掩膜板及其製備方法和顯示面板中封框膠的固化方法
2023-05-02 03:32:26 1
掩膜板及其製備方法和顯示面板中封框膠的固化方法
【專利摘要】本發明公開了一種掩膜板及其製備方法和顯示面板中封框膠的固化方法，其中該掩膜板包括：透明基板和位於透明基板上的對位標識，對位標識用於將掩膜板與待紫外固化處理的顯示面板進行對位，對位標識的材料為感光樹脂。本發明的技術方案通過將掩膜板中對位標識的材料設置為感光樹脂，從而在製備該由感光樹脂構成的對位標識時，僅需經過感光樹脂薄膜塗覆工序、曝光工序和顯影工序即可完成對位標識的製備。與現有技術相比，本發明的技術方案可省去金屬材料沉積工序、刻蝕工序和光刻膠剝離工序，即本發明技術方案可使得製備對位標識過程中所需要的工序數量減少，簡化製作掩膜板的工藝流程，節省成本。
【專利說明】掩膜板及其製備方法和顯示面板中封框膠的固化方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示【技術領域】，特別涉及掩膜板及其製備方法和顯示面板中封框膠的固化方法。
【背景技術】
[0002]液晶顯示面板的生產過程大致如下。首先在陣列基板或者彩膜基板上滴注液晶和封框膠，然後將兩基板進行對盒，再將封框膠進行固化。其中，封框膠的作用是粘接陣列基板和彩膜基板，並且保護中間的液晶不受外界空氣和水的影響。
[0003]目前，往往採用紫外固化的方式對封框膠進行固化，在進行紫外固化處理的過程中需要用到相應的掩膜板，其中該掩膜板包括形成於透明基板上的至少一個對位標識，該對位標識用於與顯示面板中相應的對位圖形進行匹配實現掩膜板與顯示面板的對位。在現有技術中，該對位標識的材料為金屬材料，因此在製備該對位標識時需要至少經過金屬材料薄膜沉積工序、光刻膠塗覆工序、曝光(掩膜)工序、顯影工序、刻蝕工序以及光刻膠剝離工序。
[0004]由上述內容可見，現有技術在製備該紫外固化用的掩膜板中的對位標識時需要進行繁多的工序。
【發明內容】
[0005]本發明提供一種掩膜板及其製備方法和顯示面板中封框膠的固化方法，可有效的簡化在製備掩膜板中的對位標識時所需要的工序數量。
[0006]為實現上述目的，本發明提供一種掩膜板，包括:透明基板和位於所述透明基板上的對位標識，所述對位標識用於將所述掩膜板與待紫外固化處理的顯示面板進行對位，其特徵在於，所述對位標識的材料為感光樹脂。
[0007]可選地，所述感光樹脂的光透過率小於或等於80%。
[0008]可選地，所述對位標識位於所述透明基板的周邊區域。
[0009]可選地，還包括:設置於所述透明基板上且與所述顯示面板上的顯示區域對應的多個矩形遮光圖形，所述矩形遮光圖形的材料為遮光材料。
[0010]可選地，所述遮光材料為金屬材料。
[0011]可選地，所述矩形遮光圖形位於所述透明基板的中間區域。
[0012]為實現上述目的，本發明還提供一種掩膜板的製備方法，所述製備方法包括:
[0013]在透明基板上形成對位標識，所述對位標識用於將所述掩膜板與待紫外固化處理的所述顯示面板進行對位，所述對位標識的材料為感光樹脂。
[0014]可選地，所述在透明基板上形成對位標識的步驟包括:
[0015]在所述透明基板的上方形成感光樹脂薄膜；
[0016]利用相應的掩膜基板對所述感光樹脂薄膜進行曝光處理；
[0017]對曝光處理後的所述感光樹脂薄膜進行顯影處理得到所述對位標識的圖形。
[0018]可選地，所述感光樹脂薄膜可以為光交聯型感光樹脂薄膜或光分解型感光樹脂薄膜或光聚合型感光樹脂薄膜。
[0019]可選地，所述製備方法還包括:
[0020]在所述透明基板上形成與所述顯示面板上的顯示區域對應的多個矩形遮光圖形，所述遮光圖形的材料為遮光材料。
[0021]可選地，所述遮光材料為金屬材料。
[0022]為實現上述目的，本發明還提供一種顯示面板中封框膠的固化方法，其特徵在於，在對所述封框膠進行紫外固化處理時採用上述的掩膜板進行掩膜。
[0023]本發明具有以下有益效果:
