金屬掩模片供給系統的製作方法
2023-07-01 07:20:11 2
金屬掩模片供給系統的製作方法
【專利摘要】本發明提供一種金屬掩模片供給系統，能夠自動供給金屬掩模片而不使其損傷。該金屬掩模片供給系統具備：配置部（10），配置片盒，其中，金屬掩模片（4）和保護所述金屬掩模片的保護片交替層疊地收納於所述片盒；分離裝置（12），通過在隔著所述配置部的位置沿所述配置部的延伸方向所設置的至少一對磁浮子，使配置於所述配置部的所述片盒所收納的所述金屬掩模片一張張地分離；及搬運裝置，保持由所述分離裝置分離的所述金屬掩模片中位於最上部的所述金屬掩模片並搬運給其他裝置。
【專利說明】金屬掩模片供給系統
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種金屬掩模片供給系統，將重疊地收納於片盒中的金屬掩模片一張張地分離，並搬運給其他裝置。
【背景技術】
[0002]以往，已知有在有機EL元件的製造工序中進行真空蒸鍍時使用的金屬掩模的製造方法(例如參照專利文獻I)。
[0003]專利文獻1:日本特開2004 - 218034號公報
【發明內容】
[0004]發明所要解決的課題
[0005]然而，一般而言，在金屬掩模的製造線上，通過手動作業來進行金屬掩模片的供給處理。但是，金屬掩模片是非常薄而容易損傷的部件，所以在通過手動作業進行金屬掩模片的供給的情況下，在供給時有可能會因人為作業失誤而導致金屬掩模片損傷。
[0006]本發明的目的在於提供一種能夠自動供給金屬掩模片而不使其損傷的金屬掩模片供給系統。
[0007]用於解決課題的方法
[0008]本發明的金屬掩模片供給系統的特徵在於，具備:配置部，配置片盒，其中，金屬掩模片和保護所述金屬掩模片的保護片交替層疊地收納於所述片盒；分離裝置，通過在隔著所述配置部的位置沿所述配置部的延伸方向所設置的至少一對磁浮子，使配置於所述配置部的所述片盒所收納的所述金屬掩模片一張張地分離；以及搬運裝置，保持由所述分離裝置分離的所述金屬掩模片中位於最上部的所述金屬掩模片並搬運給其他裝置。
[0009]另外，本發明的金屬掩模片供給系統的特徵在於，具備廢棄裝置，該廢棄裝置在位於最上部的所述金屬掩模片被搬運之後使所述保護片中位於最上部的保護片移動到規定的廢棄場所。
[0010]另外，本發明的金屬掩模片供給系統的特徵在於，所述搬運裝置具備通過電磁力或真空吸附來保持所述金屬掩模片的保持部。
[0011]另外，本發明的金屬掩模片供給系統的特徵在於，具備移動裝置，該移動裝置在所述分離裝置使所述金屬掩模片一張張地分離時使所述磁浮子接近所述片盒。
[0012]另外，本發明的金屬掩模片供給系統的特徵在於，使用所述金屬掩模片製造的金屬掩模用於有機EL元件、半導體元件、印刷基板以及液晶顯示元件的任一個的製造工序中。
[0013]發明效果
[0014]根據本發明的金屬掩模片供給系統，能夠自動供給金屬掩模片而不使其損傷。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0015]圖1是從上側觀察實施方式的金屬掩模片供給系統的圖。
[0016]圖2是表示實施方式的片盒中所收納的金屬掩模片以及保護片的立體圖。
[0017]圖3是表示實施方式的分離裝置以及使用分離裝置而分離的金屬掩模片的立體圖。
[0018]圖4是表示實施方式的分離裝置以及使用分離裝置而分離的金屬掩模片的圖。
[0019]圖5是表示由實施方式的金屬掩模的製造線所製造的金屬掩模的圖。
【具體實施方式】
[0020]以下，參照附圖，以將金屬掩模片提供給檢查裝置的情況為例來說明本發明的實施方式的金屬掩模片供給系統。
