一種新型超強超薄玻璃基片的成形系統及生產工藝的製作方法
2023-05-05 12:13:36
一種新型超強超薄玻璃基片的成形系統及生產工藝的製作方法
【專利摘要】一種新型超強超薄玻璃基片的生產工藝，包括如下步驟：1)稱取如下重量份數的原料：砂巖6.1～6.2份、矽砂1.0～1.06份、白雲石0.8～0.82份、石灰石0.39～0.44份、純鹼1.35～1.59份、芒硝0.12～0.13份；2)將上述原料輸送到熔窯內，在熔窯內將其熔化成優質玻璃液；3)將優質玻璃液流入錫槽內進行攤平、展薄、拋光成形；4)進入退火窯進行退火；5)把玻璃板切成厚度為0.4～1.2mm的玻璃片；6)用拋光裝置把玻璃片進行拋光，拋光成厚度為0.3～1.1mm的玻璃片。本發明的方法能工業化製備出在TN-LCD、STN-LCD使用的0.55～1.1mm浮法超薄玻璃；製得的玻璃平整度好，透光率高，適用於液晶顯示器、玻璃基板、手機觸控螢幕。
【專利說明】一種新型超強超薄玻璃基片的成形系統及生產工藝
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種玻璃的成形系統及生產工藝，尤其是涉及一種新型超強超薄玻璃基片的成形系統及生產工藝。
【背景技術】
[0002]一般把0.1~1.1mm厚度的玻璃稱為超薄玻璃，按生產工藝方法分類，有浮法超薄玻璃、格法(平拉)超薄玻璃、下拉法超薄玻璃。按照化學成分的不同，超薄玻璃可分為含鹼超薄玻璃和無鹼超薄玻璃。含鹼超薄玻璃指的是化學組成中含有鹼金屬氧化物的超薄玻璃，即鈉鈣矽玻璃或鋁矽酸鹽玻璃。無鹼超薄玻璃通常是指硬質硼酸鹽玻璃，其玻璃成分中含有B203，具有透光率高、光電性能好等特點。目前國內儀器儀表、鐘錶行業仍使用格法超薄玻璃，電子信息行業的中低檔液晶顯示器(TN-1XD、STN-1XD)普遍使用0.55~1.1mm浮法超薄玻璃，彩色液晶顯示器(TFT-LCD)則必須使用硼矽酸鹽超薄玻璃。液晶顯示器所需超薄玻璃，需要在玻璃表面鍍一層二氧化矽及氧化銦錫，稱為ITO導電膜玻璃，是作為液晶顯示器的透明電極材料。
[0003]國內外市場分析
[0004]目前國內能生產超薄玻璃的廠家有:洛玻集團龍門超薄浮法線、深圳南玻集團超薄浮法線、中國耀華超薄浮法線、浙玻集團超薄浮法線等。洛玻集團龍門超薄浮法線已生產出0.7mm超薄玻璃，這是我國第一條擁有自主智慧財產權的超薄浮法玻璃生產線，其產品實物質量達到國際同等產品質量標準，標誌著我國超薄玻璃工藝技術達到了世界先進水平。
[0005]近年來，平板顯示器技術飛速發展，對超薄玻璃需求量與日俱增，據有關資料分析，目前國內對0.7mm~1.1mm超薄玻璃年需求量約為5000萬平方米，並以每年15%的速度遞增。
[0006]國外生產超薄玻璃的公司有:美國康寧公司、英國皮爾金頓公司、日本旭硝子公司、日本電氣硝子、板硝子公司等。長期以來，浮法超薄技術都被國外公司所控制，由於存在巨大市場需求，技術實行封鎖，只賣產品不賣技術。隨著世界平板顯示技術的飛速發展，世界市場對超薄玻璃的需求巨大，據有關資料報導，目前國際市場對超薄玻璃的需求量以每年20%的速度遞增。因此發明一種工業化生產在TN-1XD、STN-1XD使用的0.55~1.1mm浮法超薄玻璃是本發明的目的所在。
【發明內容】
[0007]本發明要解決的第一個技術問題是提供一種新型超強超薄玻璃的成形系統。
[0008]本發明要解決的第二個技術問題是提供一種新型超強超薄玻璃的生產工藝；通過該方法可以工業化製備出在TN-1XD、STN-1XD使用的0.55~1.1mm浮法超薄玻璃；製得的玻璃平整度好，透光率高，適用於液晶顯示器、玻璃基板、手機觸控螢幕等。
