汙塵清潔器的製作方法
2023-05-24 06:48:06
專利名稱：汙塵清潔器的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種汙塵清潔器，其對被除塵對象噴出單純的潔淨空氣、 含有以超聲波頻率振動的超聲波的空氣，或含有正負離子的空氣(以下統 稱這些空氣為清潔空氣)。
背景技術：
對於用於TFT (薄膜電晶體)液晶屏，PDP (等離子體顯示屏)或者 LCD (液晶顯示器)等的玻璃基板，或長尺寸的紙及膠片等薄板等被除塵 對象(以下簡單地稱為被除塵對象)通過除塵裝置來進行除塵。包含在這樣的除塵裝置中的汙塵清潔器具有向被除塵對象噴出清潔空 氣，使塵埃從被除塵對象上吹散， 一起吸引吹散的塵埃和清潔清潔空氣的 功能，以下，通過
採用現有技術的汙塵清潔器。圖IO是採用現有技 術的汙塵清潔器的立體外觀圖。圖ll是現有技術的汙塵清潔器的剖面圖，汙塵清潔器10如圖IO所示設有清潔器主體110和縫口主體120,在該 清潔器主體110的下面設置有縫口主體120。清潔器主體110如圖11所示，由空氣吸引室111 (Vl)、空氣噴出室 112 (P)、空氣吸引室113 (V2)並列構成。空氣吸引室lll、 113與未圖示 的進氣泵連接，另外空氣噴出室112與未圖示的送氣泵分別連接。空氣吸引室lll，空氣噴出室112，空氣吸引室113分別設有吸引通氣 孔114、噴出通氣孔115和吸引通氣孔116。縫口主體120形成凹面121、平面122和凹面123與被除塵對象G面 對，在該凹面121上形成吸引縫口 124，平面122上形成噴出縫口 125,凹 面123上形成吸引縫口 126。汙塵清潔器10的吸引通氣孔114、噴出通氣 孔115和吸引通氣孔116分別與縫口主體120的吸引縫口 124、噴出縫口 125 和吸引縫口 126連通。在這樣的汙塵清潔器10中，從噴出縫口 125中噴出清潔空氣，使被除 塵對象G表面的塵埃浮遊於汙塵清潔器10與4皮除塵對象G之間的空間中。 同時，由噴出縫口 125的前後的吸引縫口 124、 126將浮遊的塵埃與清潔空 氣一同吸引去除。另外，作為這樣的汙塵清潔器的其他的在先技術，也有例如日本專利 公開公報即特開平11-104586號公報等。近年來，要求除塵能力的增大。因此，增大清潔空氣的噴出量和吸引 量，或者在含有超聲波的清潔空氣的情況下，進一步增加超聲波的音壓等 是有效的，但在這種情況下，都有噪音增大的問題，希望一邊抑制噪音， 一邊提高除塵能力。另外，也要求可靠地除去吹散的塵埃。發明內容因此，本發明正是要解決上述的問題點，其目的是提供一種利用簡單 的構造同時實現抑制噪音和提高除塵能力的汙塵清潔器。為解決上述的課題，技術方案1中的汙塵清潔器，其特徵在於具有 清潔器主體，其至少各具有一個空氣吸引室及空氣噴出室；縫口主體，其 安裝在主體上，設有與空氣噴出室連通的呈直線狀的噴出縫口以及與空氣 吸引室連通的呈直線狀的吸引縫口；蓋，其安裝在清潔器主體上，以覆蓋 縫口主體的外側部，通過與空氣噴出室連通的直線狀的噴出縫口朝基板表 面噴出清潔空氣，並通過與空氣吸引室連通的直線狀的吸引縫口吸引吹散 的塵埃。另外，技術方案2的發明中的汙塵清潔器如技術方案1記載的汙塵清 潔器，其特徵在於，上迷蓋與上述縫口主體間形成緩衝空間。另外，技術方案3的發明中的汙塵清潔器如技術方案2記栽的汙塵清 潔器，其特徵在於，上述空氣吸引室的清潔空氣的吸引量比上述空氣噴出 室噴出的清潔空氣的噴出量多，使緩沖空間內相對於外部空間保持低壓。另外，技術方案4的發明中的汙塵清潔器如技術方案1~3項的任意一 方案記載的汙塵清潔器，其特徵在於，上述的除塵單元通過將空氣噴出室 和夾著該空氣噴出室的兩個空氣吸引室沿基板搬運方向並列配置而形成。
