一種具有金屬反射效果的藍色裝飾介質膜的製作方法

2023-06-02 18:26:16 1

專利名稱：一種具有金屬反射效果的藍色裝飾介質膜的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及用於手機貼膜的技術領域，特指一種用於手機上、具有金屬反射 效果的藍色裝飾介質膜。
背景技術：
具有金屬鏡面效果的反射膜廣泛應用於各種電子消費品如手機等的裝飾領域，利 用介質膜的光幹涉原理，用非金屬的介質材料，採取多層介質膜疊加的方法，鍍制出不導電 的具有金屬鏡面效果的複合膜層。產品主要應用於帶射頻信號收發的電子產品如手機等外 觀裝飾結構件如鏡片等，使產品具有金屬質感。多層介質膜疊加的工藝，在電子槍設備鍍制減反射膜(AR膜)的生產中已廣泛應 用。如常見的一種AR膜產品，其膜層結構為Si02/Ti02/ Si02/Ti02。採用濺射工藝鍍制介 質膜，在ITO玻璃製造、太陽能基板製造等領域，已廣泛使用。這類產品，在功能膜層中廣泛 採用Si02、Cr02等介質膜層與其他膜層進行疊加。以改善膜層結構、光學特性等。上述設備、工藝方式、膜層結構、還沒有成熟固化的製程應用於裝飾功能膜層的生 產。特別是沒有結合後續的印刷工藝，形成產業化生產。發明內容本新型的目的就是針對現有技術的不足之處而提供一種具有金屬反射效果的藍 色裝飾介質膜。為達到上述目的，本新型的技術方案是一種具有金屬反射效果的藍色裝飾介質 膜，包括有由PET塑料或PC塑料或PMMA塑料材料製成的裝飾基膜，在所述裝置基膜表面 上濺射鍍有厚度為36nm-38nm的Cr203層；在Cr203層上覆蓋濺射鍍有厚度70nm-80nm的 Cr4N3層；在Cr4N3層上覆蓋濺射鍍有厚度為46nm-55nm的Si02氧化層。採用上述結構後，本新型採用多層連續鍍膜設備與反應濺射工藝，利用多層介質 膜的每一層的光反射形成相互幹涉的原理，實現非金屬的介質膜層具有金屬的鏡面發射效 果，採用本新型中的四種指定厚度的材料按上述結構連續濺射成膜後，本新型的裝飾介質 膜具有藍色反光效果，廣泛應用在手機等裝飾領域。
圖1為本新型結構原理示意圖。
具體實施方式
如圖1所示，本新型的一種具有金屬反射效果的藍色裝飾介質膜，包括有由PET塑 料或PC塑料或PMMA塑料材料製成的裝飾基膜10，在所述裝置基膜10表面上濺射鍍有厚度 為36nm-38nm的Cr203層20 ；在Cr203層20上覆蓋濺射鍍有厚度70nm_80nm的Cr4N3層 30 ；在Cr4N3層30上覆蓋濺射鍍有厚度為46nm-55nm的Si02氧化層40。[0010]這裡的PET塑料學名為聚對苯二甲酸乙二醇酯屬線型飽和聚酯樹脂；這裡的PC塑 料學名為聚碳酸脂；這裡的PMMA學名為聚甲基丙烯酸甲酯；這裡的Cr4N3是三氮化四鉻； 這裡的Cr203為三氧化二鉻；Si02為二氧化矽。本新型採用多層連續鍍膜設備與反應濺射工藝，利用多層介質膜的每一層的光反 射形成相互幹涉的原理，實現非金屬的介質膜層具有金屬的鏡面發射效果，採用本新型中 的四種指定厚度的材料按上述結構連續濺射成膜後，本新型的裝飾介質膜具有藍色反光效 果，廣泛應用在手機等裝飾領域。
權利要求1. 一種具有金屬反射效果的藍色裝飾介質膜，包括有由PET塑料或PC塑料或PMMA塑 料材料製成的裝飾基膜，其特徵在於在所述裝置基膜表面上濺射鍍有厚度為36nm-38nm 的Cr203層；在Cr203層上覆蓋濺射鍍有厚度70nm-80nm的Cr4N3層；在Cr4N3層上覆蓋濺 射鍍有厚度為46nm-55nm的Si02氧化層。
專利摘要本實用新型涉及一種具有金屬反射效果的藍色裝飾介質膜。它包括有由PET塑料或PC塑料或PMMA塑料材料製成的裝飾基膜，其特徵在於在所述裝置基膜表面上濺射鍍有厚度為36nm-38nm的Cr2O3層；在Cr2O3層上覆蓋濺射鍍有厚度70nm-80nm的Cr4N3層；在Cr4N3層上覆蓋濺射鍍有厚度為46nm-55nm的SiO2氧化層。本實用新型採用多層連續鍍膜設備與反應濺射工藝，利用多層介質膜的每一層的光反射形成相互幹涉的原理，實現非金屬的介質膜層具有金屬的鏡面發射效果，本實用新型的裝飾介質膜具有藍色反光效果。
文檔編號B44F9/10GK201833635SQ20102056301
公開日2011年5月18日 申請日期2010年10月15日 優先權日2010年10月15日
發明者金烈 申請人:深圳市金凱新瑞光電有限公司