擦拭墊、使用該墊的噴嘴維護裝置和塗覆處理裝置製造方法

2023-06-05 07:15:11

擦拭墊、使用該墊的噴嘴維護裝置和塗覆處理裝置製造方法
【專利摘要】本發明提供一種用於擦拭附著在狹縫噴嘴的噴出口和噴嘴側面的處理液的擦拭墊(49)，其中，該擦拭墊(49)包括：刮除邊(49d1)，其以與上述噴出口的長邊方向交叉、並能夠與上述噴出口和上述噴嘴側面相抵接的方式設置；以及導出路徑(49a)，其用於將由該刮除邊(49d1)刮除的處理液向在沿著噴嘴長邊方向的移動方向上的比上述刮除邊(49d1)靠前側的位置排出，上述導出路徑(49a)是沿著上述移動方向形成於墊上表面(49g)側的V字槽，上述V字槽形成為在上述V字槽的後端緣部形成有上述刮除邊(49d1)且槽寬度和深度隨著自上述刮除邊(49d1)朝向前方去而逐漸變大。
【專利說明】擦拭墊、使用該墊的噴嘴維護裝置和塗覆處理裝置

【技術領域】
[0001] 本發明涉及擦拭墊、使用該墊的噴嘴維護裝置和塗覆處理裝置，尤其涉及用於對 形成有狹縫狀的噴出口且附著有自上述噴出口噴出的處理液的噴嘴頂端實施上述處理液 的擦拭處理的擦拭墊以及使用該墊的噴嘴維護裝置和塗覆處理裝置。
[0002] 本申請基於2012年2月10日提出申請的日本特願2012 - 026822號主張優先權， 並將其內容引入到說明書中。

【背景技術】
[0003] 例如，在FPD(平板顯示器）的製造中，電路圖案的形成通過所謂的光刻工序來進 行。
[0004] 在該光刻工序中，在玻璃基板等被處理基板上成膜規定的膜之後，塗覆作為處理 液的光致抗蝕劑（下面，稱為抗蝕劑或抗蝕劑液），從而形成抗蝕劑膜（感光膜）。然後，與 電路圖案相對應地對上述抗蝕劑膜進行曝光，對該曝光後的抗蝕劑膜進行顯影處理而形成 圖案。
[0005] 在這樣的光刻工序中，作為對被處理基板塗覆抗蝕劑液而形成抗蝕劑膜的方法， 存在從狹縫狀的噴出口帶狀地噴出抗蝕劑液而在基板上塗覆抗蝕劑的方法。
[0006] 利用圖29簡單地對使用該方法的以往的抗蝕劑塗覆裝置進行說明。
[0007] 圖29所示的抗蝕劑塗覆裝置200具有用於載置基板G的載置臺201、配置在該載 置臺201的上方的抗蝕劑供給噴嘴202、以及用於使該噴嘴202移動的噴嘴移動部件203。
[0008] 在噴嘴202上設有具有沿著基板G的寬度方向延伸的微小間隙的狹縫狀的噴出口 202a，使從抗蝕劑液供給源204供給的抗蝕劑液R從噴出口 202a噴出。
[0009] 然而，因為狹縫狀的噴出口 202a由微小的間隙形成，所以如果對進行塗覆處理後 的噴嘴頂端（噴出口 202a)放置不管，則會由於抗蝕劑液的乾燥等而產生堵塞，從而如圖30 所示那樣不能沿噴嘴寬度方向均勻地噴出抗蝕劑液。
[0010] 因此，如圖29所示，抗蝕劑塗覆裝置200具有用於對在塗覆處理後附著在噴嘴頂 端而殘留的抗蝕劑液R的狀態進行調整的啟動加注部件（日文4 $ >夕''手段）208。 [0011] 該啟動加注部件208在對基板G進行塗覆處理之前，向旋轉自如的圓柱形狀的啟 動加注輥207的表面噴出抗蝕劑液R，使附著在噴嘴頂端的抗蝕劑液R均勻化（以下，稱之 為啟動加注處理）。
[0012] 在該結構中，在對基板G進行抗蝕劑塗覆處理時，一邊利用噴嘴移動部件203使噴 嘴202水平移動，一邊從狹縫狀的噴出口 202a將抗蝕劑液R帶狀地噴出到基板G的整個表 面，由此，進行抗蝕劑液R的塗覆處理。
[0013] 另外，在噴嘴202待機時，利用上述啟動加注部件208對噴嘴202進行啟動加注處 理。在該啟動加注處理中，在噴嘴202的噴出口 202a的塗覆方向後側，使均勻的抗蝕劑液 R以珠線狀（日文J 一卜''7 4 >狀）附著在基板寬度方向上的狀態，能夠自接下來的塗覆 處理的開始時起進行均勻的塗覆處理。
[0014] 另外，在專利文獻1中記載有這樣的抗蝕劑塗覆裝置。
[0015] 專利文獻1 :日本專利第4040025號公報