[0009]為解決上述第一個技術問題，本發明一種新型超強超薄玻璃的成形系統，包括依次連接的熔窯、錫槽、退火窯、切裁機、切片機和拋光機。[0010]其中，所述熔窯用於混合料在其內熔化成優質均勻的玻璃液；所述錫槽用於玻璃液在其內成形玻璃板；所述退火窯用於玻璃板在其內退火消除應カ；所述切裁機用於將玻璃板切裁成各種規格的玻璃片；所述切片機用於將玻璃片再切片成0.4~1.2mm超薄玻璃片，所述拋光機用於將超薄玻璃片再拋光成0.3~1.1mm玻璃片。
[0011]為解決上述第二個技術問題，本發明採用如下的技術方案:
[0012]ー種新型超強超薄玻璃基片的製備方法，包括如下步驟:
[0013]I)原料的準備:
[0014]稱取如下重量份數的原料:砂巖6.1~6.2份、娃砂1.0~1.06份、白雲石0.8~0.82份、石灰石0.39~0.44份、純鹼1.35~1.59份、芒硝0.12~0.13份
[0015]2)熔融:將上述原料輸送到熔窯內，在熔窯內將其熔化成優質玻璃液；
[0016]3)成形:將優質玻璃液流入錫槽內進行攤平、展薄、拋光成形；
[0017]4)退火:成型的玻璃板進入退火窯進行退火，消除由於溫度差引起的暫時應力，製得玻璃板；
[0018]5)切片:用切片機把玻璃板切成厚度為0.4~1.2mm的玻璃片；
[0019]6)拋光:用拋光裝置把玻璃片進行拋光，拋光成厚度為0.3~1.1mm的玻璃基片；
[0020]優選地，步驟5)的具體步驟如下:將玻璃板輸送到切片機內，切片機進行切片時的有關參數為:切片最大規格為180*200mm，切割速度20~30mm/h，切割線速度400~600m/min，砂液配比1: 1.2~1.6，砂液溫度22~26°C，砂液可用時間為75~85小時，砂液材料為碳化矽膠；
[0021]優選地,步驟6)拋光具體步驟如下:
[0022]A.測玻璃片厚度,放入遊輪片中,遊輪片比切片大I~3mm，倒大圓角；
[0023]B.將遊輪片放入拋光碟上且布置好，空轉5~20圏；
[0024]C.初磨和精磨:遊輪片厚度比玻璃片厚度小0.03~0.06mm，研磨速度180~240轉/分，線速度350~450轉/分，研磨砂為中鋼砂；
[0025]D.精拋:遊輪片厚度比玻璃片厚度小0.02~0.04mm,拋光速度20~40轉/分，線速度400~800轉/分，拋光碟圈數為1500~2000圈，拋光粉為氧化鈰。
[0026]本發明的有益效果如下:通過本發明的方法可以エ業化製備出在TN-1XD、STN-1XD使用的0.55~1.1mm浮法超薄玻璃；製得的玻璃平整度好，透光率高，適用於液晶顯示器、玻璃基板、手機觸控螢幕等。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0027]圖1為本發明新型超強超薄玻璃的成形系統結構示意。
【具體實施方式】
[0028]實施例1
[0029]參見圖1所示，ー種新型超強超薄玻璃的成形系統，包括依次連接的熔窯1、錫槽
2、退火窯3、切裁機4、切片機5和拋光機6。
[0030]其中，所述熔窯I用於混合料在其內熔化成優質均勻的玻璃液；所述錫槽2用於玻璃液在其內成形玻璃板；所述退火窯3用於玻璃板在其內退火消除應カ；所述切裁機4用於將玻璃板切裁成各種規格的玻璃片；所述切片機5用於將玻璃片再切片成0.4~1.2mm超薄玻璃片，所述拋光機6用於將超薄玻璃片再拋光成0.3~1.1mm玻璃片。
[0031]一種新型超強超薄玻璃基片的製備方法，包括如下步驟:
[0032]I)原料的準備:
[0033]稱取如下重量份數的原料:砂巖6.1份、矽砂1.0份、白雲石0.8份、石灰石0.39份、純鹼1.59份、芒硝0.12份； [0034]2)熔融:將上述原料輸送到熔窯內，在熔窯內將其熔化成優質玻璃液；
