由納米沸石顆粒製得的類沸石膜的製作方法

2023-04-23 02:12:56 2

專利名稱：由納米沸石顆粒製得的類沸石膜的製作方法
由納米沸石顆粒製得的類沸石膜發明領域本發明涉及支撐的微孔陶瓷分子篩膜和製備其的方法。這些微孔 膜的合成包括規則的納米尺寸的基於矽酸鹽的具有沸石骨架的顆粒的 有序堆疊。這種膜合成方法的特別優點在於其不涉及任何水熱處理或 其它類型的沸石晶體生長過程。這種新型膜在分子分離和催化及吸附 過程中具有顯著的應用潛力。
背景技術：
長期以來，實用沸石膜的製備是分離科學的目標。沸石具有顯著優點具有結晶結構和限定的孔尺寸、具有在親水/親有機物性質及酸 性方面的可變化的表面性能，以上優點都與骨架化學組成有關。沸石 的這種特殊的拓樸結構及它們的陽離子交換性能使得它們通過選擇性 吸附和/或尺寸過濾而適用於分離應用，或適於催化反應。然而，通過 粉末沸石的分離是分批過程。而沸石膜能夠通過連續過程進行分子分 離，這從技術和經濟的角度是特別有利的。本領域中已知在不同載體上形成沸石膜的各種方法。從第一專利 US4699892 (1987)直到最近專利申請例如美國2004058799,在多孔栽 體上和/或在多孔載體中或在無孔載體上通過結晶沸石薄膜製備這種 膜。通常通過含有沸石相前體的混合物的一個或多個水熱處理進行沸 石的結晶。能區別下面兩種方法。在沸石前體溶液或溶膠中浸入載體， 把所得體系置於水熱條件下以結晶沸石(例如JP-A-60/129119 、US5100596、 EP-A-0 481 660及JP-A-06/321530),或使載體與膠體 溶液接觸，從中分離並單獨進行水熱處理以從吸附的溶液中結晶沸石 (例如WO-A-93/17781)。兩種方法均能基於是否使用晶種而進一步細 分。對於實用的沸石膜，對於所希望滲透的分子，必須具有高通量和 高選擇性。由於在現有技術中已知的水熱合成途徑所固有的缺陷和顆 粒間空隙，因此難以獲得這種膜。的確，由於在所述合成途徑中形成 的小沸石晶粒進行不理想的合併，因此不可避免的產生顆粒間空隙。 這些顆粒間空隙是介孔非沸石孔，顯示出較少的或沒有選擇性，因此 降低了沸石膜的整體性能。現有技術中已知使用多層塗層以覆蓋這些 顆粒間空隙。然而，這種在幾個階段進行合成的方法，導致產生具有 相對低通量的厚沸石層，在膜的熱處理過程中易於破裂，如在Vroon，Keizer，Verweij，J. Member. Sci 144 65-76 (1998)中所述的。 Kirschhock等人在Angew. Chem. Int. 40， 2637-2640 (2001)中公 開了規則的、具有沸石骨架的納米尺寸顆粒，這種顆粒能通過正矽酸 乙酯(TE0S)與四銨氬氧化物例如四丙基氫氧化銨(TPA)、四丁基氫氧化 銨、四乙基氫氧化銨等反應在溶液中生成。所述納米尺寸顆粒具有板 狀形狀，其中並嵌有TPA分子。納米板狀物(nanoslab)基本上具有 nm範圍內的均勻尺寸，例如對於通過TPA與TE0S反應獲得的具有矽 質巖-1 ( silicalite-1)骨架的納米尺寸顆粒，尺寸為4 x 2 x l. 3mn3 或其倍數。矽質巖-1納米板狀物的尺寸小於5nm。這由試驗例如通過由 S. P. B. Kremer等人在Studies in Surface Science and Catalysis 143, 185-192 (2002)中公開的動態光散射測量得以證實。