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一種用於基坑支護的桁錨支撐結構的製作方法

2023-06-02 00:12:56 1


本發明屬於巖土工程技術領域,涉及臨時基坑支護方法中一種邊桁架支撐與錨索結合的支護方法。



背景技術:

對於平面尺寸和開挖深度均較大的深大基坑,目前國內採用的基坑支護方法主要為內支撐結構或樁錨結構。內支撐結構的平面布置形式主要有:網格式、對撐桁架、角撐桁架、邊桁架、環形支撐等。支撐構件分為水平支撐梁和豎向支承立柱,立柱設置在梁梁交匯節點位置,材料為鋼管或型鋼格構,每根立柱下設一根樁基,主要承受豎向荷載,同時也承受支撐傳遞到立柱上的部分水平荷載。立柱間距一般為8~12米,對於平面尺寸大於100x100米的深大基坑,坑內立柱可達到數十根甚至上百根。在擬建地下室施工時,立柱需要穿過地下室底板和樓板。樁錨結構的錨索錨固在基坑外的穩定土體中,鎖定在設置於圍護結構表面的腰梁上,錨索全長位於土體中,自由段長度不小於5米,錨固段根據土質條件和設計拉力值的大小不盡相同,常見錨索長度為15~40米。目前技術存在如下問題:

1.由於基坑內分布有大量立柱,基坑進行每層土方開挖時,挖掘機操作和土方外運時需要避讓立柱,大大降低了挖土工效,加之天氣和市容管制等疊加效應,使得基坑土方開挖進度緩慢,從而延長了基坑使用時間和總體工期,對基坑安全、工程進度造成不利影響。

2.由於基坑內存在大量支撐構件和立柱,使得擬建地下室結構施工時作業空間侷促,工效降低。

3.由於立柱間距較小,且為鋼結構,土方開挖過程中各種設備容易對其造成損傷,從而影響基坑安全。

4.大量立柱需要穿過地下室底板,雖然立柱穿底板處均設置止水鋼板,但由於地下室底板的防水層被立柱穿破,底板防水效果難以保證。

5.由於每根立柱下設有樁基,顯著增加了內支撐支護工程的造價,尤其在軟土地區。

6.樁錨支護中的錨索全長設置在基坑以外的土體中,往往超越用地紅線,給紅線外相鄰工程施工形成障礙,甚至侵犯相鄰場地物權。



技術實現要素:

本發明的目的在於克服現有技術的不足,提供了一種用於基坑支護的桁錨支護結構。

本發明是通過以下技術方案實現的:一種用於基坑支護的桁錨支護結構,包括邊桁架結構,其特徵在於:邊桁架結構圍繞基坑內緣四周設置,邊桁架結構包括立柱樁、鋼立柱、圍護結構和桁架橫梁,立柱樁設置在基坑內,圍護結構設置在基坑邊緣,立柱樁上設置鋼立柱,桁架橫梁架設在鋼立柱與圍護結構的頂部;用於基坑支護的桁錨支護結構還包括錨索,錨索的錨頭臺座設置在鋼立柱與桁架橫梁的連接處,錨索的錨固段傾斜向下設置於基坑外的土體中,錨頭臺座與錨固段之間由貫穿圍護結構的錨索的自由段連接。

作為對上述方案的進一步改進,在圍護結構頂部設置有冠梁,在鋼立柱的頂部設置有邊桁架縱梁,邊桁架橫梁設置在冠梁與邊桁架縱梁的上方。

作為對上述方案的進一步改進,邊桁架橫梁、冠梁與邊桁架縱梁為一個澆築整體。

作為對上述方案的進一步改進,在鋼立柱的中段設置有二層邊桁架橫梁和二層邊桁架縱梁,二層邊桁架縱梁連接在相鄰兩根鋼立柱的中段之間,二層邊桁架橫梁設置在鋼立柱與圍護結構之間,在維護結構與二層邊桁架橫梁的連接部位設置有圍檁,在圍檀中設置有供錨索的自由段穿過的通孔。

作為對上述方案的進一步改進,在圍檀和邊桁架縱梁與邊桁架橫梁的連接處之間設置斜向鋼支撐,斜向鋼支撐使用中空的鋼管件或鋼格構,錨索的自由段設置在鋼管或鋼格構的管腔內。