[0035]3)成形:將優質玻璃液流入錫槽內進行攤平、展薄、拋光成形；
[0036]4)退火:成型的玻璃板進入退火窯進行退火，消除由於溫度差引起的暫時應力，製得玻璃板；
[0037]5)切片:將玻璃板輸送到切片機內，切片機進行切片時的有關參數為:玻璃板規格為180*200mm，切割速度30mm/h，切割線速度600m/min，砂液配比1: 1.2，砂液溫度22°C，砂液可用時間為75小時，砂液材料為碳化矽膠；把玻璃板切成厚度為1.2mm的玻璃片;
[0038]6)拋光:
[0039]A.測玻璃片厚度，放入遊輪片中，遊輪片厚度比切片大1mm，倒大圓角；
[0040]B.將遊輪片放入拋光碟上且布置好，空轉5圈；
[0041]C.初磨和精磨:遊輪片厚度比玻璃片厚度小0.03mm，研磨速度240轉/分，線速度450轉/分，研磨砂為中鋼砂；磨出厚度為1.14mm玻璃片；
[0042]D.精拋:遊輪片厚度比玻璃片厚度小0.02mm，拋光速度40轉/分，線速度800轉/分，拋光碟圈數為1500圈，拋光粉為氧化鈰，拋光成厚度為1.1mm的玻璃片。
[0043]實施例2
[0044]一種新型超強超薄玻璃基片的製備方法，包括如下步驟:
[0045]I)原料的準備:
[0046]稱取如下重量份數的原料:砂巖6.2份、矽砂1.06份、白雲石0.82份、石灰石0.44份、純鹼1.35份、芒硝0.13份；
[0047]2)熔融:將上述原料輸送到熔窯內，在熔窯內將其熔化成優質玻璃液；
[0048]3)成形:將優質玻璃液流入錫槽內進行攤平、展薄、拋光成形；
[0049]4)退火:成型的玻璃板進入退火窯進行退火，消除由於溫度差引起的暫時應力，製得玻璃板；
[0050]5)切片:將玻璃板輸送到切片機內，切片機進行切片時的有關參數為:切片最大規格為180*200mm，切割速度20mm/h，切割線速度400m/min，砂液配比1: 1.6，砂液溫度26°C，砂液可用時間為85小時，砂液材料為碳化矽膠；把玻璃板切成厚度為0.4mm的玻璃片;
[0051]6)拋光:
[0052]A.測玻璃片厚度,放入遊輪片中,遊輪片比切片大3mm，倒大圓角；
[0053]B.將遊輪片放入拋光碟上且布置好，空轉20圈；
[0054]C.初磨和精磨:遊輪片厚度比玻璃片厚度小0.06mm，研磨速度180轉/分，線速度350轉/分，研磨砂為中鋼砂；磨出厚度為0.35mm玻璃片；[0055]D.精拋:遊輪片厚度比玻璃片厚度小0.04mm，拋光速度20轉/分，線速度400轉/分，拋光碟圈數為2000圈，拋光粉為氧化鈰，拋光成厚度為0.3mm的玻璃片。
[0056]實施例3
[0057]一種新型超強超薄玻璃的製備方法，包括如下步驟:
[0058]I)原料的準備:
[0059]稱取如下重量份數的原料:砂巖6.15份、矽砂1.03份、白雲石0.81份、石灰石
0.415份、純鹼1.47份、芒硝0.125份；
[0060]2)熔融:將上述原料輸送到熔窯內，在熔窯內將其熔化成優質玻璃液；
[0061]3)成形:將優質玻璃液流入錫槽內進行攤平、展薄、拋光成形；
[0062]4)退火:成型的玻璃板進入退火窯進行退火，消除由於溫度差引起的暫時應力，製得玻璃板；
[0063]5)切片:將玻璃板放在切片機內，切片機進行切片時的有關參數為:切片規格為180*200mm，切割速度25mm/h，切割線速度500m/min，砂液配比1: 1.4，砂液溫度24°C，砂液可用時間為80小時，砂液材料為碳化矽膠；把玻璃板切成厚度為0.8mm的玻璃片；
[0064]6)拋光:
