真空鍍膜機的陰極裝置的製作方法

2023-07-13 00:29:11

專利名稱：真空鍍膜機的陰極裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及RTC設備領域，特別是涉及一種真空鍍膜機的陰極裝置。
背景技術：
目前一般真空鍍膜機採用外置式陰極換靶系統，如圖1所示，通過氮化硼絕緣圈 卡入陶瓷絕緣圈的方式固定，需要換靶時必須把整個陰極裝置從設備上取下才能更換靶 材，並且更換靶材工作也比較繁瑣，一般先取下密封圈，再依次取下陶瓷絕緣圈和氮化硼絕 緣圈，然後才能取下靶材。現有的換靶系統換靶耗用時間比較長，一般需要30-40分鐘。而 且由於生產工藝需要經常改變，因此更換靶材的頻率相當高，頻繁的取裝陰極裝置勢必導 致設備真空度的洩露。

實用新型內容(一)要解決的技術問題本實用新型要解決的技術問題是簡化陰極裝置換靶的工序、節約更換靶材所需的 時間。( 二 )技術方案為解決上述技術問題，提供一種真空鍍膜機的陰極裝置，其包括靶材，套於所述 靶材外、並與所述靶材具有環形卡槽的陶瓷絕緣圈，位於所述靶材下方的磁極單元，以及位 於所述陶瓷絕緣圈的下方、所述磁極單元上方的冷卻板，所述環形卡槽中設置有氮化硼絕 緣圈，所述氮化硼絕緣圈為直入式絕緣圈。優選地，所述陰極裝置還具有密封圈，設置於所述冷卻板上。(三)有益效果通過將陰極裝置的氮化硼絕緣圈設計為直入式，取消氮化硼絕緣圈的卡邊，將氮 化硼絕緣圈直接卡入靶材和陶瓷絕緣圈的環形卡槽。更換靶材時，只需直接拔下氮化硼絕 緣圈即可，不需要將整個陰極裝置從設備上取下，簡化了更換靶材的工序，節約了更換靶材 所需的時間，降低設備真空洩露的概率。

圖1是現有技術的真空鍍膜機的陰極裝置的結構示意圖；圖2是本實用新型的真空鍍膜機的陰極裝置的結構示意圖。其中，1 靶材；2 氮化硼絕緣圈；3 陶瓷絕緣圈；4 密封圈；5 磁極單元；6 冷卻 板。
具體實施方式
以下結合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式
作進一步詳細描述。以下 實施例用於說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的範圍。[0014]如圖2所示，本實用新型的真空鍍膜機的陰極裝置，包括靶材1，套於靶材1夕卜、 並與靶材1具有環形卡槽的陶瓷絕緣圈3，位於靶材1下方的磁極單元5，以及位於陶瓷絕 緣圈3的下方、磁極單元5上方的冷卻板6，設置於冷卻板6上的密封圈4，所述環形卡槽中 設置有氮化硼絕緣圈2。其中，氮化硼絕緣圈2設計為直入式絕緣圈。所述直入式絕緣圈指 的是取消了現有技術中氮化硼絕緣圈的臺階式卡邊，將氮化硼絕緣圈2直接卡入靶材和陶 瓷絕緣圈3的環形卡槽。其中，靶材1為塗層形成所必需的原材料；氮化硼絕緣圈2起到耐高溫和絕緣的作 用，用於在塗層過程中保護靶材不被塗層和雜質所汙染；陶瓷絕緣圈3用於絕緣陰極和陽 極；密封圈4用於密封陰極裝置；磁極單元5用於控制轟擊電弧均勻有力的轟擊靶材蒸發 出金屬離子；冷卻板6用於冷卻陰極裝置。採用本實用新型的陰極裝置後，對靶材進行檢測無發現靶材被雜質汙染和高溫變 形等現象，因此證明合格；對設備真空度進行了一個月的統計結果得出設備真空度得到了 控制，穩定在標準的範圍內基本無洩露，證明合格；對設備待機時間和人力時間進行了一個 月的統計結果得出每天(24小時制)設備待機時間由原先的3小時縮短至1小時，大大提 高了生產效率，充分的利用了人力；對塗層後產品進行厚度、硬度、結合力的測試均在控制 的合格範圍內，證明合格。綜合以上四項證明此改造符合設計要求，通過實際運行批次無任 何質量問題證明此裝置合格。由以上實施例可以看出，本實用新型通過將陰極裝置的氮化硼絕緣圈設計為直入 式，取消了氮化硼絕緣圈的卡邊，將氮化硼絕緣圈直接卡入靶材和陶瓷絕緣圈的環形卡槽。 更換靶材時，只需直接拔下氮化硼絕緣圈即可，不需要將整個陰極裝置從設備上取下。批次 換靶時間只需5-10分鐘，整個設備待機只需10-20分鐘，提高了生產效率，設備真空度得到 了保證。以上所述僅是本實用新型的優選實施方式，應當指出，對於本技術領域的普通技 術人員來說，在不脫離本實用新型技術原理的前提下，還可以做出若干改進和變型，這些改 進和變型也應視為本實用新型的保護範圍。
權利要求一種真空鍍膜機的陰極裝置，其特徵在於，所述陰極裝置包括靶材(1)，套於所述靶材(1)外、並與所述靶材(1)之間留有環形卡槽的陶瓷絕緣圈(3)，位於所述靶材(1)下方的磁極單元(5)，以及位於所述陶瓷絕緣圈(3)的下方、所述磁極單元(5)上方的冷卻板(6)，所述環形卡槽中設置有氮化硼絕緣圈(2)；所述氮化硼絕緣圈(2)為直入式絕緣圈。
2.如權利要求1所述真空鍍膜機的陰極裝置，其特徵在於，所述陰極裝置還具有密封圈(4)，設置於所述冷卻板(6)上。
專利摘要本實用新型公開了一種真空鍍膜機的陰極裝置，包括靶材(1)，套於所述靶材(1)外、並與所述靶材(1)具有環形卡槽的陶瓷絕緣圈(3)，位於所述靶材(1)下方的磁極單元(5)，以及位於所述陶瓷絕緣圈(3)的下方、所述磁極單元(5)上方的冷卻板(6)，所述環形卡槽中設置有氮化硼絕緣圈(2)。本實用新型簡化了更換靶材的工序，節約了更換靶材所需的時間，降低設備真空洩露的概率。
文檔編號C23C14/35GK201770767SQ201020255989
公開日2011年3月23日 申請日期2010年7月5日 優先權日2010年7月5日
發明者陳衛飛 申請人:蘇州鼎利塗層有限公司