抗熱性，帶有磺醯胺基或胺基結構的二胺類化合物可以按照合適的比例在整個二胺類化合物中進行使用。具體的磺醯胺基或醯胺基二胺類化合物包括4，4』-二氨基二苯基醚-3-磺醯胺，3，4』-二氨基二苯基醚-4-磺醯胺，3，4』-二氨基二苯基醚-3』-磺醯胺，3，3』-二氨基二苯基醚-4-磺醯胺，4，4』-二氨基二苯基醚-3-醯胺，3，4』-二氨基二苯基醚-4-醯胺，3，4』-二氨基二苯基醚-3』-醯胺，3，3』-二氨基二苯基醚-4-醯胺以及其它。
上述含有磺醯胺基和醯胺基的二胺類化合物在整個二胺類化合物中的比例優選為1～30mol％。
如上述的各類二胺類化合物，本發明中其可以獨立使用，也可以是不同的類型，不同結構的二胺化合物合併使用。
考慮到醯亞胺塗層的特徵，本發明中聚醯亞胺前體化合物(組份A)的分子量優選為10000～200000。更優選的範圍是20000～80000。
本發明中六芳基二咪唑化合物(組份B)在光敏組合物體系中的使用量，相對100份組份A，其優選值為0.1～20wt.％，更優選範圍是0.1～10wt.％，尤其優選範圍是0.5～10wt.％。
本發明中的一個重要技術要點在於可光聚合組合物中的組份A含有聚醯亞胺前體化合物。組份A優選含有另外的在大氣壓情況下沸點大於100℃的可光聚合化合物，該可光聚合化合物相對於100份聚醯亞胺前體化合物的使用比例優選是5～50wt.％。
本發明中的光敏組合物可以通過添加合適的氫給予體到光聚合引發體系中所實現更優異的光敏特性。已知的氫給予體，如胺類化合物可以使用，尤其適合的氫給予體是芳基氨基乙酸化合物和巰基化合物。
本發明中適合用作氫給予體的芳基氨基乙酸化合物具體可以包括N-苯基氨基乙酸，N-(對-氯苯基)氨基乙酸，N-(對-溴苯基)氨基乙酸，N-(對氰基苯基)氨基乙酸，N-(對-甲基苯基)氨基乙酸，N-甲基-N-苯基氨基乙酸，N-(對-溴苯基)-N-甲基氨基乙酸，N-(對-氯苯基)-N-乙基氨基乙酸及其它。
本發明中適合用作氫給予體的巰基化合物具體可以包括巰基苯並噁唑，巰基苯並噻唑，巰基苯並咪唑，2，5-二巰基-1，3，4-噻二唑，1-苯基-5-巰基-1H-四唑，5-甲基-1，3，4-噻二唑-2-硫醇，3-巰基-4-甲基-4H-1，2，4-三唑以及其它。
上述氫給予體，相對於100份組份A而言，其使用比例在0.1～15wt.％，更優選是0.5～10wt.％。
本發明中光敏組合物也可以進行除氫給予體以外的其它敏感劑的添加。具體的敏感劑可以包括7-N，N-二乙氨基香豆素，3，3』-醯基雙(7-N，N-二乙氨基)香豆素，3-噻吩基醯基-7-N，N-二乙氨基香豆素，3-苯甲醯基香豆素，3-苯甲醯基-7-N，N-二乙氨基香豆素，，3-(4』-甲氧基苯甲醯基)香豆素，二甲氨基二苯甲酮，二乙氨基二苯甲酮，4，4』-雙(N-乙基-N-甲基)二苯甲酮以及其它。
上述敏感劑的使用依賴於其自身的分子量以及其在特定曝光波長下的消光係數來確定，針對i-線曝光體系(365nm)，其使用比例相對於100份組份A而言，其使用比例在0.1～10wt.％，更優選是0.1～2wt.％。
光敏組合物的各組份通常溶解或分散在有機溶劑中，適合的有機溶劑包括丙酮，甲基乙基酮，二乙基酮，甲苯，氯仿，甲醇，乙醇，1-丙醇，2-丙醇，1-丁醇，2-丁醇，叔丁基醇，乙二醇單甲醚，二甲苯，四氫呋喃，二氧六環，環戊酮，N，N-二甲基乙醯胺，N，N-二甲基甲醯胺，N-甲基-2-吡咯烷酮，N-乙醯基-2-吡咯烷酮，N-苄基-2-吡咯烷酮，γ-丁丙酯，二甲基亞碸，亞乙基碳酸酯，亞丙基碳酸酯，六甲基磷醯胺，N-乙醯基-ε-己內醯胺，二甲基咪唑啉酮，二乙二醇二甲基醚，三乙二醇二甲基醚。可以是單獨的溶劑也可以是兩種或多種溶劑的混合物。溶劑的使用量沒有嚴格的限制，常用的比例相對於整個體系而言，其適合的範圍是10～90wt.％。
其它的添加劑，如增塑劑、交聯促進劑以及其它特徵的添加劑可以引入到本發明的光敏組合物體系中。
本發明提供了利用上述光敏組合物通過光刻技術和固化技術形成塗層，並基於塗層獲得圖象的方法。首先將含有聚醯亞胺前體化合物的光敏組合物塗覆於基材的表面，為了增加塗層或熱固化聚醯亞胺塗膜於基材間的交聯性，基材的表面往往先用粘合劑進行處理。含有聚醯亞胺前體化合物的光敏組合物塗層的形成可以依賴粘合劑的粘性和其它特定的方法。然後經過對應與特定圖象的光掩膜進行曝光。未曝光的部分通過有機溶劑或鹼性水溶液移除而得到所要求的光刻圖象。