【發明內容】

[0016] 發明要解決的問是頁
[0017] 如上所述，通過在對基板G進行塗覆處理之前對具有沿基板寬度方向延伸的狹縫 狀的噴出口 202a的噴嘴202實施啟動加注處理，能夠調整附著在噴嘴頂端的抗蝕劑液R的 狀態。
[0018] 然而，在上述啟動加注處理中存在如下問題：需要對旋轉的啟動加注輥207的輥 面噴出大量的抗蝕劑液R，從而使抗蝕劑液R的（無謂的）消耗過多。
[0019] 另外，存在如下問題：需要在啟動加注處理後清洗啟動加注輥207,為此，需要大 量存儲在存儲槽209內的清洗液，從而使成本升高。
[0020] 並且，還存在如下問題：啟動加注處理和啟動加注輥207的清洗處理需要較長時 間，生產節拍時間變長，因此使生產率降低。
[0021] 本發明是鑑於上述那樣的現有技術的問題點而做出的，其目的在於，提供擦拭墊、 使用該墊的噴嘴維護裝置以及塗覆處理裝置：在用於對形成有沿被處理基板的寬度方向延 伸的狹縫狀的噴出口且附著有自上述噴出口噴出的處理液的噴嘴頂端實施上述處理液的 擦拭處理的噴嘴維護裝置中，能夠消除處理液等藥液的無謂的消耗且能夠縮短生產節拍時 間並提商生廣率。
[0022] 用於解決問題的方案
[0023] 為了解決上述問題，本發明提供一種擦拭墊，通過使該擦拭墊相對於具有在被處 理基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出口且在上述噴出口的前後兩側平行地延伸的噴 嘴側面形成為朝向噴出口去自上而下逐漸變細的錐形狀的噴嘴自噴嘴長邊方向的一端側 移動到另一端側，從而擦拭附著在上述噴出口和上述噴嘴側面的處理液，其中，上述擦拭墊 包括：刮除邊，其以與上述噴出口的長邊方向交叉、並能夠與上述噴出口和上述噴嘴側面相 抵接的方式設置；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的處理液向在沿著上述噴嘴長 邊方向的移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出，上述導出路徑是沿著上述移動方 向形成於墊上表面側的V字槽，上述V字槽形成為在上述V字槽的後端緣部形成有上述刮 除邊且槽寬度和深度隨著自上述刮除邊朝向前方去而逐漸變大。
[0024] 或者，為了解決上述問題，本發明提供一種擦拭墊，通過使該擦拭墊相對於具有在 被處理基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出口且在上述噴出口的前後兩側平行地延伸 的噴嘴側面形成為朝向噴出口去自上而下逐漸變細的錐形狀的噴嘴自噴嘴長邊方向的一 端側移動到另一端側，從而擦拭附著在上述噴出口和上述噴嘴側面的處理液，其中，上述擦 拭墊包括：刮除邊，其以與上述噴出口的長邊方向交叉、並能夠與上述噴出口和上述噴嘴側 面相抵接的方式設置；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的處理液向在沿著上述噴 嘴長邊方向的移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出，上述刮除邊通過設置於凸緣 部而形成為在俯視時朝向前方去自中央向左右兩側擴展的V字狀，該凸緣部以在上述移動 方向上主視觀察時呈V字狀的方式形成於墊前表面的上部，且該凸緣部設在上述刮除邊的 左右兩側並向前方突出，，由上述擦拭墊的包括上述凸緣部的下表面在內的墊前表面側形 的部分成上述導出路徑。
[0025] 通過如此構成，在對被處理基板進行處理液的塗覆處理後，利用噴嘴刮除邊刮除 附著在噴嘴頂端的多餘的處理液，從而能夠有效地擦拭，而不會使已刮除的處理液向（正 在移動的）擦拭墊的後方流出。
[0026] 其結果，不需要以往那樣的啟動加注輥，並不必為了進行啟動加注處理而向輥面 噴出抗蝕劑液，因此能夠將處理液的消耗抑制得較低。