作為對上述方案的進一步改進,二層邊桁架橫梁、圍檁和二層邊桁架縱梁為一個澆築整體。

作為對上述方案的進一步改進,邊桁架結構沿基坑周邊設置。

本發明相比現有技術具有以下優點:本發明取消了水平對撐及其下方的立柱,僅在基坑邊緣設置邊桁架水平支撐,和沿基坑周邊的立柱,為基坑土方開挖和地下室結構施工提供了良好的平面作業空間,大大提高了施工效率,從而減少了基坑暴露時間,縮短了工期。同時,由於立柱和立柱樁的取消,解決了立柱穿底板的防水處理難題,節約了造價。本發明採用錨索與邊桁架支撐共同作用,替代了水平對撐,且錨索的自由段置於邊桁架中的斜向鋼支撐內,僅錨固段位於土體中,大大減少了錨索進入基坑外的尺寸,解決了錨索超越用地紅線侵權問題。

附圖說明

圖1是本發明的縱向剖視圖。

圖2是本發明俯視圖。

圖3本發明施工流程示意圖一。

圖4本發明施工流程示意圖二。

圖5本發明施工流程示意圖三。

圖6本發明施工流程示意圖四。

圖7為斜向鋼支撐採用鋼格構時的截面示意圖。

圖8為斜向鋼支撐採用鋼管時的截面示意圖。

具體實施方式

下面對本發明的實施例作詳細說明,本實施例在以本發明技術方案為前提下進行實施,給出了詳細的實施方式和具體的操作過程,但本發明的保護範圍不限於下述的實施例。

一種用於基坑支護的桁錨支護結構,包括邊桁架結構,其特徵在於:邊桁架結構圍繞基坑內緣四周設置,邊桁架結構包括立柱樁2、鋼立柱3、圍護結構1和桁架橫梁,立柱樁2設置在基坑內,圍護結構1設置在基坑邊緣,立柱樁2上設置鋼立柱3,桁架橫梁架設在鋼立柱3與圍護結構1的頂部;用於基坑支護的桁錨支護結構還包括錨索5,錨索5的錨頭臺座12設置在鋼立柱3與桁架橫梁的連接處,錨索5的錨固段17傾斜向下設置於基坑外的土體中,錨頭臺座12與錨固段17之間由貫穿圍護結構1的錨索5的自由段18連接。常用的基坑支護結構需要在基坑內設置分布廣泛的支撐結構,使基坑內的空間被佔用分割,大大降低施工效率;而通常的樁錨結構將錨索5固定於圍護結構1的腰部,收到拉力要求的限制,錨索5的長度不能隨意減少,常會造成錨索5伸出用地紅線16而無法有效使用的問題。本方案將樁錨結構與常用的支護結構結合,使用邊桁架結構與錨索5相結合,將錨頭臺座12設置於鋼立柱3與桁架橫梁的連接部位,使錨索5能夠不僅提供橫向的水平拉力,還提供一個將整個邊桁架向下壓的豎直方向的分力,使邊桁架結構更加穩固,對基坑邊緣土體的支撐強度更大,同時由於錨索5的自由段18有很長一部分設置在邊桁架結構中,使其伸出圍護結構1的部分的長度得到縮短,在保證總長度不減少的情況下使錨固段17不會伸出用地紅線16,使施工時的操作餘地更大,適用性更強。

在圍護結構1頂部設置有冠梁4,在鋼立柱3的頂部設置有邊桁架縱梁7,邊桁架橫梁6設置在冠梁4與邊桁架縱梁7的上方。通過設置邊桁架縱梁7和冠梁4能夠使整個邊桁架結構的整體性更強,結合錨索5能夠形成承受力更強且性能穩定的基坑支護結構。

