用於植物培養的超聲波氣培法裝置的製作方法

2023-05-15 21:01:51

專利名稱：用於植物培養的超聲波氣培法裝置的製作方法
技術領域：
氣霧培方法是以噴霧供給植物根系營養與水份的培養方法。植物根系懸吊於充滿營養霧的空氣中，使得植物獲得充足的氧氣和養分供應，最高可以達到90%的氧供給狀態，因而植物的根系處於旺盛的有氧呼吸狀態，能激發植物根系以最大的吸收礦離子潛能來促進植株對水份及營養的攝取，所以它的生長速度可以發揮到極致，是土壤栽培的3-5倍，水 培的I. 5-2倍。中國專利第200920074233. O公開了一種植物營養液氣霧式供給系統，該方法是，用於培養植物的營養液經過加高壓處理後，通過設置在植物生長區內的噴頭將其以氣霧態噴射至植物的種子上或者植物的裸露在空氣中的根部上。該系統營養液池，用於存儲培養植物的營養液；高壓水泵，其輸入埠與所述營養液池的輸出管道連通；噴頭，設置在植物生長區內，所述噴頭與高壓水泵的輸出埠連通。但是，前述專利提供的方法靠高壓噴霧實現營養液的供給，噴霧的霧量大但霧滴較粗，容易凝結在培養設置上，實際使用上存在成本過高、植物吸收慢的缺點。另外還有維修的問題，高壓系統都較為需要專業和頻繁的維護，應用成本也相對較高。故有必要設計一種霧化量適中，而且霧滴較細，植物根系攝氧量更充足並易於維修的方法來培養植物。

發明內容
本發明提供一種用於植物培養的超聲波氣培法裝置，其利用了超聲波振動技術，利用超聲波振動霧化器使營養液形成3-12微米大小的霧滴供給植物根系。該裝置是一種在較小的空間內以低成本，便於維修，超輕薄為特點的植物培養裝置。—種用於植物培養的超聲波氣培法裝置，包括透光罩和氣霧室，所述的透光罩罩於氣霧室的上方，其特徵在於，氣霧室分為上下兩部分並通過卡口連接，分布有若干個培養孔的培養基板設置於氣霧室上部的頂部，若干個超聲波振動霧化器架設於氣霧室下部的中部且位於所述培養基板的下方。其中，在氣霧室下部的底部設有帶進液口和出液口的儲液池，若干管道架設於儲液池的上方，管道的一端探入儲液池，管道的另一端連接所述的超聲波振動霧化器。其中，所述的氣霧室上部的四周設有若干個讓植物根部能進入氣霧室的培養孔，所述的培養基板的培養孔根據培養植物的不同大小為不同的直徑。其中，在霧化室下部還可安裝有加熱/冷卻器。本發明提供的超聲波氣培法裝置是一種低成本、低功耗的植物培養裝置，它可充分利用立體空間，進行工廠化的育苗，無需防範大田內存在的病蟲害。該裝置操作簡便，相對現有的噴霧法無土栽培省去了高壓泵等裝置。且該裝置所構建的環境更適合植物根系的生長。同時，本系統的霧化設備便於維修，可利用內置系統來集中管理，解決高壓系統都較為需要專業和頻繁的維護的問題。