[0024]本發明提供了一種掩膜板及其製備方法和顯示面板中封框膠的固化方法，其中該掩膜板用於在對顯示面板中的封框膠進行紫外固化處理時進行掩膜，該掩膜板包括:透明基板和位於透明基板上的對位標識，對位標識用於將掩膜板與待紫外固化處理的顯示面板進行對位，對位標識的材料為感光樹脂。本發明的技術方案通過將掩膜板中對位標識的材料設置為感光樹脂，從而在製備該由感光樹脂構成的對位標識時，僅需經過感光樹脂薄膜塗覆工序(可等效於光刻膠塗覆工序)、曝光工序和顯影工序即可完成對位標識的製備。與現有技術中製備對位標識時至少需要經過金屬材料薄膜沉積工序、光刻膠塗覆工序、曝光工序、顯影工序、刻蝕工序以及光刻膠剝離工序相比，本發明的技術方案可省去金屬材料沉積工序、刻蝕工序和光刻膠剝離工序，即本發明技術方案可使得製備對位標識過程中所需要的工序數量減少，簡化製作掩膜板的工藝流程，節省成本。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0025]圖1為本發明實施例一提供的掩膜板的俯視圖；
[0026]圖2為圖1所示的掩膜板與顯示面板進行對位時的示意圖；
[0027]圖3為掩膜板中的對位標識與顯示面板中的對位圖像進行匹配的示意圖；
[0028]圖4為本發明實施例二提供的一種掩膜板的製備方法的流程圖；
[0029]圖5為本發明實施例二提供的又一種掩膜板的製備方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0030]為使本領域的技術人員更好地理解本發明的技術方案，下面結合附圖對本發明提供的掩膜板及其製備方法和顯示面板中封框膠的固化方法進行詳細描述。
[0031]為實現上述目的，圖1為本發明實施例一提供的掩膜板的俯視圖，圖2為圖1所示的掩膜板與顯示面板進行對位時的示意圖，圖3為掩膜板中的對位標識與顯示面板中的對位圖像進行匹配的示意圖，如圖1至圖3所示，該掩膜板4用於在對顯示面板8中的封框膠5進行紫外固化處理時進行掩膜，該掩膜板4包括:透明基板I和位於透明基板I上的對位標識2，對位標識2用於將掩膜板4與待紫外固化處理的顯示面板8進行對位，對位標識2的材料為感光樹脂。
[0032]需要說明的是，由於感光樹脂可直接與光進行光交聯反應或光分解反應或光聚合反應，因此感光樹脂可用於製備光刻膠。在本實施例中，在製備該由感光樹脂構成的對位標識2時，僅需經過感光樹脂薄膜塗覆工序(可等效於光刻膠塗覆工序)、曝光工序和顯影工序即可完成對位標識2的製備。因此，與現有技術中製備掩膜板4中的對位標識2時至少需要經過金屬材料薄膜沉積工序、光刻膠塗覆工序、曝光工序、顯影工序、刻蝕工序以及光刻膠剝離工序相比，在製備本實施例提供的掩膜板4中的對位標識2時，可省去金屬材料薄膜沉積工序、刻蝕工序和光刻膠剝離工序，即本實施例提供的技術方案可使得製備對位標識2過程中所需要的工序數量減少，簡化製作掩膜板的工藝流程，節省成本。
[0033]可選地，本實施例中感光樹脂的光透過率小於或等於80%，此時可保證生產人員能容易且清楚地觀察到掩膜板4中對位標識2，從而可確保掩膜板4與顯示面板8能快速且準確的進行對位。
[0034]可選地，該對位標識2設置於透明基板I的周邊區域。由於顯示面板8上的對位圖案6往往是設置於顯示面板8的周邊區域，為便於掩膜板4中的對位標識2與顯示面板8中的對位圖案6進行匹配，可將掩膜板4中的對位標識2對應設置在透明基板I的周邊區域。參見圖3，掩膜板4中的對位標識2為框形，顯示面板8中的對位圖案6為圓形的情況為例進行說明，當呈現框形的對位標識2的中心點與呈現圓形的對位圖案6的中心點重合時，即說明對位標識2與對位圖案6匹配完成，相應地，掩膜板4與顯示面板8對位完成。
[0035]需要說明的是，掩膜板4中的對位標識2為框形，顯示面板8中的對位圖案6為圓形的情況僅起到示例性作用，這並不會對本申請的技術方案產生限制，本實施例中的對位標識2以及對位圖案6還可以為其他形狀，此處不再一一列舉。