[0027] 另外，以往的使用啟動加注輥的啟動加注處理相比，能夠大幅短縮噴嘴頂端的維 護處理所需的時間而使生產節拍時間短縮，因此能夠提高生產率。並且，由於不需要啟動加 注輥，因此也不需要在輥的清洗中使用的清洗液，從而能夠大幅降低成本。
[0028] 另外，為了解決上述問題，本發明提供一種噴嘴維護裝置，該噴嘴維護裝置用於對 具有在被處理基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出口且在上述噴出口的前後兩側平行 地延伸的噴嘴側面形成為朝向噴出口去自上而下逐漸變細的錐形狀的噴嘴擦拭附著在上 述噴出口和上述噴嘴側面的處理液，其中，該噴嘴維護裝置包括擦拭墊和墊移動部件，該擦 拭墊具有：刮除邊，其與上述噴出口的長邊方向交叉，並能夠與上述噴出口和上述噴嘴側面 相抵接；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的處理液向在沿著上述噴嘴長邊方向的 移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出，該墊移動部件用於將上述擦拭墊保持在直 立姿勢並使上述擦拭墊沿著上述噴嘴的長邊方向自上述噴嘴的一端移動到另一端，上述擦 拭墊的導出路徑是沿著上述移動方向形成於墊上表面側的V字槽，上述V字槽形成為在上 述V字槽的後端緣部形成有上述刮除邊且槽寬度和深度隨著自上述刮除邊朝向前方去而 逐漸變大。
[0029] 或者，為了解決上述問題，本發明提供一種噴嘴維護裝置，該噴嘴維護裝置用於對 具有在被處理基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出口且在上述噴出口的前後兩側平行 地延伸的噴嘴側面形成為朝向噴出口去自上而下逐漸變細的錐形狀的噴嘴擦拭附著在上 述噴出口和上述噴嘴側面的處理液，其中，該噴嘴維護裝置包括擦拭墊和墊移動部件，該擦 拭墊具有：刮除邊，其與上述噴出口的長邊方向交叉，並能夠與上述噴出口和上述噴嘴側面 相抵接；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的處理液向在沿著上述噴嘴長邊方向的 移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出，該墊移動部件用於將上述擦拭墊保持在直 立姿勢並使上述擦拭墊沿著上述噴嘴的長邊方向自上述噴嘴的一端移動到另一端，上述擦 拭墊的刮除邊通過設置於凸緣部而形成為在俯視時朝向前方去自中央向左右兩側擴展的V 字狀，該凸緣部以在上述移動方向上主視觀察時呈V字狀的方式形成於墊前表面的上部， 且該凸緣部設在上述刮除邊的左右兩側並向前方突出，由上述擦拭墊的包括上述凸緣部的 下表面在內的墊前表面側的部分形成上述導出路徑。
[0030] 通過如此構成，在對被處理基板進行處理液的塗覆處理後，利用噴嘴刮除邊刮除 附著在噴嘴頂端的多餘的處理液，從而能夠有效地擦拭，而不會使已刮除的處理液向（正 在移動的）擦拭墊的後方流出。
[0031] 其結果，不需要以往那樣的啟動加注輥，並不必為了進行啟動加注處理而向輥面 噴出抗蝕劑液，因此能夠將處理液的消耗抑制得較低。
[0032] 另外，與以往的使用啟動加注輥的啟動加注處理相比，能夠大幅短縮噴嘴頂端的 維護處理所需的時間而使生產節拍時間短縮，因此能夠提高生產率。並且，由於不需要啟動 加注輥，因此也不需要在輥的清洗中使用的清洗液，從而能夠大幅降低成本。