通過使用大量適合的表面活性劑例如十六烷基三甲基溴化銨 (CTAB)或十二烷基三甲基溴化銨(DTAB),所述含有TPA的顆粒能用作 結構單元，在具有同心、分層結構的微米尺寸、球形顆粒中進行有組 織的排列，如在S. P. B. Kremer， C. E. A. Kirschhock, M.Tielen， F. Collignon, P. J. Grobet， P.A.Jacobs, J. A. Martens, Studies in Surface Science and Catalysis 143， 185—192 (2002) 、 S. P. B. Kremer， E. A. Kirschhock, M.Tielen, F. Collig,, P. J. Grobet, P.A.Jacobs J.A.Martens， Advance Functional Materials, 12， 286-292， (2002) 和S. P. B. Kremer, C. E. A. Kirschhock, P.A.Jacobs, J. A. Martens,Comtes Rendus Chimie 8， 379-390 (2005)中描述的。為此，具有沸 石骨架的納米尺寸顆粒的溶液與例如CTAB的濃縮溶液進行混合。在混 合過程中，在具有沸石骨架的納米尺寸顆粒的層間嵌入表面活性劑分 子(參見圖la)。通過煅燒除去表面活性劑引起納米尺寸顆粒正面和 側面的熔融，在一些納米尺寸顆粒間最終留有側面間隙。這些具體的 顆粒間空隙形成限定良好的狹縫狀超微孔，其具有約1.4nm特徵高度 (相應於約一個納米板狀物高度)(參見圖lb)。在煅燒除去CTAB或 DTAB和TPA分子後，&吸附顯示具有雙孔隙度。在堆疊的納米板狀物 顆粒中具有沸石類型的微孔，同時在堆疊顆粒間的空間產生約1.4nm 數量級的超微孔(參見圖2)。在該段提及的公開中，具有這種雙孔隙 度的材料命名為Zeogrid。特別通過微米尺寸球形顆粒的低角度XRD 圖鐠證實了納米尺寸顆粒的分層堆疊，顯示了 d-值約3nm的低角度峰， 而在2 6>10。並不具有高角度的Bragg類型衍射峰(參見圖3)。低角 度峰的位置相應於2x納米尺寸顆粒高度的層重複(repetition)(納 米尺寸顆粒具有兩種不同側面並交替堆疊)。在提及的公開中證實了所 述有組織的微米尺寸粉末材料能用於烷烴混合物的分離。在 A.M. Doyle, G. Rupprechter， N. Pf3nder， R. Schl6gl， C. E. A. Kirschhock, J.A. Martens, H.-L Freund， Chemical Physics Letters, 382， 404-409 (2003)中，使用上述具有沸石骨架的納米尺寸 顆粒的前體溶液在結晶矽晶片上旋塗2-15nm厚度的薄膜，而沒有使用 任何表面活性劑。隨後對薄膜進行水熱處理以形成超薄、密實、均勻 的沸石薄膜，而在結構顆粒間沒有任何空隙。不煅燒薄膜，使得所得 薄膜不具有孔。AFM研究顯示獲得的薄膜具有高度平滑度和整體質量。 ED顯示不定形Si結構的特徵環，表明在這種薄膜中前體堆疊並不是 非常有序。本發明旨在提供新的具有沸石性能的支撐的微孔陶瓷分子篩膜和 製備這種膜的方法。這種新的基於矽酸鹽的分子篩膜克服了現有技術 膜的缺點，同時具有高通量和高選擇性，具有優於現有技術沸石膜的 性能。新型膜在分子分離和/或催化和吸附過程中具有顯著應用潛力。發明內容本發明涉及具有類沸石性能的基於矽酸鹽的微孔陶瓷分子篩膜， 和生產這些膜的方法，如在附加權利要求中提出的。在載體上合成本 發明的膜。載體可以是多孔的或無孔的。在無孔載體的情況下，膜實 際上是具有不同材料及與載體性能相比具有不同表面性能的薄膜。因 此，在本發明說明書中使用的術語"膜，，也應理解為具有"薄膜"或 "層"的含義。根據本發明的一個方面，提供膜，其包括栽體和在所述載體表面 上塗覆的膜層。膜層包括具有沸石骨架的納米尺寸的板狀結構單元。 優選結構單元在所述表面上有序排列。