汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統的製作方法

2023-08-04 08:10:41

汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統的製作方法
【專利摘要】汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統，屬於汙水處理【技術領域】。水槽（5）、溢流槽（6），所述的集水槽（5）和溢流槽（6）內焊在罐體（2）上端，所述的集水槽（5）用於收集汙水樣品，所述溢流槽（6）接收集水槽（5）外溢液體，集水槽（5）和溢流槽（6）之間安裝有電磁閥；所述的汙水及絮凝劑導入管路（1）為中間帶有Y型電磁閥體的輸入管道；所述水質監測元器件分別安裝在汙水及絮凝劑導入管路（1）和集水槽（5）中。安裝於集水槽（5）的檢測元件及時對絮凝過程中的水質、色度及濁度進行檢測，安裝於汙水及絮凝劑導入管路（1）檢測元件對進入裝置的汙水水質進行檢測，便於及時對汙水進入、絮凝劑添加以及排汙等操作進行調整，即實現了雙級檢測。
【專利說明】汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統，屬於汙水處理設備【技術領域】。
【背景技術】
[0002]在汙水處理設備【技術領域】，目前我國汙水處理採用的絮凝排汙處理系統多是根據傳統的絮凝淨水特點設計，絮凝罐內外結構有許多缺點，往往會造成絮凝及排汙過程脫節，且操作調整過程需停機後手工實現，技術方法落後。已有的絮凝排汙技術通常會造成絮凝上清液質量不穩定，汙物排放不及時以及不能連續自控供給等缺點，具體體現以下幾點:
[0003](I)在傳統汙水絮凝排汙系統中，由於設備機構大都受到一次性操作限制，無法根據汙水絮凝過程中的水質、色度及濁度等性質，適時得對汙水進入、絮凝劑添加以及排汙等操作進行調整，這樣就造成絮凝排汙的過程操作存在極大盲目性；
[0004](2)汙水處理過程中需要充足的上清液供給，現有絮凝排汙系統，會利用水泵外抽存入後續存儲罐的方法，同時還有系統會在絮凝罐體側壁中部開孔，進行液體外抽。這些上清液提取方法不能夠確保水質特性，並且頻繁啟停會對上清液連續高效供給的經濟性帶來極大損害。
實用新型內容
[0005]本實用新型的目的是為了提供一種汙水絮凝排汙系統，以解決現有絮凝排汙方法中操作實施盲目、不能系統全面進行幹預調節以及上清液水質不好等問題。
[0006]為實現上述目的，本實用新型採用以下技術方案:
[0007]汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統，所述的汙水絮凝排汙裝置包括汙水及絮凝劑導入管路1、罐體2、支架3、雙級攪拌機4、集水槽5、溢流槽6、沉澱器9、水質監測元器件、汙物收集筒12、離心甩幹機13，所述的罐體2放置於支架3上，所述的罐體2用於對汙水進行處理，汙水及絮凝劑導入管路I與罐體2相連，用於將汙水導入到罐體2內；雙級攪拌器4的旋轉軸位於罐體2內，沉澱器9安裝於所述罐體2的出口處。沉澱器9的出口連接到汙物收集筒12，汙物收集筒12與離心甩幹機13相連，汙物收集筒12與離心甩幹機13之間安裝有電磁閥；所述的雙級檢測系統包括有集水槽5、溢流槽6，所述的集水槽5和溢流槽6內焊在罐體2上端，所述的集水槽5用於收集汙水樣品，所述溢流槽6接收集水槽5外溢液體，集水槽5和溢流槽6之間安裝有電磁閥；所述的汙水及絮凝劑導入管路I為中間帶有Y型電磁閥體的輸入管道；所述水質監測元器件分別安裝在汙水及絮凝劑導入管路I和集水槽5中。
[0008]優選地，所述的雙級檢測系統還包括有設備調節中心處理器，所述的設備中心處理器的輸入端與汙水及絮凝劑導入管路I和集水槽5中的水質監測元器件連接，所述設備中心處理器的控制端與絮凝劑導入管路I上的電磁閥相連連接，控制絮凝劑添加Y型電磁閥的開閉，所述設備中心處理器的控制端與與雙級攪拌機4旋轉軸控制電機連接，所述設備中心處理器的控制端分別與集水槽5和溢流槽6之間的電磁閥、控制汙物收集筒12與離心甩幹機13之間的電磁閥相連；端設備調節中心處理器通過兩級水質監測反饋信號，第一級監測通過檢測安裝於汙水及絮凝劑導入管路I中的水質監測元器件，控制調節絮凝劑加入量和雙級攪拌機4的轉速，第二級監測通過集水槽5中的水質監測元器件，控制集水槽5和溢流槽6之間電磁閥開閉，並控制汙物收集筒12與離心甩幹機13之間的電磁閥的開閉控制實現汙物周期外排至離心甩幹機13。