[0033] 另外，為了解決上述問題，本發明提供一種塗覆處理裝置，該塗覆處理裝置使用噴 嘴維護裝置，該噴嘴維護裝置用於對具有在被處理基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出 口且在上述噴出口的前後兩側平行地延伸的噴嘴側面形成為朝向噴出口去自上而下逐漸 變細的錐形狀的噴嘴擦拭附著在上述噴出口和上述噴嘴側面的處理液，其中，該噴嘴維護 裝置包括擦拭墊和墊移動部件，該擦拭墊具有：刮除邊，其與上述噴出口的長邊方向交叉， 並能夠與上述噴出口和上述噴嘴側面相抵接；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的 處理液向在沿著上述噴嘴長邊方向的移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出，該墊 移動部件用於將上述擦拭墊保持在直立姿勢並使上述擦拭墊沿著上述噴嘴的長邊方向自 上述噴嘴的一端移動到另一端，上述擦拭墊的導出路徑是沿著上述移動方向形成於墊上表 面側的V字槽，上述V字槽形成為在上述V字槽的後端緣部形成有上述刮除邊且槽寬度和 深度隨著自上述刮除邊朝向前方去而逐漸變大，上述塗覆處理裝置包括：上述噴嘴維護裝 置；上述噴嘴，其用於自沿上述被處理基板的寬度方向延伸的狹縫狀的噴出口向上述被處 理基板的基板面噴出處理液；以及相對移動部件，其用於以使上述噴嘴自上述被處理基板 的一端到另一端地對上述被處理基板的基板面進行掃描的方式使上述噴嘴和上述被處理 基板進行相對移動。
[0034] 通過上述構成，能夠消除處理液等藥液的無謂的消耗且能夠縮短生產節拍時間並 提商生廣率。
[0035] 發明的效果
[0036] 採用本發明，能夠獲得擦拭墊、噴嘴維護裝置以及塗覆處理裝置，在對形成有沿被 處理基板的寬度方向延伸的狹縫狀的噴出口且附著有自上述噴出口噴出的處理液的噴嘴 頂端實施上述處理液的擦拭處理時，能夠消除處理液等藥液的無謂的消耗且能夠縮短生產 節拍時間並提高生產率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0037] 圖1是表示能夠應用本發明的噴嘴維護裝置的抗蝕劑塗覆裝置的一結構例的俯 視圖。
[0038] 圖2是圖1的抗蝕劑塗覆裝置所包括的噴嘴的剖視圖。
[0039] 圖3是圖1的抗蝕劑塗覆裝置所包括的噴嘴的主視圖。
[0040] 圖4是表示圖1的抗蝕劑塗覆裝置所包括的待機部（噴嘴維護裝置）的概略結構 的剖視圖。
[0041] 圖5是圖4的待機部所包括的擦拭部的立體圖。
[0042] 圖6是表示圖5的擦拭部所具有的擦拭墊的第一實施方式的圖，是從擦拭墊的移 動方向前側看擦拭墊的立體圖。
[0043] 圖7是圖6的擦拭墊的俯視圖。
[0044] 圖8是從圖6的擦拭墊的移動方向後側看擦拭墊的立體圖。
[0045] 圖9是將圖6的擦拭墊的局部剖切的立體圖。
[0046] 圖10的（a)?圖10的（c)是以時間序列表示利用圖6的擦拭墊掃描噴嘴頂端的 狀態的噴嘴的主視圖。
[0047] 圖11是表示圖5的擦拭部所具有的擦拭墊的第二實施方式的圖，是從擦拭墊的移 動方向前側看擦拭墊的立體圖。
[0048] 圖12是將圖11的擦拭墊局部剖切的立體圖。
[0049] 圖13是表示圖5的擦拭部所具有的擦拭墊的第三實施方式的圖，是從擦拭墊移動 方向前側看擦拭墊的立體圖。
[0050] 圖14是圖13的擦拭墊的俯視圖。
[0051] 圖15是從圖13的擦拭墊的移動方向後側看擦拭墊的立體圖。
[0052] 圖16是將圖13的擦拭墊局部剖切的立體圖。
[0053] 圖17是表示圖5的擦拭部所具有的擦拭墊的第四實施方式的圖，是從擦拭墊的移 動方向前側看擦拭墊的立體圖。
[0054] 圖18是圖17的擦拭墊的俯視圖。
[0055] 圖19是將圖17的擦拭墊局部剖切的立體圖。
[0056] 圖20是表示圖5的擦拭部所具有的擦拭墊的第五實施方式的俯視圖。
[0057] 圖21是圖20的擦拭墊的主視圖。
[0058] 圖22是圖20的擦拭墊的側視圖。
[0059] 圖23是表示圖5的擦拭部所具有的擦拭墊的第六實施方式的主視圖和噴嘴的側 視圖。
[0060] 圖24是表示利用圖23的擦拭墊擦拭噴嘴頂端之後的狀態下的噴嘴的立體圖。 [0061] 圖25是表示圖5的擦拭部所具有的擦拭墊的第七實施方式的主視圖和噴嘴的側 視圖。