板狀結構單元的有序排列主要 採取分層堆疊的形式，即多層具有沸石骨架的納米尺寸板狀結構單元。 這些多層優選基本上與載體表面平行取向。在這種結構單元有序排列中，板狀結構單元依賴於(follow)載體表面粗糙度。在所述結構單元不象現有技術中那樣以球形顆粒形式聚集在一起，而是在載體上形 成連續層的意義上，本發明的分層堆疊是在載體上形成的均勻薄膜。 優選地，膜層的特徵在於雙孔隙度。具有沸石骨架的納米尺寸結 構單元包括類沸石的微孔，同時由結構單元間的空間或空隙產生超微孔。類沸石的微孔可具有約5. 5埃的直徑。超微孔尺寸可為1.5nm數 量級。根據IUPAC分類，限定微孔的孔不超過2nm。優選地，具有沸石骨架的納米尺寸板狀結構單元的尺寸小於 10nm。更優選的，所述結構單元的尺寸小於5nm。優選地，膜層不包括任何,石晶體。根據本發明的第二方面，提供在載體上塗覆基於矽酸鹽的層的方 法，方法包括步驟將具有沸石骨架的納米尺寸板狀結構單元的溶液 與適合的表面活性劑混合；用獲得的混合物塗覆載體，混合物中所述 表面活性劑的濃度為0. 01-1重量％;乾燥並煅燒塗覆的栽體。塗覆的 載體優選乾燥1-5天。本發明的方法不包括水熱處理步驟。優選地，本發明的方法還包括所述混合物的陳化步驟。在混合和6塗覆步驟間進行陳化步驟。優選地，陳化步驟持續1小時-30天。更優選地，本發明的方法還包括稀釋所述混合物的步驟。在陳化步驟後進行稀釋步驟。在優選的實施方案中:，本發明的方法還包括將所述栽體進行預處理的步驟。載體可以是多孔的或無孔的。附圖
簡要描述圖la表示在具有沸石骨架的納米尺寸顆粒層間嵌入表面活性劑 分子的示意性圖。該圖關於現有技術。圖lb表示在煅燒後具有沸石骨架的納米尺寸顆粒堆疊的意性圖。 納米板狀物的側面熔融並不理想，在一些納米板狀物間留有側面間隙。 該圖關於現有技術。圖2表示煅燒後的使用表面活性劑CTAB和DTAB製得的zeogrid 粉末N2吸附等溫曲線。該圖關於現有技術。圖3表示煅燒後的使用表面活性劑CTAB和DTAB製得的zeogrid 粉末低角度XRD圖鐠。該圖關於現有4支術。圖4表示新型的具有納米尺寸結構單元理想堆疊的類沸石膜的示 意性圖，所述結構單元具有沸石性能。圖5表示與zeogrid粉末吸附等溫曲線相比較的，根據本發明在 矽晶片上製備的類沸石薄膜的N2吸附等溫曲線(空心三角形)，圖6表示根據本發朋的方法在矽晶片上製備的類沸石薄膜的低角 度XRD圖i脊。曲線表示兩層薄膜、 一層薄膜的圖譜，及測量的bianco 矽晶片背景信號。圖7表示實施例1的平面多孔栽體上的新型類沸石膜的SEM照片。 照片中的短橫為ljam長。圖8表示實施例2的管狀多孔載體上的新型類沸石膜的保留曲線。 使用小PEG分子的混合物由納米過濾測試獲得該曲線。
具體實施方式
7合成膜中的關鍵步驟是藉助於表面活性劑，在載體上進行有序堆 疊具有沸石骨架的規則納米尺寸顆粒，並小心進行煅燒。這種沸石膜 形成不包括任何水熱處理或其它晶體生長過程。方法利用所述的在其中間嵌有合適的表面活性劑例如CTAB或DTAB的納米尺寸顆粒的分層 堆疊。不同於現有技術中形成微米尺寸球形顆粒的所述方法(參見 Kremer等人)，本文中在具有沸石骨架的納米尺寸顆粒的溶液中僅混 合少量表面活性劑，以阻止在溶液中形成任何或過大的層狀顆粒。當 溶液與多孔載體接觸的同時進行濃縮時，少量表面活性劑僅導致結構 單元充分的有序的成層。與多孔載體接觸時由於通過毛細管力從溶液 中除去溶劑(現有技術中已知的通過溶膠-凝膠方法形成多孔陶瓷膜的 過程)，導致溶液的濃縮。有序成層優選導致所用的結構單元平行於栽 體表面理想地或接近理想地成層，在除去表面活性劑後在成層顆粒間 可能具有顆粒間空隙(參見圖4)。