[0065]A.測玻璃片厚度,放入遊輪片中,遊輪片比切片大2mm，倒大圓角；
[0066]B.將遊輪片放入拋光碟上且布置`好，空轉10圈；
[0067]C.初磨和精磨:遊輪片厚度比玻璃片的厚度小0.04mm，研磨速度200轉/分，線速度400轉/分，研磨砂為中鋼砂；磨出0.74mm玻璃片；
[0068]D.精拋:遊輪片厚度比玻璃片的厚度小0.03mm，拋光速度30轉/分，線速度600轉/分，拋光碟圈數為1700圈，拋光粉為氧化鈰，拋光成厚度為0.7mm的玻璃片。
[0069]本文中所採用的描述方位的詞語「上」、「下」、「左」、「右」等均是為了說明的方便基於附圖中圖面所示的方位而言的，在實際裝置中這些方位可能由於裝置的擺放方式而有所不同。
[0070]顯然，本發明的上述實施例僅僅是為清楚地說明本發明所作的舉例，而並非是對本發明的實施方式的限定。對於所屬領域的普通技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這裡無法對所有的實施方式予以例舉。凡是屬於本發明的技術方案所引伸出的顯而易見的變化或變動仍處於本發明的保護範圍之列。
【權利要求】
1.ー種新型超強超薄玻璃基片的生產工藝，其特徵在於，包括如下步驟: 1)原料的準備: 稱取如下重量份數的原料:砂巖6.1~6.2份、娃砂1.0~1.06份、白雲石0.8~0.82份、石灰石0.39~0.44份、純喊1.35~1.59份、芒硝0.12~0.13份 2)熔融:將上述原料輸送到熔窯內，在熔窯內將其熔化成優質玻璃液； 3)成形:將優質玻璃液流入錫槽內進行攤平、展薄、拋光成形； 4)退火:成型的玻璃板進入退火窯進行退火，消除由於溫度差引起的暫時應力，製得玻璃板； 5)切片:用切片機把玻璃板切成厚度為0.4~1.2mm的玻璃片； 6)拋光:用拋光裝置把玻璃片進行拋光，拋光成厚度為0.3~1.1mm的電子玻璃基片。
2.根據權利要求1所述的製備方法，其特徵在於，步驟5)的具體步驟如下:將玻璃板放在切片機內，切片機進行切片時的有關參數為:切片最大規格為180*200mm，切割速度20~30mm/h,切割線速度400~600m/min,砂液配比1: 1.2~1.6,砂液溫度22~26°C,砂液可用時間為75~85小時，砂液材料為碳化矽膠。
3.根據權利要求1或2所述的製備方法，其特徵在於，步驟6)拋光具體步驟如下: A.測玻璃片厚度，放入油輪片中，遊輪片比切片大1~3mm，倒大圓角； B.將油輪片放入拋光碟上且布置好，空轉5~20圏； C.初磨和精磨:遊輪片厚度比玻璃片厚度小0.03~0.06mm，研磨速度180~240轉/分，線速度350~450轉/分，研磨砂為中鋼砂； D.精拋:遊輪片厚度比玻璃片厚度小0.02~0.04mm，拋光速度20~40轉/分，線速度400~800轉/分，拋光碟圈數為1500~2000圈，拋光粉為氧化鈰。
4.ー種新型超強超薄玻璃基片成形系統，其特徵在於:包括依次連接的熔窯、錫槽、退火窯、切裁機、切片機和拋光機； 其中，所述熔窯用於混合料在其內熔化成優質均勻的玻璃液；所述錫槽用於玻璃液在其內成形玻璃板；所述退火窯用於玻璃板在其內退火消除應カ；所述切裁機用於將玻璃板切裁成各種規格的玻璃片；所述切片機用於將玻璃片再切片成0.4~1.2mm超薄玻璃片，所述拋光機用於將超薄玻璃片再拋光成0.3~1.1mm玻璃片。
【文檔編號】C03B25/00GK103570244SQ201210277841
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2012年8月7日 優先權日:2012年8月7日
【發明者】林小樂, 李彥輝 申請人:廣東富睿實業集團有限公司