耐高溫光亮鍍錫穩定劑的製作方法

2023-09-23 18:04:20 1

專利名稱：耐高溫光亮鍍錫穩定劑的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種電鍍添加劑，具體地說是一種耐高溫光亮鍍錫穩定劑。
背景技術：
在電子工業中，對光亮鍍錫的要求十分嚴格，不僅應滿足常規的結合力好、結晶細緻光滑、脆性低、可焊性能好等諸多要求外，還要求鍍層無錫須，無漏點、針孔、麻點；鍍液還應沉積速度快、能適應較高的溫度條件下工作。目前的光亮鍍錫主要是硫酸鹽——硫酸液工藝。它的特點是成份簡單，沉積速度快，操作方便，成本低廉，所得的鍍層基本可以滿足上述要求。但不足之處是，鍍液適應的溫度較低，一般只能在15-25°C之間，超過了 30°C則溶液易渾濁、沉澱、Sn4+極易產生，並隨之產生鍍層外觀呈現霧狀、灰斑、並有針孔、麻點，甚至有晶須產生。這將對微電子線路帶來極大的危害。在硫酸鹽或氯化物的二價錫鍍錫過程中，由於原料的帶入以及陽極上電化學陽極氧化，致使溶液中四價錫離子越積累越多，當到達一定的濃度後，將造成陰極電流效下降、 鍍液分散能力差、鍍層粗糙、並有錫須產生等諸多問題。故常在工藝中使用較高濃度的硫酸，以期減輕這種現象。然而，硫酸濃度過高，則致使鍍液極易升溫，其次對安全生產又帶來較大的隱患，且又不能有效地抑制四價錫的產生。鑑於上述情況，本發明研究了適合在較寬、較高的溫度範圍光亮鍍Sn穩定劑。

發明內容
本發明的目的就是針對現有光亮鍍錫工藝的缺陷，提供一種耐高溫光亮鍍錫穩定劑。本發明不僅能抑制Sn2+的氧化、對Sn2+有良好的穩定作用，還對Sn4+有較強的還原作用，可以將溶液中已存在的Sn4+有效地還原為Sn2+。本明通過以下技術方案實現它是由結構式為
權利要求
1.一種耐高溫光亮鍍錫穩定劑，它是由結構式為
2.根據權利要求1所述的一種耐高溫光亮鍍錫穩定劑，其特徵是所述的A物質為聚乙烯醇1000、聚乙烯醇1200或聚乙烯醇20000。
3.根據權利要求1所述的一種耐高溫光亮鍍錫穩定劑，其特徵是所述的B物質為抗壞血酸、葡萄糖或多聚糖。
4.根據權利要求1所述的一種耐高溫光亮鍍錫穩定劑，其特徵是1000毫升混合溶液中含硫酸鋁鉀15 25克、鎢酸鈉10 15克、A物質3. 0-5. 0克、B物質7. 5-10克。
全文摘要
本發明涉及一種電鍍添加劑，具體地說是一種耐高溫光亮鍍錫穩定劑。它是由結構式為的A物質、結構式為的B物質、鎢酸鈉和硫酸鋁鉀組成的混合溶液，其中A物質中R1、R2為H、-OH或-CH2OH，n＝10～15，R1、R2相同或不同；其中B物質中R1為O，R2為-CnH2nOH，n整數；1000毫升混合溶液中含硫酸鋁鉀10～30克、鎢酸鈉5～20克、A物質3.0-10克、B物質5-15克。本發明不僅能抑制Sn2+的氧化、對Sn2+有良好的穩定作用，還對Sn4+有較強的還原作用，可以將溶液中已存在的Sn4+有效地還原為Sn2+；並能對溶液中的浮懸物有凝聚沉澱功能，保證了溶液的長時間透明。
文檔編號C25D3/32GK102304733SQ201110241599
公開日2012年1月4日 申請日期2011年8月22日 優先權日2011年8月22日
發明者周自強, 宋文超, 左正忠, 胡哲 申請人:武漢吉和昌化工科技有限公司