防止低聚物產生的聚酯基膜的製作方法
2023-08-04 01:52:46 2
專利名稱：防止低聚物產生的聚酯基膜的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種聚酯基膜，具體涉及一種用於玻璃貼膜的防止低聚物產生的聚酯基膜。
背景技術：
聚酯基膜因具有良好的機械性能、光學性能、耐熱耐寒性等，廣泛應用於工業諸多領域。其中，用於汽車玻璃貼膜的聚酯基膜，對光學性能尤其是透明度和透光率要求特別高。但聚酯薄膜在生產過程中以及在使用過程中，容易有低聚物的產生，低聚物揮發聚集在聚酯基膜的表面，不僅影響聚酯基膜的潔淨度和光學性能，並且經長時間日光暴曬之後，聚酯基膜的發霧現象非常明顯，不能滿足高端玻璃貼膜的需求。發明內容本實用新型所要解決的技術問題是針對現有技術存在的不足，提供一種具有良好的光學性能、生產以及使用過程中不會產生低聚物，而且在長時間暴曬之後不存在膜面發霧問題的聚酯基膜。為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是防止低聚物產生的聚酯基膜，所述聚酯基膜包括多層共擠複合層，所述多層共擠複合層的上、下表面上分別塗布有聚酯改性丙烯酸酯上表層和聚酯改性丙烯酸酯下表層。其中，所述多層共擠複合層包括聚酯層，共擠複合於所述聚酯層兩表面上的無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層。作為一種改進，所述聚酯改性丙烯酸酯層中均勻分布有無機添加劑顆粒。 所述無機顆粒為5 20nm的無機物顆粒。所述無機添加劑顆粒為10 50nm的無機添加劑顆粒。所述聚酯基膜的厚度為12 36um，所述無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層的厚度分別為2 4um，所述聚酯改性丙烯酸酯上表層和聚酯改性丙烯酸酯下表層的厚度分別為0. 05 0. 6um。由於採用了上述技術方案，本實用新型的有益效果是本實用新型的多層共擠複合層的聚酯層本身的透光率、透明度非常高，共擠複合於所述聚酯層兩表面上的無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層，其中的無機顆粒粒徑只有5 20nm，當光照射在無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層時，光波就會繞開微小的無機顆粒而直接穿過聚酯基膜。而多層共擠複合層的上、下表面上分別塗布的聚酯改性丙烯酸酯層，透光率非常好，並且對共擠複合層塗布之後薄膜表面粗糙度變小，因此光散射較小，並且表面的塗布層聚酯改性丙烯酸酯層的穩定性非常高，多層共擠複合層中的低聚物在揮發時被該上、下兩聚酯改性丙烯酸酯塗布層阻擋，因此重新形成聚酯材料，避免了低聚物的揮發。因此，本實用新型不僅提高了聚酯基膜表面的透光率、透明度和光澤度，避免了聚酯基膜發霧的現象，而且能減少低聚物揮發造成的聚酯基膜表面發霧和汙染現象。本實用新型具有良好的光學性能，透明度大於98%，透光率大於90%，霧度為1. 5 2. 3%，生產過程中沒有低聚物的揮發，保證了生產環境的清潔衛生，經長時間陽光暴曬後， 不存在膜面發霧現象，保證了玻璃貼膜的使用要求。以下結合附圖
和實施例對本實用新型進一步說明。附圖是本實用新型實施例的結構剖視圖。圖中，1.多層共擠複合層；2.聚酯改性丙烯酸酯上表層；3.聚酯改性丙烯酸酯下表層；11.聚酯層；12.無機顆粒聚酯上複合層；13.無機顆粒聚酯下複合層。
具體實施方式
如附圖所示，防止低聚物產生的聚酯基膜，所述聚酯基膜包括多層共擠複合層1， 所述多層共擠複合層1的上、下表面上分別塗布有聚酯改性丙烯酸酯上表層2和聚酯改性丙烯酸酯下表層3。其中，所述多層共擠複合層1包括聚酯層11，共擠複合於所述聚酯層11兩表面上的無機顆粒聚酯上複合層12和無機顆粒聚酯下複合層13。所述聚酯改性丙烯酸酯上、下表層中均勻分布有無機添加劑顆粒。所述無機顆粒為5 20nm的無機物顆粒。所述無機添加劑顆粒為10 50nm的無機添加劑顆粒。所述聚酯基膜的厚度為12 36um，所述無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層的厚度分別為2 4um，所述聚酯改性丙烯酸酯上表層和聚酯改性丙烯酸酯下表層的厚度分別為0. 