一種用於承載mocvd石墨盤的託盤的製作方法

2023-07-17 23:27:26 2

專利名稱：一種用於承載mocvd石墨盤的託盤的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種託盤，具體涉及一種用於承載MOCVD設備中石墨盤的託盤。
背景技術：
MOCVD (即金屬有機物化學氣相沉積)設備，主要用於化合物半導體材料與器件的生長。石墨盤是MOCVD設備中用來承載圓晶的部件。參見圖1，石墨盤在MOCVD設備上有三個儲存位置分別是位於手套箱託盤1、儲存室內的H位託盤2及儲存室內的L位託盤3之上。由於普通託盤表面和石墨盤緊密接觸，相互吸附，特別在溫度高於室溫時相互吸附力較大，導致機械手在取起石墨盤時，機械手連同石墨盤上下顫動，隨之而來引出兩個問題一是放好襯底的石墨盤出入反應室生長時易飛片；二是機械手原位易跑偏，導致取盤時出現機械手撞盤、掉盤、卡死等問題。

實用新型內容本實用新型的目的在於克服上述現有技術的不足，提供一種結構簡單、製造方便，能夠有效降低與石墨盤吸附力，避免機械手在取起石墨盤時，機械手連同石墨盤上下顫動問題的用於承載MOCVD石墨盤的託盤。一種用於承載MOCVD石墨盤的託盤，包括分別設置在MOCVD設備中的手套箱託盤、儲存室內的H位託盤及儲存室內的L位託盤；所述手套箱託盤、儲存室內的H位託盤及儲存室內的L位託盤的盤體表面均布開設有若干個空氣擴散孔。本實用新型結構簡單，製作方便，託盤上空氣擴散孔的設計可以有效的降低其與石墨盤的吸附力，避免了由於過大的吸附力而導致的飛片、機械手原位跑偏等問題。

圖1為現有技術中用於承載MOCVD石墨盤的託盤的結構不意圖。圖2為本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
以下結合具體實施例，對本發明做進一步說明。應理解，以下實施例僅用於說明本發明而非用於限制本發明的範圍。實施例1參見圖2，本實用新型提供的一種用於承載MOCVD石墨盤的託盤，包括分別設置在MOCVD設備中的手套箱託盤1、儲存室內的H位託盤2及儲存室內的L位託盤3，所述手套箱託盤1、儲存室內的H位託盤2及儲存室內的L位託盤3的盤體表面均布開設有若干個空氣擴散孔4，所述空氣擴散孔4的形狀、尺寸、數量可根據需要進行調整，當託盤託舉住石墨盤後，利用石墨盤的溫度將託盤與石墨盤之間的空氣向周圍擴散，等溫度降低時周圍空氣又重新回到託盤與石墨盤之間，這樣就不會出現石墨盤與託盤相互吸附的現象，可以滿足不同時段的生產需要，不會出 現由於吸力導致的飛片和機械手原位跑偏帶來的硬體損失。
權利要求1.一種用於承載MOCVD石墨盤的託盤，包括分別設置在MOCVD設備中的手套箱託盤、儲存室內的H位託盤及儲存室內的L位託盤，其特徵在於所述手套箱託盤、儲存室內的H位託盤及儲存室內的L位託盤的盤體表面均布開設有若干個空氣擴散孔。
專利摘要本實用新型公開了一種用於承載MOCVD石墨盤的託盤，包括分別設置在MOCVD設備中的手套箱託盤、儲存室內的H位託盤及儲存室內的L位託盤；所述手套箱託盤、儲存室內的H位託盤及儲存室內的L位託盤的盤體表面均布開設有若干個空氣擴散孔。本實用新型結構簡單，製作方便，託盤上空氣擴散孔的設計可以有效的降低其與石墨盤的吸附力，避免了由於過大的吸附力而導致的飛片、機械手原位跑偏等問題。
文檔編號C23C16/458GK202865341SQ201220540529
公開日2013年4月10日 申請日期2012年10月22日 優先權日2012年10月22日
發明者李永, 牛勇 申請人:合肥彩虹藍光科技有限公司