在擴散步驟中，合適的有機溶劑可以是γ-丁內酯，環戊酮，N-甲基吡咯烷酮，二甲基亞碸，二甲基乙醯胺以及它們的混合物。
鹼性水溶液可以通過將鹼性化合物溶解在水中進行製備，其濃度比例在0.1～50wt％之間，優選範圍是0.1～30wt.％。為了提高聚醯亞胺前體化合物的溶解性，鹼性水溶液中可以含有水溶性的有機溶劑，包括甲醇，乙醇，丙醇，異丙醇，N-甲基-2-吡咯烷酮，N，N-二甲基乙醯胺以及其它。
上述的鹼性化合物具體可以包括鹼金屬、鹼土金屬、銨基、胺的氫氧化物或碳酸鹽。例如2-二甲氨基乙醇，3-二甲氨基-1-丙醇，4-二甲氨基-1-丁醇，5-二甲氨基-1-戊醇，6-二甲氨基-1-己醇，2-二甲氨基-2-甲基-丙醇，3-二甲氨基乙醇-2，2-二甲基-1-丙醇，2-異丙氨基乙醇，2-二正丁氨基乙醇，N，N-二苄基-2-氨基乙醇，2-(2-二甲氨基乙氧基)乙醇，2-(2-二乙氨基乙氧基)乙醇，1-二甲氨基-2-丙醇，1-二乙氨基-2-丙醇，N-甲基-二乙醇胺，N-乙基二乙醇胺，N-正丁基二乙醇胺，N-叔丁基二乙醇胺，N-月桂基二乙醇胺，3-二乙氨基-1，2-丙二醇，三乙醇胺，三異丙醇胺，N-甲基乙醇胺，N-乙基乙醇胺，N-正丁基乙醇胺，N-叔丁基乙醇胺，二乙醇胺，二異丙醇胺，2-氨基乙醇，3-氨基-1-丙醇，4-氨基-1-丁醇，5-氨基-1-戊醇，6-氨基-1-己醇，1-氨基-2-丙醇，2-氨基-2，2-二甲基-1-丙醇，1-氨基丁醇，2-氨基-1-丁醇，N-(2-氨乙基)乙醇胺，2-氨基-2-甲基-1，3-丙二醇，2-氨基-2-乙基-1，3-丙二醇，3-氨基-1，2-丙二醇，2-氨基-2-羥甲基-1，3-丙二醇，氫氧化鈉，氫氧化鉀，氨水，碳酸鈉，碳酸鉀，碳酸銨，碳酸氫鈉，碳酸氫鉀，碳酸氫銨，四甲基氫氧化銨，四乙基氫氧化銨，四丙基氫氧化銨，四異丙基氫氧化銨，氨基甲醇，2-氨基乙醇，3-氨基丙醇，2-氨基丙醇，甲胺，乙胺，丙胺，異丙胺，二甲胺，二乙胺，二丙胺，二異丙胺，三甲胺，三乙胺，三丙胺，三異丙胺以及其它具有水溶性的鹼性物質。
本發明設計將聚醯亞胺所獲得圖象在溫度範圍150～450℃進行熱處理，以實現圖象的優異解析度、抗熱性以及其它滿意的應力狀況。
下述實例將詳細說明本發明，但無論如何不限制本發明範圍。具體實例主要涉及到通式I二苯甲酮衍生物光引發劑的製備以及其在紫外光固化體系中的應用。
具體實施例方式製備實施例一聚醯亞胺前體化合物的合成(1)醯氯化合物的合成在裝有攪拌、溫度計和回流冷凝管的反應容器中，加入10g(0.034mol)3，3』，4，4』-聯苯四羧酸二酸酐(BPDA)，8.84g(0.068mol)2-羥乙基甲基丙烯酸(HEMA)，5.38g(0.068mol)吡啶，0.03g叔丁基苯磷二酚以及80mlN-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)，在60℃攪拌反應，在溶液變澄清後繼續攪拌10小時，將反應體系進行冰浴，在20分鐘內滴加10g(0.084mol)亞硫醯氯，在室溫情況下攪拌反應得到醯氯結構的化合物。
(2)聚醯亞胺前體化合物(聚醯胺酸酯)的合成在另外的反應容器中，加入5.02g(0.033mol)3，5-二氨基苯甲酸，5.38g(0.068mol)吡啶，0.03g叔丁基苯磷二酚以及60mlN-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)，將反應容器置於冰浴中，使得整個體系的溫度在10℃以下，向上述反應體系中滴加(1)中所獲得的醯氯化合物，滴加時間控制在1小時左右。反應體系繼續在室溫下繼續攪拌2小時，反應結束後將反應混合物傾入1L水中，過濾沉澱聚合物，水洗後乾燥得到22g聚醯胺酸酯。通過GPC測定其平均分子量為50000。
