一種青釉墨彩瓷的生產方法

2023-11-02 19:05:52

專利名稱：一種青釉墨彩瓷的生產方法
技術領域：
本發明涉及一種青釉墨彩瓷(又名朦朧瓷)的生產方法，屬耀州青瓷的一種。
目前，市場上還未發現有同類產品。青釉墨彩瓷如同青花瓷或釉裡紅，它們同屬高溫釉下彩，而青釉墨彩瓷是先將坯品設計剔花再用雙層釉面在高溫下燒制而成。
本發明目的是提供一種使用設計剔花技術，在坯品上施多彩底釉、面釉耀州青瓷的製做方法。
本發明是通過如下方法完成的首先是制坯品，等坯品幹後施底釉，底釉的重量配方比是天然黃土80-82之間、基礎白釉8-10之間、化學混合材料7-9，這些材料經分別製漿同比重混合拌製成底釉，施底釉厚度為0.3-1m/m，化學混合材料為MNO、Fe2O3、ZHO其重量比為6∶3∶0.5，化學混合材料與高塑粘土兩者之重量比為1∶1。在施過底釉的坯品上設計剔花，然後入窯素燒、素燒的溫度為850-950度。素燒過的坯品再施面釉，面釉的配方是天然黃土泥漿與基礎白釉釉漿配合為6-5.5∶4-4.5，最後將施過面釉坯品入窯在1310-1320度溫度下燒成，經施過底面釉的坯品入窯燒成窯內氣氛常溫為1040度，氧化氣氛燒成游離氧含量為2-8％，1040-1320度為還原燒成氣氛，燒成一氧化碳含量為2-4％之間。本發明的工藝流程圖如下坯品-施底釉-設施剔花-素燒-施面釉-裝窯燒成。
本發明生產出的產品具有紋式清楚、面釉光亮、色彩豐富、畫面懸浮在胎釉之間，觀賞性強等優點。
實施例1、線條紋式畫面(圖一)，選質地較白的胎胚、施底釉厚為0.5m/m-7m/m剔出線條清晰之畫面，在900度下素燒施面釉厚度為0.3-0.5m/m之面釉在1310溫度下裝窯燒成，就製成了面釉光亮透底、白胎線條懸浮之畫面。
2、國畫寫意型(圖二)設計誇張之畫面，如牧牛圖施0.5m/m-1.2m/m之底釉，素燒後加施0.7m/m左右之面釉。燒成的瓷器產生底釉流動拉動面釉，產生象宣紙圖畫之效果，畫面豐富多彩。
3、窯變型(圖三)，選白刻黑底畫面，根據畫面改變施釉厚度會產生面釉出現的不同花紋，以飛雪迎春圖為例，繪圖-施底釉黑色度強烈厚度1.2m繪畫-素燒-施面釉厚度為1.5毫米，然後入窯燒成。
要產生不同的窯變和畫面的結合，必須掌握底釉面釉的高溫性，爭取多種手法取得多種效果。
權利要求
1.一種青釉墨彩瓷的生產方法，它通過制坯-施底釉-設計剔花-素燒-施面釉-裝窯燒成等工藝而完成，其特徵在於底釉的重量配方比是天然黃土80-82，基礎白釉8-10、化學混和材料7-9，面釉的重量配方比是天然黃土∶基礎白釉6-5.5∶4-4.5，施過底釉的坯品素燒溫度為850-950度，施過底、面釉燒溫度在1310-1320℃的溫度下燒成，經施過底面釉的坯品入窯燒成窯內氣氛常溫為1040度，氧化氣氛燒成游離氧含量2-8％，1040度-1320度為還原氣氛，燒成一氧化碳含量為2-4％之間。
2.如權利要求出1所述的一種青釉墨彩瓷的生產方法，其特徵在於化學混合材料為MNO、Fe2O3、ZHO。
3.如權利要求書1、2所述的一種青釉彩瓷的生產方法，其特徵在於坯品經施底釉後要進行設計剔花。
4.如權利要求書1、2所述的一種青釉墨彩瓷的生產方法，其特徵在於底釉厚度為0.3-1m/m，面釉施釉厚度為0.3-1m/m。
全文摘要
本發明涉及一種青釉墨彩瓷的生產方法,它是通過制坯、施底釉、設計剔花、素燒、施面釉入窯而燒成。其產品具有紋式清楚,面釉光亮,色彩豐富,觀賞性強等優點。
文檔編號C04B33/34GK1350995SQ00113960
公開日2002年5月29日 申請日期2000年10月31日 優先權日2000年10月31日
發明者王曉朝 申請人:王曉朝