一種合成銅盤的排汙結構的製作方法
2023-05-09 19:00:26
一種合成銅盤的排汙結構的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種合成銅盤的排汙結構，包括銅盤主體和排汙結構，銅盤主體包括內環區和外環區，排汙結構包括排汙入口、排汙通道以及排汙出口；上述的排汙入口位於銅盤主體的內環區且位置低於銅盤主體的表面，排汙入口與銅盤主體表面之間設置有直角溝槽結構，排汙入口通過排汙通道與排汙出口相連接，所述排汙通道位於銅盤主體的內部，所述排汙出口位於銅盤主體的側壁；即通過在排汙入口處增加了直角溝槽結構，從而使得產生的廢液可以堆積在內環區的低凹處，進而使得廢液快速流入到該排汙孔內，最終實現了加速排汙的效果，達到了提高生產效率的目的。
【專利說明】一種合成銅盤的排汙結構
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及研磨盤領域，特別涉及一種合成銅盤的排汙結構。
【背景技術】
[0002]特殊工件對於其表面的平整度有要求，如LED晶片、LED襯底、LED顯示屏光學晶體、矽片、化合物晶體、液晶面板、寶石、陶瓷、鍺片、金屬工件等，通常這些工件表面的平整工藝需要研磨盤，再配以研磨液進行拋光。
[0003]由於研磨盤需要與研磨液配合使用，而使用後的研磨液則需要從研磨盤上排放掉，現有的排汙結構雖然能夠實現對廢液的排汙效果，但排汙效率較低，從而影響了整個生產流程的生產效率，進而導致了生產成本的提高。
實用新型內容
[0004]為了解決上述問題，本實用新型提供本一種合成銅盤的排汙結構，可以在現有技術的基礎上，實現快速排汙的效果。
[0005]本實用新型中的一種合成銅盤的排汙結構，包括銅盤主體和排汙結構，所述銅盤主體包括內環區和外環區，所述排汙結構包括排汙入口、排汙通道以及排汙出口 ；其中，所述排汙入口位於銅盤主體的內環區且位置低於銅盤主體的表面，所述排汙入口與銅盤主體表面之間設置有直角溝槽結構，所述排汙入口通過排汙通道與排汙出口相連接，所述排汙通道位於銅盤主體的內部，所述排汙出口位於銅盤主體的側壁。
[0006]上述結構中，所述銅盤主體的內環區還設置有安裝孔。
[0007]上述結構中，所述直角溝槽結構的深度為10mm。
[0008]上述結構中，所述合成銅盤包含兩個排汙結構。
[0009]上述結構中，所述兩個排汙結構設置於合成銅盤的同一條直徑上。
[0010]本實用新型的優點和有益效果在於:本實用新型提供一種合成銅盤的排汙結構，通過在排汙入口處增加了直角溝槽結構，從而使得產生的廢液可以堆積在該直角溝槽中，進而使得廢液快速流入到該排汙孔內，最終實現了加速排汙的效果，達到了提高生產效率的目的。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0012]圖1為本實用新型中合成銅盤的截面示意圖。
[0013]圖中:1、內環區2、外環區31、排汙入口 32、排汙通道33、排汙出口 4、安裝孔【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖和實施例，對本實用新型的【具體實施方式】作進一步描述。以下實施例僅用於更加清楚地說明本實用新型的技術方案，而不能以此來限制本實用新型的保護範圍。
[0015]如圖1所示，本實用新型是一種合成銅盤的排汙結構，包括銅盤主體和排汙結構，其中，銅盤主體包括內環區I和外環區2，內環區I比外環區2更靠近合成銅盤的圓心；
[0016]優選的，內環區I內設置有安裝孔4，以便實現更為方便的合成銅盤的安裝工作。
[0017]進一步的，排汙結構包括排汙入口 31、排汙通道32以及排汙出口 33，其中，排汙入口 31位於銅盤主體的內環區1，且位置低於銅盤主體的表面，以便廢液排出，而且排汙入口 31與銅盤主體表面之間設置有直角溝槽結構(未在圖中標出)，該直角溝槽結構的深度為IOmm,由於增加了該直角溝槽結構，再通過地球引力的作用，便可以實現加速排汙的效果；
[0018]同時，排汙入口 31通過排汙通道32與排汙出口 33相連接，所述排汙通道32位於銅盤主體的內部，所述排汙出口 33位於銅盤主體的側壁；即廢液通過排汙入口 31進入到排汙通道32內，再由排汙出口 33將廢液排出，以此實現排汙效果。
[0019]優選的，上述合成銅盤包含兩個排汙結構，且該兩個排汙結構設置於合成銅盤的同一條直徑上，以便實現更好的排汙效果。
[0020]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，並不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護範圍之內。
【權利要求】
1.一種合成銅盤的排汙結構，包括銅盤主體和排汙結構，所述銅盤主體包括內環區和外環區，所述排汙結構包括排汙入口、排汙通道以及排汙出口 ；其特徵在於，所述排汙入口位於銅盤主體的內環區且位置低於銅盤主體的表面，所述排汙入口與銅盤主體表面之間設置有直角溝槽結構，所述排汙入口通過排汙通道與排汙出口相連接，所述排汙通道位於銅盤主體的內部，所述排汙出口位於銅盤主體的側壁。
2.根據權利要求1所述的合成銅盤的排汙結構，其特徵在於，所述銅盤主體的內環區還設置有安裝孔。
3.根據權利要求1所述的合成銅盤的排汙結構，其特徵在於，所述直角溝槽結構的深度為10_。
4.根據權利要求1所述的合成銅盤的排汙結構，其特徵在於，所述合成銅盤包含兩個排汙結構。
5.根據權利要求1所述的合成銅盤的排汙結構，其特徵在於，所述兩個排汙結構設置於合成銅盤的同一條直徑上。
【文檔編號】B24B37/16GK203680025SQ201420031421
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2014年1月18日 優先權日:2014年1月18日
【發明者】朱孟奎 申請人:上海百蘭朵電子科技有限公司