[0036]可選地，還包括:設置於透明基板I上且與顯示面板8上的顯示區域7對應的多個矩形遮光圖形3，該矩形遮光圖形3位於透明基板I的中間區域，該矩形遮光圖形3的材料為遮光材料。在本實施例中，該矩形遮光圖形3用於在紫外固化處理過程中遮擋射向顯示面板8的顯示區域7的紫外光，從而避免紫外光線對顯示區域7內部件造成損壞，為此該矩形遮光圖形3必須嚴格的確保不透光。本實施例中，該遮光材料具體為金屬材料，從而可有效的保證矩形遮光圖形3不透光。
[0037]本發明實施例還提供一種掩膜板的製備方法，用以製備上述實施例一中的掩膜板。圖4為本發明實施例二提供的一種掩膜板的製備方法的流程圖，如圖4所示，該掩膜板的製備方法包括:
[0038]步驟S1:在透明基板上形成對位標識，對位標識用於將掩膜板與待紫外固化處理的顯示面板進行對位，對位標識的材料為感光樹脂。
[0039]在步驟SI中，具體包括:
[0040]步驟Sll:在透明基板的上方形成感光樹脂薄膜；
[0041]步驟S12:利用相應的掩膜基板對感光樹脂薄膜進行曝光處理；
[0042]步驟S13:對曝光處理後的感光樹脂薄膜進行顯影處理得到對位標識的圖形。
[0043]需要說明的是，本實施例中該感光樹脂薄膜可以為光交聯型感光樹脂薄膜或光分解型感光樹脂薄膜或光聚合型感光樹脂薄膜。
[0044]當該感光樹脂為光交聯型感光樹脂時，上述步驟Sll?步驟13可具體對應為下述步驟101?步驟103。
[0045]步驟101:在透明基板的上方形成光交聯型感光樹脂薄膜。
[0046]在步驟101中，可採用塗覆方式以在透明基板的上方形成光交聯型感光樹脂薄膜。
[0047]步驟102:利用第一掩膜基板對光交聯型感光樹脂薄膜進行曝光處理，第一掩膜基板包括:第一遮光區域和第一透光區域，第一透光區域與光交聯型感光樹脂薄膜上待形成對位標識的區域對應。
[0048]在步驟102中，利用曝光裝置和第一掩膜基板對光交聯型感光樹脂薄膜進行曝光處理，此時光交聯型感光樹脂薄膜上待形成對位標識的區域被光線照射，並發生光交聯反應，從而使得光交聯型感光樹脂薄膜上對應待形成對位標識的區域具有抗腐蝕性。
[0049]步驟103:對曝光處理後的光交聯型感光樹脂薄膜進行顯影處理得到對位標識的圖形。
[0050]在步驟103中，通過相應的顯影液對曝光處理後的光交聯型感光樹脂薄膜進行顯影處理，此時該光交聯型感光樹脂薄膜上對應待形成對位標識的區域得到保留，即形成對位標識。
[0051]當感光數字為光聚合型感光樹脂時，形成由光聚合型感光樹脂構成的對位標識的過程，與上述形成由光交聯型感光樹脂構成的對位標識的過程類似，具體過程可參見上述步驟101?步驟103的描述，此處不再贅述。
[0052]當感光樹脂為光分解型感光樹脂，上述步驟Sll?步驟13可具體對應為下述步驟201?步驟203。
[0053]步驟201:在透明基板的上方形成光分解型感光樹脂薄膜。
[0054]在步驟201中，可採用塗覆的方式以在透明基板的上方形成光分解型感光樹脂薄膜。
[0055]步驟202:利用第二掩膜基板對光分解型感光樹脂薄膜進行曝光處理，第二掩膜基板包括:第二遮光區域和第二透光區域，第二遮光區域與光分解型感光樹脂薄膜上待形成對位標識的區域對應。
[0056]在步驟202中，利用曝光裝置和第二掩膜基板對光分解型感光樹脂薄膜進行曝光處理，此時光分解型感光樹脂薄膜上待形成對位標識的區域未被光線照射，光分解型感光樹脂薄膜上的其他區域被光線照射並發生光分解反應，從而使得光分解型感光樹脂薄膜上的其他區域具有可溶性。
[0057]步驟203:對曝光處理後的光分解型感光樹脂薄膜進行顯影處理得到對位標識的圖形。
[0058]在步驟203中，通過相應的顯影液對曝光處理後的光分解型感光樹脂薄膜進行顯影處理，此時該光分解型感光樹脂薄膜上對應待形成對位標識的區域得到保留，而其他區域被去除，即形成對位標識。