製備實施例二2，2』-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-2-CF3-HABI)的合成 在3.5g2-(2-三氟甲基苯基)-4，5-雙(間-甲氧基苯基)咪唑溶解在20gN-甲基-2-吡咯烷酮，慢慢向反應體系中加入6g亞鐵氰化鉀、3.6gNaOH以及100ml水所形成的溶液，保持反應溫度在10～20℃之間，繼續攪拌10小時後，結束反應，過濾、水洗、乾燥後，利用丙酮-甲醇對目標產物進行重結晶，得到白色粉末。
通過1HNMR、13CNMR及MS測試，說明目標產物符合2，2』-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-2-CF3-HABI)的結構特性。
具體的元素分析情況如下實測值(計算值)C68.11％(68.08％)；H4.33％(4.28％)；N6.68％(6.62％)。F元素的測試結果實測值(計算值)13.42％(13.46％)。
製備實施例三2，2』-雙(4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-4-CF3-HABI)的合成 在3.5g2-(4-三氟甲基苯基)-4，5-雙(間-甲氧基苯基)咪唑溶解在20gN-甲基-2-吡咯烷酮，慢慢向反應體系中加入6g亞鐵氰化鉀、3.6gNaOH以及100ml水所形成的溶液，保持反應溫度在10～20℃之間，繼續攪拌10小時後，結束反應，過濾、水洗、乾燥後，利用丙酮-甲醇對目標產物進行重結晶，得到白色粉末。
通過1HNMR、13CNMR及MS測試，說明目標產物符合2，2』-雙(4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-4-CF3-HABI)的結構特性。
具體的元素分析情況如下實測值(計算值)C68.21％(68.08％)；H4.44％(4.28％)；N6.69％(6.62％)。F元素的測試結果實測值(計算值)13.41％(13.46％)。
製備實施例四2，2』-雙(2-三氟甲基-4-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-2-CF3-4-F-HABI)的合成
在3.7g2-(2-三氟甲基-4-氟苯基)-4，5-雙(間-甲氧基苯基)咪唑溶解在20gN-甲基-2-吡咯烷酮，慢慢向反應體系中加入6g亞鐵氰化鉀、3.6gNaOH以及100ml水所形成的溶液，保持反應溫度在10～20℃之間，繼續攪拌10小時後，結束反應，過濾、水洗、乾燥後，利用丙酮-甲醇對目標產物進行重結晶，得到白色粉末。
通過1HNMR、13CNMR及MS測試，說明目標產物符合2，2』-雙(2-三氟甲基-4-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(m-MeO-2-CF3-4-F-HABI)的結構特性。
具體的元素分析情況如下實測值(計算值)C65.41％(65.31％)；H3.91％(3.88％)；N6.32％(6.35％)。F元素的測試結果實測值(計算值)17.29％(17.22％)。
製備實施例五2，2』-雙(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(縮寫成m-MeO-2-F-4-CF3-HABI)的合成
在3.7g2-(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，5-雙(間-甲氧基苯基)咪唑溶解在20gN-甲基-2-吡咯烷酮，慢慢向反應體系中加入6g亞鐵氰化鉀、3.6gNaOH以及100ml水所形成的溶液，保持反應溫度在10～20℃之間，繼續攪拌10小時後，結束反應，過濾、水洗、乾燥後，利用丙酮-甲醇對目標產物進行重結晶，得到白色粉末。
通過1HNMR、13CNMR及MS測試，說明目標產物符合2，2』-雙(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑(m-MeO-2-F-4-CF3-HABI)的結構特性。
具體的元素分析情況如下實測值(計算值)C65.35％(65.31％)；H3.92％(3.88％)；N6.31％(6.35％)。F元素的測試結果實測值(計算值)17.24％(17.22％)。