圖I為本發明實例中超聲波氣培法裝置的示意圖；圖2為本發明實例中超聲波氣培法裝置的氣霧室下部的俯視圖；圖3為本發明實例中超聲波氣培法裝置的氣霧室下部的剖視圖；圖4為本發明實例中超聲波氣培法裝置的氣霧室上部的俯視圖；圖5為本發明實例中超聲波氣培法裝置的透光罩的示意圖；圖6為本發明實例中若干個超聲波氣培法裝置共同工作的示意圖； 主要符號含義I透光罩2氣霧室上部3氣霧室下部4連接管5循環池11第三卡口21 第一^^口22 第二卡口23培養基板24培養孔25第一邊緣26溼度調節孔31第四卡口32第五卡口33超聲波振動霧化器 34管道35第二邊緣36進液口 /出液口37儲液池38固定腳
具體實施例方式下面給出本發明的較佳的實施例，這些實施例並非限制本發明的內容。實施例本發明的實施例提供一種利用超聲波振動技術的用於植物培養的超聲波氣培法
>J-U ρ α裝直。請見圖I所示，該裝置由透光罩I、氣霧室上部2和氣霧室下部3組成。透光罩I罩於氣霧室上部2的上方，它們之間通過透光罩I邊緣上的第三卡口 11與氣霧室上部2的第一邊緣25上的第一^^口 21扣合連接。透光罩I用透明且無毒的高分子材料製成，優選聚丙烯，其具有良好的透光性，可使陽光透入照射到所述的超聲波氣培法裝置內部。氣霧室上部2是一個底部開口的長方體，其頂部請見圖4所示，頂部安裝有培養基板23，培養基板23上有排列整齊、大小相同的培養孔24，植株即可固定於培養孔24內。在氣霧室上部2的第一邊緣25上還設有第二卡口 22，通過它可以與氣霧室下部3的第二邊，35上的第五卡口 32相配合扣接。在氣霧室上部2的四周還設有若干個溼度調節孔26，通過該孔可將植物根系吸收不到的霧狀營養液排放並回收到儲液池37。請參見圖2及圖3所示，氣霧室下部3為一頂部開口的長方體，氣霧室下部3的第二邊緣35上的第四卡口 31可與透光罩I邊緣上的第三卡口 11相配合扣接。在氣霧室下部3的底部設有儲液池37，其內部儲存有供霧化用的營養液，該儲液池37同側的兩端分別設有進液口 /出液口 36，若干個超聲波振動霧化器33架設於氣霧室下部2的中部且位於所述培養基板23的下方。若干管道34架設於儲液池37的上方，管道34的一端探入儲液池37的營養液內，管道34的另一端連接所述的超聲波振動霧化器33。在所述的氣霧室下部3底面的下方的四角還設有固定腳38，該固定腳38可將整個裝置固定於某一位置，也可令所述的裝置以層疊的方式排列。另外，在霧化室下部3還可安裝加熱/冷卻器(圖中未示)，以調整植株根部的環境溫度，使之處於最適宜生長的溫度下。請參見圖6所示，所述的超聲波氣培法裝置在具體使用時優選的採用圖中結構組建並工作，每個超聲波氣培法裝置通過連接管4分別連接各自的進液口 /出液口 36將它們串聯在一起，然後用連接管4將它們與循環池5相連。當超聲波振動霧化器33噴射的氣霧被植物根系吸收後，儲液池37內的營養液的濃度會降低，電子系統控制的檢測器隨時監測循環池5內營養液的濃度並根據具體情況調整營養液，電子系統根據植物不同的生長階段 可以調整營養液的配方和濃度，同時，電子系統也控制著所述的加熱/冷卻器的工作。本發明提供的超聲波氣培法裝置是一種低成本、低功耗的植物培養裝置，它可充分利用立體空間，進行工廠化的育苗，無需防範大田內存在的病蟲害。該裝置操作簡便，相對現有的噴霧法無土栽培省去了高壓泵等裝置。且該裝置所構建的環境更適合植物根系的生長。同時，本系統所利用的霧化設備便於維修，可利用內置系統來集中管理，解決高壓系統都較為需要專業和頻繁的維護的問題。上述實施例僅為本發明優選的實施例，並非用於限定本發明的內容，本發明的保護範圍請見權利要求書所記載的內容。
權利要求
1.一種用於植物培養的超聲波氣培法裝置，包括透光罩和氣霧室，所述的透光罩罩於氣霧室的上方，其特徵在於，氣霧室分為上下兩部分並通過卡口連接，分布有若干個培養孔的培養基板設置於氣霧室上部的頂部，若干個超聲波振動霧化器架設於氣霧室下部的中部且位於所述培養基板的下方。
2.如權利要求I所述的超聲波氣培法裝置，其特徵在於，在氣霧室下部的底部設有帶進液口和出液口的儲液池，若干管道架設於儲液池的上方，管道的一端探入儲液池，管道的另一端連接所述的超聲波振動霧化器。
3.如權利要求2所述的超聲波氣培法裝置，其特徵在於，所述的氣霧室上部的四周設有若干個讓植物根部能進入氣霧室的培養孔，所述的培養基板的培養孔根據培養植物的不同大小為不同的直徑。
4.如權利要求3所述的超聲波氣培法裝置，其特徵在於，在霧化室下部還能安裝有加熱/冷卻器。·
全文摘要
本發明提供一種用於植物培養的超聲波氣培法裝置，包括透光罩和氣霧室，所述的透光罩罩於氣霧室的上方，其特徵在於，氣霧室分為上下兩部分並通過卡口連接，分布有若干個培養孔的培養基板設置於氣霧室上部的頂部，若干個超聲波振動霧化器架設於氣霧室下部的中部且位於所述培養基板的下方。本發明提供的超聲波氣培法裝置是一種低成本、低功耗和低位護的植物培養裝置，它可充分利用立體空間，進行工廠化的育苗和種植，無需防範大田內存在的病蟲害。該裝置操作簡便，相對現有的噴霧法無土栽培省去了高壓泵等裝置。且該裝置所構建的環境更能加強和優化植物根系的生長。
文檔編號A01G31/06GK102860251SQ20111018858
公開日2013年1月9日 申請日期2011年7月6日 優先權日2011年7月6日
發明者關偉琦 申請人:關偉琦