在這優選的情況下，在煅燒除去表 面活性劑和TPA分子後，所有接近所形成的類沸石膜層的分子，通過 納米尺寸結構單元微孔沸石孔滲透通過膜。僅在通過微孔沸石孔後才 能到達由堆疊的納米尺寸顆粒間的空間產生的超微孔，因此不降低新 型膜的選擇性。對具有沸石骨架的納米尺寸顆粒進行分層堆疊的相同方法也可應 用到無孔栽體上，例如矽晶片。這適用於例如改變(無孔)載體的表面 和材料性能及用於吸附應用。根據上述描述，新方法提供具有類沸石性能的膜。當使用具有不 同沸石骨架的不同納米尺寸結構單元時，能形成具有不同類沸石性能 的膜。此外，利用沸石的離子交換能力，並因此也利用了具有沸石骨 架的納米尺寸結構單元的離子交換能力，並且可以獲得催化活性的類 沸石膜。使用具有沸石骨架的納米尺寸顆粒形成這種類沸石膜的方法，包 括下面步驟a.將具有沸石骨架的納米尺寸顆粒溶液與合適的表面活性劑例如 CTAB的溶液混合，b. 例如通過浸漬塗覆或通過旋塗，將預處理的或未預處理的多孔 載體與稀釋的混合物進行接觸c. 小心乾燥塗覆的載體，優選1-5天，d. 煅燒乾燥的塗覆栽體以從納米尺寸顆粒中適當除去表面活性 劑和TPA。根據具體實施方案，在步驟a和b間，混合物可進行陳化步驟， 之後進行稀釋步驟。陳化步驟優選進行1小時-30天。用於根據本發明的方法的步驟d中的多孔載體優選由無機材料構載體是適合的載體。 一也可使;下i類型的;它^料或其組合/混一合物 碳、氧化矽、沸石、粘土、玻璃和金屬(不鏽鋼，銀)。所有形狀都可 適於載體，例如管狀、平面、以碟狀形式、片狀、單管或多通道管、 纖維或中空纖維。對於多孔載體，能使用寬範圍孔尺寸。為了使用未處理的栽體， 優選選擇其最小孔〈20nm，優選〈4nm的載體。例如，由頂層孔50nm並 塗覆有一層或兩層額外的約3nm孔的氧化鈦或氧化鋯層的UF (超過濾)通過預處理，能使用其最小孔大於20認的多孔載體，例如頂層孔 50-200nm的UF或MF(微過濾)多層金屬氧化物膜。在這種情況下，作 為處理，能使用不同方法以阻止塗層溶液的納米尺寸顆粒吸入到載體 的孔結構中，方法包括但不限制為用水、蠟或任何其它孔填充的有機 物進行浸漬。在根據本發明的方法的步驟d中，可同樣使用無孔載體，例如矽 晶片。新方法提供幾個優於常規沸石膜合成途徑的優點。首先，是非常簡單的合成過程，技術上避免使用常規合成途徑的水熱處理。第二， 由於結構單元的真實納米尺寸(對於矽質巖—i膜的情況，1. 3 x 2 x 4nm3或其少的倍數)，能形成非常薄的類沸石膜，具有非常高的傳質即高的 通量。此外，在形成的膜的熱循環情況下，小的厚度可顯著降低產生裂紋的危險。這是新合成的膜與現有技術的沸石膜相比另一顯著的優 點。第三，新膜中結構單元在膜合成過程中僅進行有組織的有序排列， 而沒有任何其它結晶或顆粒生長。因此，這種新合成方法可顯著避免 形成選擇性小或沒有選擇性的、並且通過其分子進入膜中容易達到的 顆粒間空隙，這在現有技術已知的沸石膜中是不可避免的。這賦予新 膜至少等於但更可能是非常高的選擇性。這三種優點顯示了本發明明 顯能夠導致結合高流量和高選擇性的膜。由於在本發明的方法中不具有水熱步驟，在納米尺寸結構單元間 不發生結晶或顆粒生長。所用納米尺寸顆粒有組織有序堆疊的新的類沐石膜，通過合成不改變，不顯示任何類沸石的高角度Bragg類型XRD衍射圖鐠。這使得 它們顯著區別於現有的沸石膜。對於類矽質巖-l膜，類沸石微孔隙率為0. 10-0. 20cm3/g,典型地 約O. 14 cm7g，同時超微孔隙率典型地為0. 3-0. 6 cm7g。值得注意的是，由Kremer等人公開的zeogrid球形顆粒是可用於 分批過濾過程的粉末材料，而本發明的膜是塗覆在載體上。令人驚訝 地，膜的合成中所用的少量表面活性劑使得可以獲得對塗層厚度和均 勻性的良好控制。