[0021]圖1是從上側觀察實施方式的金屬掩模片供給系統的圖。如圖1所示，金屬掩模片供給系統2具備:具有矩形形狀的平面的盒口 8 ;及將金屬掩模片4搬運給檢查裝置的未圖示的搬運機器人。
[0022]盒口 8具備:沿盒口 8的一邊延伸的矩形形狀的片盒載置空間10 ;利用磁力使金屬掩模片4 一張張地分離的分離裝置12 ;將保護片20 (參照圖2)廢棄的片廢棄機器人14 ；及載置收納被廢棄的保護片20的保護片廢棄盒16的廢棄空間18。
[0023]在此，金屬掩模片4由一方向較長的帶狀的金屬薄板構成，沿長度方向具有多個矩形形狀的開口部4a。另外，金屬掩模片4的厚度為30?70 μ m左右。另外，片盒6如圖2 (a)所示具備長方體形狀的框體6a，在框體6a的內部，如圖2 (b)所示，金屬掩模片4和防止金屬掩模片4的損傷的保護片20交替地層疊。在此，保護片20形成為其長邊方向的長度和短邊方向的寬度分別比金屬掩模片4大Imm左右，以使金屬掩模片4彼此不直接接觸。另外，保護片20由無通氣性的薄膜等部件構成。
[0024]另外，分離裝置12具備隔著片盒載置空間10而彼此相向地配置的磁浮子12a、12b，這些磁浮子12a、12b沿片盒載置空間10的延伸方向配置有多個。
[0025]另外，搬運機器人具備利用電磁力來吸附保持金屬掩模片4的、一方向較長的帶狀的電磁鐵墊(未圖示)。另外，廢棄機器人14具備利用空氣吸附力來吸附保持保護片20的、一方向較長的帶狀的氣墊14a。
[0026]圖3是表示分離裝置12以及使用分離裝置12來分離的金屬掩模片4的立體圖。另外，在圖3中，片盒6的圖示省略。如圖3所示，磁浮子12a在金屬掩模片4所在的一側的面上具備多個沿鉛垂方向延伸的帶狀的磁體21。同樣地，磁浮子12b在金屬掩模片4所在的一側的面上具備多個沿鉛垂方向延伸的帶狀的磁體(未圖示)。因此，金屬掩模片4通過從磁浮子12a所具有的磁體21以及磁浮子12b所具有的磁體作用的磁力而被一張張地分離。另外，關於具體地如何分離金屬掩模片4在後面論述。
[0027]接著，參照附圖，說明使用實施方式的金屬掩模片供給系統2將金屬掩模片4自動提供給檢查裝置的處理。
[0028]首先，如圖1所示，所搬入的片盒6被載置於片盒載置空間10中。此時，磁浮子12a以及磁浮子12b如圖4 (a)所示，退避到磁體的磁力波及不到的退避位置。接著，金屬掩模片供給系統2的未圖示的控制部如圖4 (b)所示，通過未圖示的移動裝置，使磁浮子12a以及磁浮子12b分別向片盒6所在的方向移動，使磁浮子12a、12b接近片盒6。
[0029]若磁浮子12a、12b接近片盒6，則通過磁浮子12a所具有的磁體21以及磁浮子12b所具有的磁體，對重疊地收納於片盒6中的金屬掩模片4作用磁力，使金屬掩模片4磁化。並且，通過磁化作用，金屬掩模片4彼此間磁排斥而分離(參照圖3)，如圖4 (b)所示，一張張地剝離而向鉛垂方向浮起。
[0030]接著，搬運機器人通過未圖示的搬運臂使電磁鐵墊移動到最上部的金屬掩模片4b之上後(參照圖4(b)),對電磁鐵墊通規定的電流而產生電磁力，使金屬掩模片4b吸附於電磁鐵墊上。接著，搬運機器人通過搬運臂14b而使吸附於電磁鐵墊上的金屬掩模片4移動到檢查裝置。金屬掩模片4在從電磁鐵墊被釋放而置於檢查裝置後，接受規定的檢查。
[0031]接著，廢棄機器人14通過臂14b (參照圖1)，使氣墊14a移動到片盒6的內部所殘留的最上部的保護片20之上。接著，使保護片20真空吸附並保持於氣墊14a上，並廢棄於廢棄盒16中。另外，保護片20由無通氣性的部件構成，所以真空吸附時保護片20下側的金屬掩模片不會被吸附。
[0032]金屬掩模片供給系統2反覆進行以上的處理，從而依次將片盒6的內部的金屬掩模片4搬運到檢查裝置中。在檢查裝置中接受規定的檢查，檢查合格的金屬掩模片如圖5所示貼附於金屬掩模框22上，從而製得金屬掩模24。金屬掩模24在有機EL元件的製造工序中進行真空蒸鍍時使用。
