一種可提高校驗周期的光譜分析儀的製作方法

2023-07-09 01:03:01 1

專利名稱：一種可提高校驗周期的光譜分析儀的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及光鐠分析儀，特別涉及一種可提高校驗周期的光譜分析儀。
技術背景光語分析儀通過物質的特徵光鐠來研究物質的化學成分和存在狀態，其具 有分析速度快、操作簡便和靈敏度高的諸多優點。光譜分析儀通常包括樣品採 集模塊、裝有樣品採集模塊所採集樣品的待測樣品模塊、用於產生測試用光的 光源模塊、用於處理透過待測樣品模塊後的光的光學處理模塊和用於對光學處 理模塊處理後的光進行光語分析的光語分析模塊，所述光學處理模塊包括三個 反射鏡，所述三個反射鏡設置在一暗室中，由於光譜分析儀通常設置在較潮溼 的環境中，而暗室又無任何抽風裝置與外界進行空氣交換，設置在所述暗室中 的反射鏡上易沉積水分，而水分會對光語分析儀的測試精度造成影響，故需頻 繁的對光鐠分析儀進行校驗(檢驗周期為由正常的一年縮短為半年或三個月)， 如此將會大大的增加成本。實用新型內容本實用新型的目的在於提供一種可提高校驗周期的光語分析儀，通過所述 光語分析儀可提高其校驗周期。本實用新型的目的是這樣實現的 一種可提高校驗周期的光鐠分析儀，其 包括樣品採集模塊、裝有樣品採集模塊所採集的樣品的待測樣品模塊、用於產 生測試用光的光源模塊、用於對透過待測樣品模塊的光進行光學處理的光學處 理模塊以及用於對光學處理模塊處理後的光進行光譜分析的光語分析模塊，該 光學處理模塊包括多個反射鏡，其中，該多個反射鏡設置在一暗室中，該暗室 中設置一抽風模塊。在上述的可提高校驗周期的光譜分析儀中，該抽風模塊包括用於產生負壓 的負壓驅動單元和與其相連接的抽風管路。在上述的可提高校驗周期的光鐠分析儀中，該暗室具有一狹縫，該抽風管
路通過該狹》老沒置在該暗室中。在上述的可提高校驗周期的光i普分析儀中，該反射鏡的數目為三個。 在上述的可提高校驗周期的光譜分析儀中，該光學處理模塊還包括一透鏡。 與現有技術中設置有反射鏡的暗室沒有抽風裝置易導致反射鏡上沉積水分 而使光語分析儀需頻繁校驗相比，本實用新型的可提高校驗周期的光i普分析儀 在該暗室中設置了一抽風裝置，從而可延長光語分析儀的校驗周期，大大節約 了成本。


本實用新型的可提高校驗周期的光語分析儀由以下的實施例及附圖給出。 圖1為本實用新型的可提高校驗周期的光譜分析儀的組成結構示意圖。
具體實施方式
以下將對本實用新型的可提高校驗周期的光譜'分析儀作進一 步的詳細描述。本實用新型的可提高校驗周期的光譜分析儀1包括樣品採集模塊IO、待測 樣品模塊ll、光源模塊12、光學處理模塊13、光譜分析模塊14、暗室15和抽 風模塊16。以下對光譜分析儀1的上述構成要件進行詳細說明。樣品採集模塊10用於對待測的化學品進行採樣。待測樣品模塊11裝有樣品採集模塊10所採集的樣品，所述待測樣品模塊 11可上下左右移動且可透光。光源模塊12用於產生測試用光，所述光源模塊12包括一光源(未圖示) 和用於將光源所產生的光處理為可直接進入待測樣口。。模塊11的測試用光的透鏡 (未圖示)。光學處理模塊13用於將透過待測樣品模塊11的光進行光學處理，其包括 透鏡130和三反射鏡131a、 131b、 131c。光譜分析模塊"用於將經光學處理模塊l3處理後的光進行分析以得出待 測樣品的化學成分等信息。三反射鏡131a、 131b、 131c和光鐠分析模塊14設置在暗室15中，所述暗室15還具有狹it 15 0。抽風模塊16通過所述狹縫150進入所述暗室15中，用於將暗室15的空氣 抽出從而使暗室l5內空氣與外界流通，所迷抽風衝莫塊16包括用於產生負壓的 負壓驅動單元160和與其相連接且通過狹縫150進入暗室15中的抽風管3各161。所述光譜分析儀1在對待測化學品進行分析時，首先先由樣品採集模塊10 對待測的化學品進行採樣，然後將採集所得樣品放置在待測樣品模塊ll中，接 著光源模塊l2所產生的測試用光透過待測樣品模塊U並經光學處理模塊13處 理後進入光譜分析模塊"，所述光譜分析模塊14即可依據進入其內部的光分析 出所述待測化學品的成分。實驗證明，在暗箱15中設置抽風模塊16可將光鐠測試儀的測試周期由沒 設置抽風模塊時的半年或三個月延長至一年，如此將大大節約校驗成本。綜上所述，本實用新型的可提高校驗周期的光語分析儀在所述暗室中設置 一可減少水分在反射鏡上沉積的抽風裝置，從而可延長光語分析儀的校驗周 期，大大節約了成本。
權利要求1、一種可提高校驗周期的光譜分析儀，其包括樣品採集模塊、裝有樣品採集模塊所採集的樣品的待測樣品模塊、用於產生測試用光的光源模塊、用於對透過待測樣品模塊的光進行光學處理的光學處理模塊以及用於對光學處理模塊處理後的光進行光譜分析的光譜分析模塊，該光學處理模塊包括多個反射鏡，其中，該多個反射鏡設置在一暗室中，其特徵在於，該暗室中設置一抽風模塊。
2、 如權利要求l所述的可提高校驗周期的光鐠分析儀，其特徵在於，該抽
3、 如權利要求2所述的可提高校驗周期的光譜分析儀，其特徵在於，該暗 室具有一狹縫，該抽風管路通過該狹縫設置在該暗室中。
4、 如權利要求1所述的可提高校驗周期的光鐠分析儀，其特徵在於，該反 射鏡的數目為三個。
5、 如權利要求1所述的可提高校驗周期的光i普分析儀，其特徵在於，該光 學處理模塊還包括一透鏡。
專利摘要本實用新型涉及一種可提高校驗周期的光譜分析儀。現有的光譜分析儀的反射鏡設置在無抽風裝置的暗室中易導致反射鏡上沉積水分而使光譜分析儀的校驗周期較短。本實用新型的可提高校驗周期的光譜分析儀包括樣品採集模塊、裝有樣品採集模塊所採集的樣品的待測樣品模塊、用於產生測試用光的光源模塊、用於對透過待測樣品模塊的光進行光學處理的光學處理模塊以及用於對光學處理模塊處理後的光進行光譜分析的光譜分析模塊，該光學處理模塊包括多個反射鏡，其中，該多個反射鏡設置在一暗室中，該暗室中設置一抽風模塊。採用本實用新型的光譜分析儀可提高校驗周期。
文檔編號G01N21/27GK201051073SQ20072007076
公開日2008年4月23日 申請日期2007年6月8日 優先權日2007年6月8日
發明者石春來 申請人:中芯國際集成電路製造(上海)有限公司