應用實施例一和對比例一(1)光敏聚醯亞胺前體組合物的製備將10g製備實施例一中所得到的聚醯亞胺前體化合物和10g2γ-丁內酯、2g環戊酮進行攪拌，在上述體系中加入2.5g四乙二醇二丙烯酸酯單體以及表1中所列舉的光敏劑。然後通過3μm濾紙進行過濾得到光敏舉醯亞胺前體組合物的溶液。
表1
表1中NPG是指N-苯基氨基乙酸(2)圖象生成在(1)中所製備的光敏聚醯亞胺前體組合物塗覆於矽片上，前烘焙溫度90℃，烘焙時間200秒，形成14μm厚的塗膜。將該塗膜放置於i-線步進機中進行曝光，曝光強度是40mJ/cm2，80mJ/cm2，120mJ/cm2，160mJ/cm2，200mJ/cm2，240mJ/cm2，280mJ/cm2，320mJ/cm2，360mJ/cm2。採用兩種不同的掩膜圖象以評估應用結果。其一是開放性圖象；其二是島嶼型圖像。曝光後將塗層浸漬在2.38wt.％或8.10wt.％四甲基氫氧化銨，然後水洗。
具體的光敏性評估結果見表2。
E1/2表示要求得到7μm最終厚塗膜(塗膜50％)所要求的曝光量(mJ/cm2)實施光敏性以得到8μm的解析度所要求的曝光量表2
應用實施例二和對比例二(1)光敏聚醯亞胺前體組合物的製備將10g製備實施例一中所得到的聚醯亞胺前體化合物和16gN-甲基-2-吡咯烷酮、2g環戊酮進行攪拌，在上述體系中加入2g四乙二醇二丙烯酸酯單體以及表3中所列舉的光敏劑。然後通過3μm濾紙進行過濾得到光敏舉醯亞胺前體組合物的溶液。
表3
表1中NPG是指N-苯基氨基乙酸；MEAB是指4，4』-雙(N-乙基-N-甲基)二苯甲酮(2)圖象生成在(1)中所製備的光敏聚醯亞胺前體組合物塗覆於矽片上，前烘焙溫度90℃，烘焙時間200秒，形成18μm厚的塗膜。將該塗膜放置於i-線步進機中進行曝光，曝光強度是40～360mJ/cm2。曝光後將塗層浸漬在γ-丁內內酯/乙酸丁酯中進行擴散，而後用丙二醇單甲基醚乙酸酯進行洗滌。
具體的光敏性評估結果見表4。E1/2表示要求得到7μm最終厚塗膜(塗膜50％)所要求的曝光量(mJ/cm2)實施光敏性以得到6μm的解析度所要求的曝光量表4
在應用實施例一中所得到的圖象在N2保護的情況下，在100℃加熱30分鐘，而後在200℃加熱30分鐘，再在350℃加熱60分鐘而得到聚醯亞胺圖象，厚度0.9μm，並具有優異的圖像特徵。
從上面的描述中可以知道本發明中含有通式I結構六芳基二咪唑化合物的光敏組合物可以顯現出4到5倍於Cl-HABI的光敏性，故而其可以在低水平曝光量的情況下實現優異的圖象光刻特徵。
本發明所涉及的通式I結構的六芳基二咪唑作為高效的光敏聚合引發劑，可以在低曝光量的情況下實現優異的光刻特徵，同時其也可以在鹼性水溶液中進行擴散。
權利要求
1.本發明涉及到通式I結構六芳基二咪唑衍生物，其用作光聚合反應引發劑。 其中R1，R2獨立是烷基、含氟烷基；X1，X2，X3，X4，X5獨立是氫，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5中至少有一個基團為含氟烷基。
2.如權利要求1，本發明涉及通式I二聚體結構中具有優勢的異構體構型如Ia所示 其中R1，R2獨立是烷基、含氟烷基；X1，X2，X3，X4，X5獨立是氫，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5中至少有一個基團為含氟烷基。
3.本發明涉及一類光敏性組合物，其包括A)至少一種含有碳碳雙鍵的可光聚合化合物；B)至少含有一種六芳基二咪唑化合物，其特徵為通式I化合物。 其中R1，R2獨立是烷基、含氟烷基；X1，X2，X3，X4，X5獨立是氫，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5中至少有一個基團為含氟烷基。
4.如權利要求1和2，R1，R2優選為C1～10烷基及C1～10含氟烷基，更優選為C1～2烷基及C1～2含氟烷基。