[0009]優選地，所述的Y型電磁閥流出一側安裝有水質監測元器件，水質監測元器件為色度和濁度檢測儀I 10，Y型閥流出管路由罐體2的側壁接入。
[0010]優選地，集水槽5中的水質監測元器件為懸浮物檢測儀、CODcr檢測儀、濁度和色度檢測儀II11。
[0011]優選地，所述沉澱器9收集的汙物通過設備調節中心處理器控制電磁閥定期排放至汙物收集筒12，再經汙物收集筒12底部電磁閥定期排放至離心甩幹機13。
[0012]本實用新型所述的汙水絮凝排汙系統用作整套汙水處理系統中可顯示出很大的優越性。本實用新型中高質量的上清液從集水槽流入溢流槽，安裝於集水槽5的檢測元件及時對絮凝過程中的的水質、色度及濁度進行檢測，安裝於汙水及絮凝劑導入管路I檢測元件對進入裝置的汙水水質進行檢測，便於及時對汙水進入、絮凝劑添加以及排汙等操作進行調整，即實現了雙級檢測；汙物收集筒設計可以實現絮凝和排汙過程互不幹涉。本實用新型可實現定期排汙，這樣可以避免絮凝排汙系統頻繁起停，確保汙水的絮凝過程可以連續不斷，使得上清液可以連續溢流外存，而汙物可以根據汙物收集筒收納體積的過渡設計，實現汙物根據生產需求隨時外排至離心甩幹機進行處理。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是現有技術中汙水絮凝排汙系統的連接框圖；
[0014]圖2是本實用新型所述汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統的連接框圖；
[0015]圖3是本實用新型所述汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統的具體結構示意圖。
[0016]圖中:1、汙水及絮凝劑導入管路，2、罐體，3、支架，4、雙級攪拌機，5、集水槽，6、溢流槽，7、螺旋傘形罩體I，8、螺旋傘形罩體11，9、沉澱器，10、濁度和色度檢測儀I，11、懸浮物檢測儀、CODcr檢測儀、濁度和色度檢測儀II，12、汙物收集筒，13、離心甩幹機。
【具體實施方式】
[0017]參照附圖，將詳細敘述本實用新型的具體實施方案。
[0018]如圖1所示，在現有技術的汙水絮凝排汙系統中，汙水和絮凝劑按照某一不變的配比輸入到罐體中，並且攪拌機以一個固定的轉速對其進行混合絮凝，隨後會根據經驗確定停機時間，使用水泵將上清液進行抽取外存，而罐體底部的絮凝汙物，則採用手動開閘的方式進行外排和關閉。
[0019]如圖2所示，本實用新型的汙水絮凝排汙系統的一個具體實施例。其與現有技術，如圖1所示的汙水絮凝排汙系統的區別在於，本實用新型使用了兩級水質監測，即中心處理器分別對添加絮凝劑混合後的汙水水質監測和攪拌絮凝後的上清液水質監測，實現了絮凝劑添加量以及絮凝攪拌轉速調節控制，還使用中心處理器對絮凝汙物進行了周期排放控制。與現有系統的另一區別特徵在於，本實用新型使用了如圖3所示的雙層傘形罩體以及沉澱器組合的絮凝物收集結構，可以實現絮凝物和上清液順利分離，提高上清液質量，並加快絮凝物穩定收集。
[0020]圖3中汙水及絮凝劑導入管路I通過Y型電磁閥連接，在Y型閥體出口處安裝濁度和色度檢測儀I 10，中心處理器通過水質監測信號回饋調節Y型閥體絮凝劑入口處電磁蝶閥的開啟大小，實現絮凝劑添加量控制。集水槽5和溢流槽6連接處安裝有電磁閥，集水槽中安裝了懸浮物檢測儀、CODcr檢測儀、色度檢測儀及濁度檢測儀II 11，水質檢測不達標時，中心處理器通過水質監測信號回饋決定兩槽間電磁閥關閉，並通過調節攪拌機轉速以求水質合格後重新開啟電磁閥。如圖3中系統使用雙級攪拌機4加速汙水絮凝混合，螺旋傘形罩體I 7嵌連在攪拌機旋轉軸上，位於攪拌機葉片上方，該罩體葉片截面可為四邊形或圓弧形截面，傘形罩體隨攪拌機旋轉，該罩體葉片與攪拌機葉片旋向相同，上清液從罩體葉片縫隙上浮，絮凝物被罩體葉片阻擋下沉，向下的傘形結構設計可以實現汙物加速下降；螺旋傘形罩體II 8固定安裝於罐體下部，罩體葉片截面可為四邊形或圓弧形截面，位於攪拌機葉片正下方，該罩體葉片旋向與螺旋傘形罩體I 7葉片旋向相反，螺旋傘形罩體II 8主要用於收集下沉的絮凝汙物，防止汙物在罐內液體攪拌過程中再次被帶起；沉澱器9被安裝於螺旋傘形罩體II 8的正下方，沉澱器9結構中，上部為螺旋四邊形或圓弧截面的葉片，該葉片與螺旋傘形罩體II 8葉片旋向相反，沉澱器側部為封閉擋板結構，這也可以確保汙物被再次穩定收集，沉澱器底部為圓形開口，與罐體2底部外排開孔尺寸匹配。