另外，技術方案6的發明中的汙塵清潔器如技術方案1-5項的任意一 方案記栽的汙塵清潔器，其特徵在於，上述的噴出縫口的噴出方向朝基板 搬運方向的反方向傾斜。根據以上方案，可以提供一種利用簡單的構造同時實現抑制噪音和提 高除塵能力的汙塵清潔器。
圖l是汙塵清潔器的立體外觀圖；圖2是汙塵清潔器的底面圖；圖3是汙塵清潔器的剖面圖；圖4是it明汙塵清潔器的清潔空氣的流向的說明5是說明汙塵清潔器的清潔空氣的流向的說明6是說明汙塵清潔器的清潔空氣的流向的說明7是其他實施例的汙塵清潔器的剖面圖；圖8是其他實施例的汙塵清潔器的剖面圖；圖9是其他實施例的汙塵清潔器的剖面圖；圖IO是現有技術的汙塵清潔器的立體外觀圖；圖ll是現有技術的汙塵清潔器的剖面圖。
具體實施方式
參照
實施本發明的最佳的實施方式。圖1是汙塵清潔器的立 體外觀圖，圖2是汙塵清潔器的底面圖，圖3是汙塵清潔器的剖面圖。該 圖3的汙塵清潔器的剖面圖是圖2的A-A線剖面圖，並且，有與現有技術 一部分重複的構造，為了比較，給予相同的附圖標記，並加以說明。汙塵清潔器100如圖l或圖2所示，配備了清潔器主體110、縫口主體 120和蓋130。在該清潔器主體110的下側設置了縫口主體120，另外，在 此清潔器主體110的下側外側部安裝了蓋130。並且，如後述圖3所示，形 成有清潔器主體IIO、縫口主體120、蓋130以及由被除塵對象G表面覆蓋 的緩衝空間140,清潔器主體110如圖3所示，是由空氣吸引室111 (VI),空氣噴出室 112 (P)，空氣吸引室113 (V2)並列構成的。空氣吸引室lll、 113連接到 未圖示的進氣泵，空氣噴出室112連接到未圖示的送氣泵。空氣吸引室111、空氣噴出室112和空氣吸引室113分別設有吸引通氣 孔114、噴出通氣孔115和吸引通氣孔116。縫口主體120形成凹面121、平面122和凹面123而面對^^除塵對象G， 在該凹面121上形成吸引縫口 124，平面122上形成噴出縫口 125,凹面123 形成了吸引縫口 126。平面122是為了控制噴出清潔空氣的流量恆定而形成 的，凹面121、 123是為了使吸引的清潔空氣容易流動而形成的。汙塵清潔 器100的吸引通氣孔114、噴出通氣孔115和吸引通氣孔116分別與縫口主 體120的吸引縫口 124、噴出縫口 125和吸引縫口 126連通.蓋130在本實施例中，是有口狀開口部的方筒體。另外，關於蓋130 可能有各種各樣的實施例，但至少只要在縫口主體120和蓋130之間形成 緩沖空間140即可。緩衝空間140是清潔器主體110、縫口主體120和蓋130之間形成的口 狀的空間。此緩沖空間140如圖3所示，在汙塵清潔器IIO使用的時候進 而成為與被除塵對象G夾著的空間。緩衝空間140通過被除塵對象G和蓋 130間形成的間隙部141與外界連通。另外緩衝空間140至少是覆蓋縫口主 體120周圍即可，不限定為口狀的空間。接下來，說明此種汙塵清潔器IOO的使用方法。在汙塵清潔器100中， 從噴出縫口 125中噴出清潔空氣，使被除塵對象G表面的塵埃浮遊在汙塵 清潔器IOO與除塵對象G之間的空間中。同時，通過噴出縫口 122前後的 吸引縫口 124、 126吸引清潔空氣，連同浮遊的塵埃一同除去。另外空氣吸 引室111、 113的清潔空氣的總吸引量比空氣噴出室112噴出的清潔空氣的 噴出量多。