[0033]根據該實施方式的金屬掩模片供給系統2，能夠防止供給處理中的人為作業失誤的發生，所以能夠自動供給金屬掩模片而不使其損傷或折彎。另外，通過使供給處理自動化，能夠實現金屬掩模的製造線的全自動化。另外，金屬掩模片4在由保護片20保護的狀態下被收納於片盒6中，所以在搬入片盒6時或將片盒6載置於片盒載置空間10中時等不會因衝擊等而造成損傷。因此，能夠減少因損傷而廢棄的金屬掩模片4的數量。
[0034]另外，由於將多個分離裝置12沿片盒載置空間10的延伸方向配置，所以能夠在磁力作用於金屬掩模片4而使其浮起時不會造成金屬掩模片4扭轉。另外，由於利用電磁力來使金屬掩模片4吸附於電磁鐵墊上，所以即使金屬掩模片4具有開口部4a，也能夠準確地進行保持。
[0035]另外,在上述的實施方式中，以一個盒口 8具有一個片盒載置空間10的情況為例進行了說明，但是一個盒口 8也可以具有多個片盒載置空間10。由此，在金屬掩模的製造線的規模大的情況下，能夠將多個片盒6配置於盒口 8中。
[0036]另外，在上述的實施方式中，也可以是，能夠根據片盒6的寬度來適當調節磁浮子12a以及磁浮子12b的退避位置、接近位置。
[0037]另外，在上述實施方式中，搬運機器人可以具有氣墊來代替電磁鐵墊，從而將金屬掩模片4真空吸附於氣墊上。
[0038]另外，在上述實施方式中，以將金屬掩模片4提供給檢查裝置的情況為例進行了說明，但是金屬掩模片4也可以提供給檢查裝置以外的其他裝置。
[0039]另外，在上述實施方式中，以金屬掩模24用於有機EL元件的製造工序中的情況為例進行了說明，但是金屬掩模24也可以用於半導體元件、印刷基板、液晶顯示元件等的製造工序中。
[0040]附圖標記說明
[0041]2金屬掩模片供給系統
[0042]4金屬掩模片
[0043]6 片盒
[0044]8 盒口
[0045]10片盒載置空間
[0046]12分離裝置
[0047]12a、12b 磁浮子
[0048]14片廢棄機器人
[0049]16保護片廢棄盒
[0050]18廢棄空間
[0051]20保護片
【權利要求】
1.一種金屬掩模片供給系統，其特徵在於，具備: 配置部，配置片盒，其中，金屬掩模片和保護所述金屬掩模片的保護片交替層疊地收納於所述片盒； 分離裝置，通過在隔著所述配置部的位置沿所述配置部的延伸方向所設置的至少一對磁浮子，使配置於所述配置部的所述片盒所收納的所述金屬掩模片一張張地分離；以及 搬運裝置，保持由所述分離裝置分離的所述金屬掩模片中位於最上部的所述金屬掩模片並搬運給其他裝置。
2.根據權利要求1所述的金屬掩模片供給系統，其特徵在於， 具備廢棄裝置，該廢棄裝置在位於最上部的所述金屬掩模片被搬運之後使所述保護片中位於最上部的保護片移動到規定的廢棄場所。
3.根據權利要求1或2所述的金屬掩模片供給系統，其特徵在於， 所述搬運裝置具備通過電磁力或真空吸附來保持所述金屬掩模片的保持部。
4.根據權利要求1?3中任一項所述的金屬掩模片供給系統,其特徵在於， 具備移動裝置，該移動裝置在所述分離裝置使所述金屬掩模片一張張地分離時使所述磁浮子接近所述片盒。
5.根據權利要求1?4中任一項所述的金屬掩模片供給系統,其特徵在於， 使用所述金屬掩模片製造的金屬掩模用於有機EL元件、半導體元件、印刷基板以及液晶顯示元件的任一個的製造工序中。
【文檔編號】B65H3/16GK104139996SQ201310450189
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2013年9月25日 優先權日:2013年5月8日
【發明者】濱砂智訓 申請人:新東超精密有限公司