一種減少催化劑攜帶烴類的系統的製作方法

2023-07-24 10:00:11 3

本實用新型涉及一種減少攜帶烴類系統，更具體的說是涉及一種減少催化劑攜帶烴類的系統。

背景技術：

連續重整裝置再生單元是由一套與反應部分密切相連又相對獨立的設備組成，其作用是實現催化劑連續循環的同時完成催化劑的再生；

催化劑進入反應器後，在積碳過程中催化劑會攜帶少量的烴類，隨著催化劑輸送帶入再生部分，隨附產生燒焦過程中使得再生單元水含量超標，再生單元水含量超標會使氯吸附罐在催化劑循環過程中產生吸附熱，存在超溫現象導致催化劑破壞並難於重複利用；且過量的水帶入重整反應系統，使得反應系統水含量超標，影響水氯平衡和產品分布。

技術實現要素：

本實用新型是為了彌補上述技術的缺陷，提供了一種簡單、容易實現的操作方法，降低了催化劑對烴類的攜帶量。

為實現上述目的，本實用新型提供了如下技術方案：包括依次連通的進料管道、反應器和出料管道，所述反應器上連通設置有催化劑循環管道，所述催化劑循環管道連接有氫氣吹掃管道，所述氫氣吹掃管道的另一端分別並行連接有氫氣再接觸機構和氫氣重整循環管道。

作為一種改進，所述氫氣吹掃管道上設置有換熱器。

作為一種改進，所述出料管道包括換熱管道和反應管道，所述換熱管道和反應管道的橫截面比為1：19，所述換熱管道連接換熱器。

作為一種改進，所述氫氣再接觸機構包括依次連通的壓縮機、蒸發器、氣液分離罐以及調節閥和PSA裝置。

本實用新型的有益效果是：本實用新型採用再接觸氫氣進行吹掃，使得吹掃氫的純度高，去除了由於循環氫攜帶的大分子烴類對後續步序的影響，對催化劑攜帶的烴類更易脫除；再生氯吸附的溫度得以控制，避免了由於氯吸附罐溫度超溫引起的再生熱停；再生單元在煉焦過程中產生的水含量降低，帶入重整反應系統水含量下降,同時並列設置的氫氣再接觸機構和氫氣重整循環管道利於控制各條支路的流量從而整體調控輸入吹掃氫氣的組成、流量等因素，適應性強。

附圖說明

圖1為本實用新型的整體結構示意圖。

圖2為本實用新型的氫氣再接觸機構的整體結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型的實施例進行詳細說明。

如圖1、圖2所示為本實用新型的一種減少催化劑攜帶烴類的系統的一種具體實施例，包括依次連通的進料管道1、反應器2和出料管道3，所述反應器2上連通設置有催化劑循環管道4，所述催化劑循環管道4連接有氫氣吹掃管道5，所述氫氣吹掃管道5的另一端分別並行連接有氫氣再接觸機構6和氫氣重整循環管道7；本實用新型引入氫氣吹掃管道5解決反應器2中催化器因反應物料中攜帶的物料烴清除率較低導致的超標的物料攜帶烴隨著催化劑輸送帶入再生部分，隨附產生燒焦過程中使得再生單元水含量超標，再生單元水含量超標會使氯吸附罐在催化劑循環過程中產生吸附熱，存在超溫現象導致催化劑破壞並難於重複利用；且過量的水帶入重整反應系統，使得反應系統水含量超標，影響水氯平衡和產品分布，進一步的，傳統領域往往採用單一的重整循環氫進行吹掃，而相對應的，重整循環氫因吹掃的氫氣本身的純度不夠，使得吹掃過程中又從重整循環氫中帶入了新的烴，不但起不到吹掃的效果，反而使得影響幹擾因素更多更難於控制，進而本實用新型採用氫氣再接觸機構6所獲得的再接觸氫氣進行吹掃，該部分氫氣由於經歷了氫氣再接觸機構6，由於該機構的存在使得吹掃氫氣的純度大幅提高，不僅不會帶入新的烴且能降低催化劑循環管道4上氫氣的純度，避免了上述問題的產生，提高催化劑利用率和產品的分布，同時，並行連接的氫氣再接觸機構6和氫氣重整循環管道7能通過在各自路徑上設置控制閥等使得每一條支路可控可調整，從而達到工藝所需的流量，可適應性和可調節性增高。

作為一種改進的具體實施方式，所述氫氣吹掃管道5上設置有換熱器5a，換熱器5a的引入使得吹掃氫氣進入催化劑循環管道4時不會因溫差過大導致反應器2受到衝擊過大，影響反應和成品率。

作為一種改進的具體實施方式，所述出料管道3包括換熱管道3a和反應管道3b，所述換熱管道3a和反應管道3b的橫截面比為1：19，所述換熱管道3a連接換熱器5a，進一步的，本實用新型將經過反應器後的出料一部分用於換熱器5a，功能，即一定程度保證了整體裝置可持續性，又能最優化獲得所需的反應產物比例。

作為一種改進的具體實施方式，所述氫氣再接觸機構6包括依次連通的壓縮機6a、蒸發器6b、氣液分離罐6c以及調節閥6d和PSA裝置6f；本部分採用依次連接的壓縮機6a、蒸發器6b(採用丙烷製冷劑)、氣液分離罐6c以及調節閥6d和PSA裝置6f對氫氣，該裝置特別適用於歧化尾氫的重整再接觸，其所獲得的氫氣純度高，雜質少，且兼具安全性能，並由於調節閥6d存在使得流量可控且平穩易於操作。

以上僅是本實用新型的優選實施方式，本實用新型的保護範圍並不僅局限上述實施例，凡屬於本實用新型思路下的技術方案均屬於本實用新型的保護範圍。應當指出，對於本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型原理前提下的若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本實用新型的保護範圍。