新類沸石膜能用於與現有沸石膜相同的應用中。可能的應用包括 但不限制為全蒸發、氣體分離和/或催化反應。新方法能夠導致具有從 未見過的高性能的膜。根據新方法，在矽晶片上製備微孔類沸石薄膜。矽支撐薄膜的N2 吸附顯示了與在上述zeogrid粉末中觀察到的相同的雙孔隙度(參見 圖5)。類沸石微孔和超微孔都與zeogrid粉末相同。顯示矽支撐薄膜 的低角度XRD圖鐠的圖6，顯示約3mn的峰，證明了納米尺寸結構單 元的分層堆疊，如之前在zeogrid粉末中觀察到的。不具有高角度 Bragg類型XRD衍射。實施例1根據上述過程的不同步驟在多孔載體上形成類沸石膜a. 在攪拌下，通過正矽酸乙酯(91.43g)(由Acros商購獲得，純 度98 %)在80. 24g四丙基氫氧化銨水溶液中(濃度40重量％)水解制 備具有矽質巖-1骨架的納米尺寸顆粒溶液。在水解後，添加78. 33g 水，並持續攪拌24小時。通過合成條件控制納米尺寸顆粒的尺寸(在 這個實施方案中，尺寸為1.3x2. 0x4. 0nm3)。 5ml這種納米尺寸矽質 巖-l顆粒的溶液用15ml乙醇稀釋。隨後，在稀釋的納米板狀物溶液 中添加2ml 10重量％的在乙醇中的表面活性劑十二烷基三甲基溴化銨 (DTAB，由Acros商購獲得，純度99%)溶液，同時持續攪拌5分鐘。 這意味著每體積納米板狀物溶液，使用0. 4體積10重量％的在乙醇中 的表面活性劑溶液，和3體積稀釋乙醇。在這種混合物中，表面活性 劑濃度顯著低於生產zeogrid粉末所用的濃度根據現有技術，使用 l體積納米板狀物溶液、3體積12重量％的在乙醇中的表面活性劑溶 液和O-最大1體積稀釋乙醇生產zeogrid。b. 混合物陳化8天。c. 用乙醇稀釋混合物到比例1: 25。在塗層混合物中，表面活性 劑濃度是O. 036重量％。d. 將碟狀形式的直徑2. 5cm、厚度2mm的多孔載體，在稀釋的混 合物中進行浸漬塗覆。載體是多層密實UF膜，其由自製的孔100nm 的多孔ot-氧化鋁亞結構構成，並塗覆有兩層介孔氧化鈦層。測得的頂 層孔約3nm。栽體的截留(cut-off)分子量約4000道爾頓。多孔栽 體在沒有進行預處理的情況下使用。e. 塗覆的栽體在室溫下小心乾燥2天。f. 乾燥的塗覆栽體在4251C煅燒4小時(以10C/小時升溫)以從 納米尺寸矽質巖-1顆粒中除去表面活性劑和TPA。發現因為強的多孔栽體的背景信號，不能使用上述在矽晶片上 類沸石薄膜的情況中通過N2吸附和低角度XRD測試檢測塗覆的類沸石 膜層的質量。因此作為可替換的質量測試，檢測膜的小PEG分子(分子 量200-1500道爾頓)的納米過濾性能。已知，180道爾頓的葡萄糖分 子為0. 7nm(PhD thesis Bart Van der Bruggen， K. U. Leuven， 2002)。因此通過新方法製備的沒有缺陷的類矽質巖-1膜(對於進入膜的分子僅具有可利用的0. 5mn矽質巖-1孔)，對於所有使用的PEG分子應顯 示出100/。的保留度。實際上，在含有R0水及lg/1分子量為1500道爾頓的PEG分子、 lg/1分子量為600道爾頓的PEG分子、和lg/1分子量為200道爾頓 的PEG分子(PEG分子由Acros商購獲得)的溶液的小交差流過濾單元 上放置膜。設定可透性膜壓為10巴。在24小時後，在滲透側沒有收 集到一個液滴，證實沒有大於0. 5nm的孔。由於沒有收集到滲透物， 因此不能獲得不同PEG分子的保留。也通過SEM分析這個實施例的膜。圖7顯示了高質量膜層，顯示 沒有可視的缺陷。膜層的厚度估計約lOOmn。實施例2根據上述過程的不同步驟在多孔載體上形成另 一類沸石膜a. 以與實施例l相同方式製備具有矽質巖-l骨架的納米尺寸顆粒 溶液。