邊桁架橫梁6、冠梁4與邊桁架縱梁7為一個澆築整體。

在鋼立柱3的中段設置有二層邊桁架橫梁8和二層邊桁架縱梁10,二層邊桁架縱梁10連接在相鄰兩根鋼立柱3的中段之間,二層邊桁架橫梁8設置在鋼立柱3與圍護結構1之間,在維護結構與二層邊桁架橫梁8的連接部位設置有圍檁,在圍檀9中設置有供錨索5的自由段18穿過的通孔。在一些基坑深度較深的情況下,為防止鋼立柱3和圍護結構1的變形幅度太大影響施工安全,通過設置二層邊桁架橫梁8和二層邊桁架縱梁10,使邊桁架結構的抗變形能力得到大幅度的提升,同時圍檀9的設置,一方面使二層邊桁架橫梁8與圍護結構1結合牢固,另一方面通孔的設置在不影響結構安全的前提下保證錨索5能夠順利設置不受影響。

在圍檀9和邊桁架縱梁7與邊桁架橫梁6的連接處之間設置斜向鋼支撐11,斜向鋼支撐11使用中空的鋼管件或鋼格構,錨索5的自由段18設置在鋼管或鋼格構的管腔內。鋼管件製作的斜向鋼支撐11一方面能夠提高邊桁架結構的抗變形能力,有效的將錨頭臺座12處錨索5的拉力傳遞分散至整個邊桁架架構中,增強結構的穩固性,另一方面,鋼管或鋼格構的管腔能夠有效保護錨索5的自由段18,防止意外導致錨索5結構損壞。

二層邊桁架橫梁8、圍檁和二層邊桁架縱梁10為一個澆築整體。邊桁架結構沿基坑周邊設置。

如圖1所示,基坑內擬建主體結構為地下兩層,基坑開挖深度11m,平面跨度150米,周邊環境複雜,對基坑變形控制要求嚴格。基坑支護總體方案內支撐採用桁錨支撐結構。

圍護結構1採用排樁,參見圖1。排樁採用900mm直徑鑽孔灌注樁,樁長17m,按一定間距形成柱列式,樁與樁通過冠梁4連接,形成排樁圍護結構1。立柱樁2採用900mm直徑鑽孔灌注樁,樁頂標高為擬建地下室底板墊層底以下200mm,樁長6m,鋼立柱3採用550mmx550mm鋼格構柱,由4根L160x16角鋼和鋼綴板焊接而成,立柱間距8m,底部插入立柱樁2樁身4m。

參見圖2,邊桁架橫梁6與二層邊桁架橫梁8水平間距8m,截面尺寸採用850x850,邊桁架橫梁6與冠梁4、邊桁架縱梁7澆築為整體,二層邊桁架橫梁8與圍檁、二層邊桁架縱梁10澆築為整體。邊桁架橫梁6與二層邊桁架橫梁8平面跨度8m,邊桁架縱梁7與二層邊桁架縱梁10及圍檁沿基坑通長設置。

參見圖1、2,斜向鋼支撐11水平間距4m,截面尺寸採用609x16鋼管,其兩端分別固定在設置於邊桁架縱梁7和圍檁上的預埋件鋼板上。

參見圖1、2,錨索5的錨固段17位於基坑外的土體中,並位於潛在滑動面15以外。錨索5的自由段18先後穿越圍檁、斜向鋼支撐11和邊桁架縱梁7,鎖定在錨頭臺座12上。錨索5的自由鍛穿越圍檁和邊桁架縱梁7處採取預埋PVC套管。

施工過程如下:

1)如圖3所示,在場地地面13施工圍護結構1、立柱樁2、立柱、冠梁4,冠梁4上預埋鋼筋與擬施工的首層邊桁架橫梁6接駁;

2)如圖4所示,整體開挖至一次土方開挖面19,施工錨索5,錨索5自由段18暫時放置在基坑內;

3)如圖5所示,施工邊桁架橫梁6、邊桁架縱梁77、二層邊桁架橫梁8、圍檁、二層邊桁架縱梁10、斜向鋼支撐11、錨索5臺座,依次將錨索5穿越進行張拉和鎖定;

4)如圖6所示,整個基坑開挖至基坑底14,基坑支護及土方開挖全部完工,可移交土建施工單位進行地下室結構施工。

以上僅為本發明的較佳實施例而已,並不用以限制本發明,凡在本發明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等,均應包含在本發明的保護範圍之內。

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