在此汙塵清潔器100中，輸出清潔空氣(單純的潔淨空氣、以超聲波 頻率振動的含超聲波的空氣或含有正負離子的空氣)，這樣的清潔空氣在噴 出的時候產生振動噪音便成為問題。特別是，含有超聲波的清潔空氣的情 況下，因超聲波振動產生的噪音尤為顯著。可是，即使這些振動傳過遮蔽 空間140到達蓋130，由於蓋130使超聲波的振動衰減，到達操作人員的噪 音變少了。另外，因為間隙141是狹窄的間隙，其中大部分通過蓋130，所 以在這點上到達作業員的噪音也變少了 。另外，通過間隙部141與外部空間連通，但是考慮到蓋130內清潔空 氣的吸引量比噴出量多，所以緩沖空間140內相對於外部空間維持低壓， 在間隙部141,從外部空間向內部的緩沖空間進氣。這點參照圖說明。圖4、 圖5、圖6分別是說明汙塵清潔器的清潔空氣的流向的說明圖。在基板搬運的方向上，如圖4所示從噴出縫口 125出來的清潔空氣被 前後的吸引縫口 124、 126吸引。並且，從緩沖空間140或間隙部141也導 入空氣被吸引縫口 124、 126所吸引。因此，從緩沖空間140到外界沒有空 氣的流動。另外由於吸引量多的原因，緩衝空間140內維持充分的低壓。接下來在噴出縫口 125的橫方向上，如圖5所示，即使從噴出縫口 125 出來的清潔空氣的一部分在橫方向上漏氣，空氣通過間隙部141從外部空 間流入低壓的緩沖空間140，在緩沖空間140中空氣衝撞，流向低壓的緩沖 空間140，由此從間隙部141沒有清潔空氣流出。接下來，在吸引噴出縫口 124、 126的橫方向上，如圖6所示被吸引縫 口 124、 126吸引。另外，從緩衝空間140或間隙部141也導入空氣，被吸 引縫口 124、 126所吸引。因此從間隙部141沒有清潔空氣流出。如此間隙部141不論在什麼地方都是空氣從外部空間流入蓋130中的， 因此被清潔空氣吹散的塵埃不會從緩衝空間140中出來，塵埃可以被吸引 縫口 124、 126所吸引。如此由蓋130可以形成緩衝空間140，因此可以利用簡單的構造實現抑 制噪音以及提高除塵能力。接下來參照
其他的實施例。圖7是其他的實施例的汙塵清潔 器的剖面圖。並且與前面說明的實施例重複的構造標記上相同的附圖標記 的同時省略反覆的說明。在本實施例中，如圖2所示將汙塵清潔器IOO在被除塵對象G的表背 兩側兩個為一組相向配置。這樣的構造不僅可以在被除塵對象G的表背兩 面除塵，根據上述的理由還可以一併實現減低噪音和提高除塵能力。接下來參照
其他的實施例。圖8是其他的實施例的汙塵清潔 器的剖面圖。並且與前面說明的實施例重複的構造標記上相同的附圖標記 的同時省略反覆的說明。在本實施例中，雖然同圖3所示的實施例基本上 沒有什麼不同點，但是圖3所示的實施例中縫口主體120的噴出縫口 125 是形成在相對被除塵對象略垂直的方向上的，圖8中所示的實施例中縫口 主體120的噴出縫口 125'其噴出方向朝基板搬運方向a的相反方向傾斜。
這樣的構造當淨皮除塵對象G進入汙塵清潔器100,存在使清潔空氣的流動 穩定的有利點。用此汙塵清潔器100進行除塵的時候，從空氣噴出室112 (P)到空氣吸引室111 (VI)的流量增加，其中一部分空氣將到達空氣吸 引室111 (VI) —側的蓋130的間隙141，與外界流入的空氣衝撞並流向緩 沖空間140,因此清潔空氣不會從蓋130中漏出。因此可以對被除塵對象G 的表面除塵的同時，因為上述的理由可以一併實現減低噪音和提高除塵能 力。接下來參照