05 0. 6um。實施例1防止低聚物產生的聚酯基膜，厚度為18um，所述聚酯基膜包括多層共擠複合層1， 所述多層共擠複合層1包括聚酯層11，共擠複合於所述聚酯層11兩表面上的無機顆粒聚酯上複合層12和無機顆粒聚酯下複合層13，所述無機顆粒為Snm的無機物顆粒，所述多層共擠複合層1的上、下表面上分別塗布有聚酯改性丙烯酸酯上表層2和聚酯改性丙烯酸酯下表層3，所述聚酯改性丙烯酸酯上表層和聚酯改性丙烯酸酯下表層的厚度分別為0. lum，所述無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層的厚度分別為2um。實施例2防止低聚物產生的聚酯基膜，厚度為25um，所述聚酯基膜包括多層共擠複合層1， 所述多層共擠複合層1包括聚酯層11，共擠複合於所述聚酯層11兩表面上的無機顆粒聚酯上複合層12和無機顆粒聚酯下複合層13，所述無機顆粒為12nm的無機物顆粒，所述多層共擠複合層1的上、下表面上分別塗布有聚酯改性丙烯酸酯上表層2和聚酯改性丙烯酸酯下表層3，所述聚酯改性丙烯酸酯上表層和聚酯改性丙烯酸酯下表層的厚度分別為0. 3um，所述無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層的厚度分別為3um，所述聚酯改性丙烯酸酯上、下表層中均勻分布有無機添加劑顆粒，所述無機添加劑顆粒為20nm的無機添加劑顆粒。實施例3防止低聚物產生的聚酯基膜，厚度為30um，所述聚酯基膜包括多層共擠複合層1， 所述多層共擠複合層1包括聚酯層11，共擠複合於所述聚酯層11兩表面上的無機顆粒聚酯上複合層12和無機顆粒聚酯下複合層13，所述無機顆粒為18nm的無機物顆粒，所述多層共擠複合層1的上、下表面上分別塗布有聚酯改性丙烯酸酯上表層2和聚酯改性丙烯酸酯下表層3，所述聚酯改性丙烯酸酯上表層和聚酯改性丙烯酸酯下表層的厚度分別為0. 6um，所述無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層的厚度分別為4um，所述聚酯改性丙烯酸酯上、下表層中均勻分布有無機添加劑顆粒，所述無機添加劑顆粒為40nm的無機添加劑顆粒。
權利要求1.防止低聚物產生的聚酯基膜，其特徵在於所述聚酯基膜包括多層共擠複合層，所述多層共擠複合層的上、下表面上分別塗布有聚酯改性丙烯酸酯上表層和聚酯改性丙烯酸酯下表層。
2.如權利要求1所述的防止低聚物產生的聚酯基膜，其特徵在於所述多層共擠複合層包括聚酯層，共擠複合於所述聚酯層兩表面上的無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層。
3.如權利要求1所述的防止低聚物產生的聚酯基膜，其特徵在於所述聚酯改性丙烯酸酯層中均勻分布有無機添加劑顆粒。
4.如權利要求2所述的防止低聚物產生的聚酯基膜，其特徵在於所述無機顆粒為 5 20nm的無機物顆粒。
5.如權利要求3所述的防止低聚物產生的聚酯基膜，其特徵在於所述無機添加劑顆粒為10 50nm的無機添加劑顆粒。
6.如權利要求2所述的防止低聚物產生的聚酯基膜，其特徵在於所述聚酯基膜的厚度為12 36um，所述無機顆粒聚酯上複合層和無機顆粒聚酯下複合層的厚度分別為 2 4um，所述聚酯改性丙烯酸酯上表層和聚酯改性丙烯酸酯下表層的厚度分別為0. 05 0. 6um。
專利摘要本實用新型公開了一種防止低聚物產生的聚酯基膜，所述聚酯基膜包括多層共擠複合層，所述多層共擠複合層的上、下表面上分別塗布有聚酯改性丙烯酸酯上表層和聚酯改性丙烯酸酯下表層。本實用新型的多層共擠複合層的透光率、透明度非常高，而多層共擠複合層的上、下表面上塗布的聚酯改性丙烯酸酯層穩定性非常高，避免了低聚物的揮發，避免了聚酯基膜發霧的現象，塗布後薄膜表面粗糙度變小，提高了聚酯基膜表面的透光率、透明度和光澤度。本實用新型經長時間陽光暴曬後，不存在膜面發霧現象，保證了高端玻璃貼膜的使用需求。
文檔編號B32B27/28GK202029474SQ201120124338
公開日2011年11月9日 申請日期2011年4月25日 優先權日2011年4月25日
發明者周慧芝, 張玲, 王國明, 董興廣 申請人:富維薄膜(山東)有限公司