[0059]通過上述步驟101?步驟103或步驟201?步驟203可見，在製備該由感光樹脂構成的對位標識時，僅需經過感光樹脂薄膜沉積工序(可等效於光刻膠塗覆工序)、曝光工序和顯影工序即可完成對位標識的製備。與現有技術相比，本實施例的技術方案可省去金屬材料沉積工序、刻蝕工序和光刻膠剝離工序，即本實施例提供的技術方案可使得製備對位標識過程中所需要的工序數量減少，簡化製作掩膜板的工藝流程，節省成本。
[0060]作為本實施例提供的又一種可選方案，圖5為本發明實施例二提供的又一種掩膜板的製備方法的流程圖，如圖5所示，在步驟SI之後還包括:
[0061]步驟S2:在透明基板上形成與顯示面板上的顯示區域對應的多個矩形遮光圖形，矩形遮光圖形的材料為金屬材料。
[0062]具體地，在步驟S2中，經過金屬材料薄膜沉積工序、光刻膠塗覆工序、曝光(掩膜)工序、顯影工序、刻蝕工序以及光刻膠剝離工序可得到對應的矩形遮光圖形3。
[0063]需要說明的是，上述步驟S2也可在步驟SI之前執行，具體情況此處不再描述。
[0064]本發明實施例三還提供一種顯示面板中封框膠的固化方法，具體地，在對封框膠進行紫外固化處理時採用上述實施例一提供的掩膜板進行掩膜。
[0065]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發明的原理而採用的示例性實施方式，然而本發明並不局限於此。對於本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發明的保護範圍。
【權利要求】
1.一種掩膜板，包括:透明基板和位於所述透明基板上的對位標識，所述對位標識用於將所述掩膜板與待紫外固化處理的顯示面板進行對位，其特徵在於，所述對位標識的材料為感光樹脂。
2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特徵在於，所述感光樹脂的光透過率小於或等於80%。
3.根據權利要求1或2所述的掩膜板，其特徵在於，所述對位標識位於所述透明基板的周邊區域。
4.根據權利要求3所述的掩膜板，其特徵在於，還包括:設置於所述透明基板上且與所述顯示面板上的顯示區域對應的多個矩形遮光圖形，所述矩形遮光圖形的材料為遮光材料。
5.根據權利要求4所述的掩模板，其特徵在於，所述遮光材料為金屬材料。
6.根據權利要求4所述的掩膜板，其特徵在於，所述矩形遮光圖形位於所述透明基板的中間區域。
7.一種掩膜板的製備方法，其特徵在於，所述製備方法包括: 在透明基板上形成對位標識，所述對位標識用於將所述掩膜板與待紫外固化處理的所述顯示面板進行對位，所述對位標識的材料為感光樹脂。
8.根據權利要求7所述的掩膜板的製備方法，其特徵在於，所述在透明基板上形成對位標識的步驟包括: 在所述透明基板的上方形成感光樹脂薄膜； 利用相應的掩膜基板對所述感光樹脂薄膜進行曝光處理； 對曝光處理後的所述感光樹脂薄膜進行顯影處理得到所述對位標識的圖形。
9.根據權利要求8所述的掩膜板的製備方法，其特徵在於，所述感光樹脂薄膜可以為光交聯型感光樹脂薄膜或光分解型感光樹脂薄膜或光聚合型感光樹脂薄膜。
10.根據權利要求7所述的掩膜板的製備方法，其特徵在於，所述製備方法還包括: 在所述透明基板上形成與所述顯示面板上的顯示區域對應的多個矩形遮光圖形，所述遮光圖形的材料為遮光材料。
11.根據權利要求10所述的掩膜板的製備方法，其特徵在於，所述遮光材料為金屬材料。
12.—種顯示面板中封框膠的固化方法，其特徵在於，採用權利要求1-6中任一所述的掩膜板對所述封框膠進行紫外固化處理時進行掩膜。
【文檔編號】G03F1/42GK104503203SQ201510020570
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2015年1月15日 優先權日:2015年1月15日
【發明者】張治超, 郭總傑, 劉正, 張小祥, 陳曦, 劉明懸 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司