將5ml這種納米板狀物溶液用15ml乙醇稀釋。隨後，在稀釋的 納米板狀物溶液中添加3m 1 10重量％的在乙醇中的表面活性劑十二烷 基三甲基溴化銨(DTAB,從Acros商購獲得，純度99%)溶液，同時 持續攪拌5分鐘。在這個實施例,中每體積納米板狀物溶液，使用0.6 體積10重量％的乙醇中的表面活性劑溶液，和3體積稀釋乙醇。表面 活性劑濃度再次顯著低於用於生產zeogrid粉末的濃度(參見實施例 1)。b. 混合物陳化6天。c. 用乙醇稀釋混合物到比例1: 20。在塗層混合物中，表面活性 劑濃度是0. 063重量％。d. 將單管形式的外徑1. Ocm、長度12cm的多孔載體在稀釋的混合 物中進行浸漬塗覆。栽體是多層密實UF膜，其由商購獲得開口 (open) UF膜構成，開口 UF膜具有多孔oc-氧化鋁亞結構及具有60nm孔的氧 化鈦頂層(由Inocermic gmbh商購獲得)，自己塗覆有兩層介孔氧化鈦 層。測得的頂層孔約3n邁。載體的截留分子量約4000道爾頓。多孔栽體在沒有進行預處理的情況下使用。e. 塗覆的載體在室溫小心乾燥2天。f. 乾燥的塗覆載體在425X:煅燒4小時(以10X:/小時升溫)以從 納米尺寸矽質巖-1顆粒中除去表面活性劑和TPA。再次通過使用分子量為200-1500道爾頓的小PEG分子的納米過濾 檢測塗覆的類沸石膜層的質量。在實施例2中，在含有RO水及lg/1 分子量為1500道爾頓的PEG分子、lg/1分子量為600道爾頓的PEG 分子、lg/1分子量為200道爾頓的PEG分子(PEG分子由Acros商購 獲得)的溶液的小交差流過濾單元上放置膜。設定可透性膜壓為5巴。 測得31/hm2巴的小的滲透通量。通過溶膠滲透色鐠分析過濾的滲透物 和滲餘物，顯示對於分子量為250道爾頓的分子具有90%保留度。如 上解釋的，這證實了在膜層中留有少量缺陷孔。在圖8中顯示保留曲 線。
權利要求
1.具有類沸石性能的基於矽酸鹽的微孔陶瓷分子篩膜，該膜包括載體和在所述載體的表面上塗覆的膜層，其中所述膜層包括具有沸石骨架的納米尺寸板狀結構單元。
2. 根據權利要求1的膜，其中所述結構單元在所述表面上分層堆 疊排列。
3. 根據權利要求1或2的膜，其中膜層包括在結構單元間的超微 孔，結構單元包括類沸石微孔。
4. 根據在前任一權利要求的膜，其中結構單元具有小於IO納米的 尺寸。
5. 在載體上塗覆基於矽酸鹽的層的方法，該方法包括下面步驟a. 將包括具有沸石骨架的納米尺寸板狀結構單元的溶液與合適的 表面活性劑混合，b. 用這種混合物塗覆載體，在塗覆過程中所迷混合物中的所述表 面活性劑的濃度為0.01-1重量％，c. 千燥並煅燒塗覆的載體。
6. 根據權利要求5的方法，還包括所述混合物的陳化步驟，在步 驟a和b之間進行所述陳化步驟。
7. 根據權利要求6的方法，其中所述陳化步驟持續1小時-30天。
8. 根據權利要求6或7的方法，其中陳化步驟包括稀釋所述混合 物的步驟。
9. 根據在前權利要求i5，8中任一項的方法，還包括對所述載體進 行預處理的步驟。
10. 根據在前權利要求5-9中任一項的方法，其中所述結構單元具 有小於10nm的尺寸。
全文摘要
本發明涉及具有類沸石性能的基於矽酸鹽的微孔陶瓷分子篩膜，包括具有沸石骨架的納米尺寸板狀結構單元的有序堆疊。本發明也涉及製備本發明膜的方法。方法不包括水熱處理步驟，因此避免了沸石晶體的形成。
文檔編號B01D67/00GK101325997SQ200680046553
公開日2008年12月17日 申請日期2006年10月19日 優先權日2005年10月19日
發明者A·比爾肯霍德, I·萬克萊科姆, J·馬滕斯, P·雅各布斯 申請人:佛蘭芒技術研究所有限公司;K.U.勒芬研究和發展公司