5.如權利要求1和2，X1，X2，X3，X4，X5優選為C1～10烷基，C1～10烷氧基及C1～10含氟烷基，更優選為C1～2烷基，C1～2烷氧基及C1～2含氟烷基。在通式I和Ia所示六芳基二咪唑衍生物結構，在其中兩個含有X1，X2，X3，X4，X5的苯環上優選為其中有1～2個Xi(i＝1～6)為C1～2含氟烷基，或同時存在1～3個Xj(j＝1～6)為氟。
6.如權利要求1，2，4，5，本發明通式I和Ia結構六芳基二咪唑衍生物的優選化合物包括2，2』-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(3-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，4-二(三氟甲基)-苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，6-二(三氟甲基)-苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-4-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-6-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-4，6-二氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，3-二氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(3-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，4-二(三氟甲基)-苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，6-二(三氟甲基)-苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-4-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-6-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-4，6-二氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2，3-二氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-乙氧基苯基)-1，2』-二咪唑。
7.如權利要求1，2，4，5，6，本發明通式I和Ia結構六芳基二咪唑衍生物的尤其優選化合物包括2，2』-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-三氟甲基-4-氟苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑2，2』-雙(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，4』，5，5』-四(間-甲氧基苯基)-1，2』-二咪唑。
8.如權利要求3，本發明涉及一類光敏性組合物，其組成包括1)100份wt.％組份A；2)0.1～20份wt％組份B。
9.本發明涉及一種獲得圖象的方法，其步驟包括(1)利用光敏性組合物形成塗膜；該光敏性組合物含有A)至少一種含有碳碳雙鍵的可光聚合化合物；B)至少含有一種六芳基二咪唑化合物，其特徵為通式I化合物； 其中R1，R2獨立是烷基、含氟烷基；X1，X2，X3，X4，X5獨立是氫，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5中至少有一個基團為含氟烷基。(2)帶有特定設計圖象的掩膜加以塗膜覆蓋，進行曝光；3)在有機溶劑或鹼性水相溶液中進行擴散。
全文摘要
本發明涉及通式I六芳基二咪唑衍生物及其製備方法。其中R
文檔編號H01L21/027GK1727999SQ20051003881
公開日2006年2月1日 申請日期2005年4月11日 優先權日2005年4月11日
發明者徐俊偉, 黃建, 鄧愛斌 申請人:常州華鈦化學有限公司