圖3中罐體2下部安裝有兩端帶有電磁閥的汙物收集筒12，通過圖2中的中心處理器控制，由沉澱器收集的絮凝汙物會被定期外排至收集筒內，該收集筒體積為沉澱器結構包容汙物體積的若干倍，並且汙物收集筒的體積與下方的離心甩幹機13的汙物收納體積能夠匹配，利用汙物收集筒的汙物存入過渡功能，本實用新型就實現了汙水處理過程中絮凝和排汙這兩個主要過程的分離，利用中心處理器的自控功能方便進行絮凝質量調節，以及汙物排放時間定期控制。
【權利要求】
1.汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統，所述的汙水絮凝排汙裝置包括汙水及絮凝劑導入管路(I)、罐體(2)、支架(3)、雙級攪拌機(4)、沉澱器(9)、水質監測元器件、汙物收集筒(12)、離心甩幹機(13)，所述的罐體(2)放置於支架(3)上，所述的罐體(2)用於對汙水進行處理，汙水及絮凝劑導入管路(I)與罐體(2)相連，用於將汙水導入到罐體(2)內；雙級攪拌器(4)的旋轉軸位於罐體(2)內，沉澱器(9)安裝於所述罐體(2)的出口處，沉澱器(9)的出口連接到汙物收集筒(12)，汙物收集筒(12)與離心甩幹機(13)相連，汙物收集筒(12)與離心甩幹機(13)之間安裝有電磁閥；其特徵在於:其包括有集水槽(5)、溢流槽(6)，所述的集水槽(5)和溢流槽(6)內焊在罐體(2)上端，所述的集水槽(5)用於收集汙水樣品，所述溢流槽(6 )接收集水槽(5 )外溢液體，集水槽(5 )和溢流槽(6 )之間安裝有電磁閥；所述的汙水及絮凝劑導入管路(I)為中間帶有Y型電磁閥體的輸入管道；所述水質監測元器件分別安裝在汙水及絮凝劑導入管路(I)和集水槽(5)中。
2.根據權利要求1所述的汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統，其特徵在於:其還包括有設備調節中心處理器，所述的設備中心處理器的輸入端與汙水及絮凝劑導入管路(I)和集水槽(5)中的水質監測元器件連接，所述設備中心處理器的控制端與絮凝劑導入管路(I)上的電磁閥相連連接，控制絮凝劑添加Y型電磁閥的開閉，所述設備中心處理器的控制端與與雙級攪拌機(4)旋轉軸控制電機連接，所述設備中心處理器的控制端分別與集水槽(5)和溢流槽(6)之間的電磁閥、控制汙物收集筒(12)與離心甩幹機(13)之間的電磁閥相連；端設備調節中心處理器通過兩級水質監測反饋信號，第一級監測通過檢測安裝於汙水及絮凝劑導入管路(I)中的水質監測元器件，控制調節絮凝劑加入量和雙級攪拌機(4)的轉速，第二級監測通過集水槽(5)中的水質監測元器件，控制集水槽(5)和溢流槽(6)之間電磁閥開閉，並控制汙物收集筒(12)與離心甩幹機(13)之間的電磁閥的開閉控制實現汙物周期外排至離心甩幹機(13)。
3.根據權利要求1所述的汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統，其特徵在於:所述的Y型電磁閥流出一側安裝有水質監測元器件，水質監測元器件為色度和濁度檢測儀I (10)，Y型閥流出管路由罐體(2)的側壁接入。
4.根據權利要求1所述的汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統，其特徵在於:集水槽(5)中的水質監測元器件為懸浮物檢測儀、CODcr檢測儀、濁度和色度檢測儀II (11)。
5.根據權利要求1所述的汙水絮凝排汙裝置的雙級檢測系統，其特徵在於:所述沉澱器(9)收集的汙物通過設備調節中心處理器控制電磁閥定期排放至汙物收集筒(12)，再經汙物收集筒(12)底部電磁閥定期排放至離心甩幹機(13)。
【文檔編號】G01N33/18GK203699998SQ201420038528
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2014年1月21日 優先權日:2014年1月21日
【發明者】馬勇傑, 王淑芳, 席巍, 劉長青, 鄭業明, 李軍, 李明海 申請人:北京聯合大學