其他的實施例。圖9是其他的實施例的汙塵清潔 器的剖面圖。在本實施例中，將圖8所示的、縫口主體120的噴出縫口 125'朝基板 搬運方向a的相反方向傾斜的汙塵清潔器100在被除塵對象G的表背兩面 兩個為一組相向配置。這樣的構造可以對被除塵對象G的表背兩面除塵， 並因為上述的理由可以一併實現減低噪音和提高除塵能力。並且，本發明可能有各種變形例。例如在圖7以及圖9中，被除塵對 象G在未圖示的搬運輥等上被搬運，此種情況下，可以由流經被除塵對象 G的上表面(上側的除塵單元100)的空氣產生的文丘裡效應而產生向上的 吸引力，另外由流經被除塵對象G的下表面(下側的除塵單元100)的空 氣產生的文丘裡效應而產生向下側的吸引力，將增大向下側的吸引力的文 丘裡效應調整到平衡狀態，藉此可以使被除塵對象G平穩的被搬運。此種情況下，也可以將朝下側的除塵單元100的吸引壓力(吸引量) 調整為與朝上側的除塵單元100的吸引壓力(吸引量)相同的同時，通過 使從下側的除塵單元100出來的噴出壓力(噴出量)大於從上側的除塵單 元100出來的噴出壓力(噴出量)，從而使由下端的除塵單元IOO的文丘裡從而賦予基板壓向圖中未顯示的搬運輥的力。或者也可以將從下側的除塵單元100出來的噴出壓力(噴出量)調整 為與從上側的除塵單元100出來的噴出壓力(噴出量)相同的同時，通過 使朝下側的除塵單元100的吸引壓力(吸引量)大於朝上側的除塵單元100 的吸引壓力(吸引量)從而使由下側的除塵單元100的文丘裡效應產生的 吸引力大於由上側的除塵單元100的文丘裡效應產生的吸引力，從而賦予 基板壓向圖中未顯示的搬運輥的力。或者也可以將從下側的除塵單元100到,皮除塵對象G的背面的間多巨向 下調整到比從上側的除塵單元100到被除塵對象G的裡面的間距長，從而 使由下側的除塵單元100的文丘裡效應產生的吸引力大於由上側的除塵單 元100的文丘裡效應產生的吸引力，從而賦予基板壓向圖中未顯示的搬運 輥的力。這樣的除塵單元進一步地提高了易使用性。
權利要求
1.一種汙塵清潔器，其特徵在於，具有清潔器主體，其至少各具有一個空氣吸引室及空氣噴出室；縫口主體，其安裝在清潔器主體上，設有與空氣噴出室連通的呈直線狀的噴出縫口以及與空氣吸引室連通的呈直線狀的吸引縫口；蓋，其安裝在清潔器主體上，以覆蓋縫口主體的外側部，通過與空氣噴出室連通的呈直線狀的噴出縫口朝基板表面噴出清潔空氣，並通過與空氣吸引室連通的呈直線狀的吸引縫口吸引吹散的塵埃。
2. 如權利要求l所述的汙塵清潔器，其特徵在於 上述蓋與上述縫口主體間形成緩沖空間。
3. 如權利要求2所述的汙塵清潔器，其特徵在於 上述空氣吸引室的清潔空氣的吸引量比上述空氣噴出室噴出的清潔空氣的噴出量多，使緩衝空間內相對於外部空間保持低壓。
4. 如權利要求1~3任意一項所述的汙塵清潔器，其特徵在於 上述除塵單元通過將空氣噴出室和夾著該空氣噴出室的兩個空氣吸引室沿基板搬運方向並列配置而形成。
5. 如權利要求1~4任意一項所述的汙塵清潔器，其特徵在於 上述除塵單元在基板的表背兩側兩個為一組相對配置。
6. 如權利要求1~4任意一項所述的汙塵清潔器，其特徵在於 上述噴出縫口的噴出方向朝基板搬運方向的反方向傾斜。
全文摘要
本發明涉及一種汙塵清潔器，在本發明的除塵單元(100)中設有安裝在清潔器主體(110)上的縫口主體(120)和覆蓋該縫口主體(120)而安裝在清潔器主體(110)上的蓋(130)，通過蓋(130)使振動不易漏到外部去。
文檔編號B08B5/00GK101132868SQ20058000229
公開日2008年2月27日 申請日期2005年7月7日 優先權日2005年7月7日
發明者飯田秀夫 申請人:修谷魯電子機器股份有限公司