一種用於運動臺誤差定位誤差校準的方法
2023-06-09 07:53:01
一種用於運動臺誤差定位誤差校準的方法
【專利摘要】本發明公開一種用於運動臺誤差定位誤差校準的方法，其特徵在於，包括：步驟一：利用幹涉儀於第一起始位置以一定步長測量所述運動臺的反射鏡面的面形，獲得第一組面形數據，所述步長為所述幹涉儀的間距；步驟二：重複執行步驟一，每次起始位置與前一次起始位置的間距大於零且小於所述步長，獲得多組面形數據，得到所述運動臺的反射鏡面的完整面形數據，計算面形誤差；步驟三、結合所述面形誤差，採用插值處理所述完整面形數據獲得一面形殘差；步驟四、對所述面形殘差進行濾波獲得一最終面形數據；步驟五、利用所述最終面形數據，在運動臺控制系統進行伺服控制時，提前補償反射鏡面型數據。
【專利說明】一種用於運動臺誤差定位誤差校準的方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種集成電路裝備製造領域，尤其涉及一種用於運動臺誤差定位誤差校準的方法。
【背景技術】
[0002]光刻技術或稱光學刻蝕術，已經被廣泛應用於集成電路製造工藝中。該技術通過光學投影裝置曝光，將設計的掩模圖形轉移到光刻膠上。「掩模」和「光刻膠」的概念在光刻工藝中是公知的:掩模也稱光掩模版，是薄膜、塑料或玻璃等材料的基底上刻有精確定位的各種功能圖形的一種模版，用於對光刻膠層的選擇性曝光；光刻膠是由光敏化合物、基體樹脂和有機溶劑等混合而成的膠狀液體，受到特定波長光線作用後，其化學結構發生變化，使得在某種溶液中的溶解特性改變。
[0003]由於最終決定集成電路的特徵尺寸，光學投影裝置作為集成電路製造工藝中的重要設備，其精度要求對於光刻工藝的重要性不言自明。在曝光過程中，由於承載矽片的工件臺與承載掩模的掩模臺會發生步進或者掃描運動，運動臺的定位精度勢必直接影響曝光於矽片上的圖樣質量。儘管用於運動臺位置測量的反射鏡平面面經過了精密的機械加工、打磨，但是在其表面上仍然不可避免地會存在缺陷。即使是只有幾納米大小的缺陷點，也使光學投影裝置的精度產生相當大的誤差。為儘可能的減少上述誤差，必須在曝光之前對光學平面表面進行掃描測試，得到其表面面形圖像的測量數據，然後對表面缺陷進行修正補償，從而滿足系統的高精度要求。
[0004]美國專利US0179879 Al闡述過利用特殊的幹涉儀系統測量光刻系統中鏡面位置以及測量鏡面不平整度的方法。其所述的幹涉儀包括具備旋轉、傾斜功能的調製器，從而使得幹涉儀信號受調製。該信號經鏡面反射後，即攜帶鏡面不平整度信息，經特定接收器分析，可解調得到鏡面不平整度。然而，上述測量光學平面不平整度的裝置結構較為複雜，且因幹涉儀攜帶調製器和解調器，成本較高。美國專利US05790253公開了一種修正移動鏡面線性誤差的方法。其所述的方法包括:在反射鏡面安裝至運動臺之前，通過特殊的幹涉儀離線測量反射鏡面形誤差；記錄並保存反射鏡面形數據；將反射鏡安裝至運動臺上，作為運動臺定位的雷射幹涉儀系統的反射鏡面；以雷射幹涉儀兩軸的距離d為間距移動運動臺，測量運動臺反射鏡面形離散值；將安裝至運動臺之前測得的反射鏡面形數據與前述離散值組合，可產生用於修正線性誤差的校正數據。使用該方法在光學投影裝置中僅能獲得間距為d的反射鏡面形，周期更小的面形不平整度數據需在集成至光學投影裝置之前藉助其它幹涉儀系統獲得，不能直接在光學投影裝置中獲取運動臺反射鏡面形不平整度的完全數據。
[0005]就此，現有技術中急需要一種新的用於運動臺誤差定位誤差校準的方法。
【發明內容】
[0006]為了克服現有技術中存在的缺陷，本發明提供一種用於運動臺誤差定位誤差校準的方法。該方法能直接在光學投影裝置中獲取運動臺反射鏡面形不平整度的完全數據，並對該數據進行校準。
[0007]為了實現上述發明目的，本發明公開一種用於運動臺誤差定位誤差校準的方法，其特徵在於，包括:步驟一:利用幹涉儀於第一起始位置以一定步長測量所述運動臺的反射鏡面的面形，獲得第一組面形數據，所述步長為所述幹涉儀的間距；步驟二:重複執行步驟一，每次起始位置與前一次起始位置的間距大於零且小於所述步長，獲得多組面形數據，得到所述運動臺的反射鏡面的完整面形數據，計算面形誤差；步驟三、結合所述面形誤差，採用插值處理所述完整面形數據獲得一面形殘差；步驟四、對所述面形殘差進行濾波獲得一最終面形數據；步驟五、利用所述最終面形數據，在運動臺控制系統進行伺服控制時，提前補償反射鏡面型數據。
[0008]更進一步地，面形誤差包括平移誤差和旋轉誤差。
[0009]所述平移誤差y (χ)由以下公式獲得:
【權利要求】
1.一種用於運動臺誤差定位誤差校準的方法，其特徵在於，包括:步驟一:利用幹涉儀於第一起始位置以一定步長測量所述運動臺的反射鏡面的面形，獲得第一組面形數據，所述步長為所述幹涉儀的間距；步驟二:重複執行步驟一，每次起始位置與前一次起始位置的間距大於零且小於所述步長，獲得多組面形數據，得到所述運動臺的反射鏡面的完整面形數據，計算面形誤差；步驟三、結合所述面形誤差，採用插值處理所述完整面形數據獲得一面形殘差；步驟四、對所述面形殘差進行濾波獲得一最終面形數據；步驟五、利用所述最終面形數據，在運動臺控制系統進行伺服控制時，提前補償反射鏡面型數據。
2.如權利要求1所述的用於運動臺誤差定位誤差校準的方法，其特徵在於，所述面形誤差包括平移誤差和旋轉誤差。
3.如權利要求2所述的用於運動臺誤差定位誤差校準的方法，其特徵在於，所述平移誤差y (χ)由以下公式獲得:Y(x)=y2(x)+y3(x)/2其中，
4.如權利要求2所述的用於運動臺誤差定位誤差校準的方法，其特徵在於，所述旋轉誤差Rzy(X)由以下公式獲得Rzy(x)=y2(x)-y3(x)/d其中，
5.如權利要求1所述的用於運動臺誤差定位誤差校準的方法，其特徵在於，所述插值處理的方法為線性樣條插值方法、牛頓插值方法或者斯特林插值方法。
6.如權利要求1所述的用於運動臺誤差定位誤差校準的方法，其特徵在於，所述步驟三具體為採用線性樣條插值方法進行處理，設第i次採樣結果為f (xi)，則經樣條序列S插值後的面形結果為:
7.如權利要求6所述的用於運動臺誤差定位誤差校準的方法，其特徵在於，所述面形殘差即所述樣條插值面形結果與所述完整面形數據的相減之差。
8.如權利要求1所述的用於運動臺誤差定位誤差校準的方用的方法為:`
【文檔編號】G01B11/24GK103453847SQ201210181490
【公開日】2013年12月18日 申請日期:2012年6月5日 優先權日:2012年6月5日
【發明者】毛方林, 李煜芝, 林彬 申請人:上海微電子裝備有限公司