[0062] 圖26是表示利用圖25的擦拭墊擦拭噴嘴頂端之後的狀態下的噴嘴的立體圖。
[0063] 圖27是表示圖5的擦拭部所具有的擦拭墊的第八實施方式的主視圖和噴嘴的側 視圖。
[0064] 圖28是表示利用圖27的擦拭墊擦拭噴嘴頂端之後的狀態下的噴嘴的立體圖。 [0065] 圖29是以往的抗蝕劑塗覆裝置的立體圖。
[0066] 圖30是表示沒有對噴嘴頂端實施啟動加注處理的情況下的噴嘴頂端的狀態的噴 嘴的立體圖。
[0067] 圖31是表示在待機部設有清洗液噴嘴的情形的主視圖。
[0068] 圖32是表示在擦拭墊上設有清洗液供給口的情形的主視圖。

【具體實施方式】
[0069] 下面，根據附圖對本發明的擦拭墊、使用該墊的噴嘴維護裝置和塗覆處理裝置的 一實施方式進行說明。另外，在該實施方式中，以將擦拭墊應用於塗覆處理裝置和噴嘴維護 裝置的情況為例進行說明，在該塗覆處理裝置中，將被處理基板設為玻璃基板，該塗覆處理 裝置用於自噴嘴向該玻璃基板噴出作為處理液的抗蝕劑液而形成抗蝕劑塗覆膜，該噴嘴維 護裝置用於調整附著有抗蝕劑液的上述噴嘴的噴出口的狀態。
[0070] 圖1是表示能夠搭載本發明的噴嘴維護裝置的抗蝕劑塗覆裝置（塗覆處理裝置） 的概略結構的俯視圖。
[0071] 該抗蝕劑塗覆裝置1具有：懸浮載置臺10,其用於利用氣體的壓力使被處理基板、 例如Fro用的玻璃基板G懸浮在空中；基板輸送機構20 (相對移動部件），其用於將在該懸 浮載置臺10之上懸浮的基板G沿載置臺長邊方向（X方向）輸送；噴嘴32,其用於向在懸 浮載置臺10之上輸送的基板G的上表面供給抗蝕劑液；以及待機部42 (噴嘴維護裝置）， 其用於使噴嘴32在塗覆處理的空閒期間待機並實施規定的維護處理。
[0072] 在懸浮載置臺10的上表面上設有用於向上方噴射規定氣體（例如空氣）的多個 氣體噴射口 12,利用自上述氣體噴射口 12噴射的氣體的壓力來使基板G自載置臺上表面懸 浮至恆定的高度。
[0073] 基板輸送機構20包括：一對導軌22A、22B，該一對導軌22A、22B以隔著懸浮載置 臺10的方式沿X方向延伸；一對滑動件24,該一對滑動件24能夠沿著上述導軌22A、22B往 復移動；以及吸附墊等基板保持構件（未圖示），該基板保持構件將基板G的兩側端部以裝 卸自如地保持在懸浮載置臺10之上的方式設於滑動件24。並且，通過利用直進移動機構 (未圖示）使滑動件24沿輸送方向（X方向）移動，從而在懸浮載置臺10之上進行基板G 的懸浮輸送。
[0074] 另外，如圖1?圖3所示，噴嘴32沿與輸送方向（X方向）正交的水平方向（Y方 向）橫跨懸浮載置臺10的上方，自狹縫狀的噴出口 32a向通過噴嘴32的正下方的基板G 的上表面（被處理面）帶狀地噴出抗蝕劑液R。另外，噴嘴32構成為，利用例如包括滾珠絲 槓機構、引導構件等的噴嘴升降機構26,能夠與用於支承該噴嘴32的噴嘴支承構件28-體 地沿鉛垂方向（Z方向）移動的方式升降。另外，噴嘴32經由抗蝕劑供給管30與由抗蝕劑 液容器、送液泵等構成的抗蝕劑供給部（未圖示）相連接。
[0075] 如圖2所示，噴嘴32由沿噴嘴長邊方向（Y方向）平行地延伸的前唇部33F和後 唇部33R構成，噴嘴32使上述一對唇部33F、33R對接並利用螺栓等將上述一對唇部33F、 33R結合成一體而具有狹縫狀的噴出口 32a。
[0076] 與噴嘴32的噴出口 32a平行地延伸的前後兩側的噴嘴側面32f、32r形成為朝向 噴出口 32a去自上而下逐漸變細的錐形狀。
[0077] 另外，在向基板G塗覆抗蝕劑時，不僅噴出口 32a被抗蝕劑液R潤溼，兩側的噴嘴 側面32f、32i的下端部也被抗蝕劑液R潤溼，從而在抗蝕劑塗覆處理結束之後，在噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r的下端部會殘留有抗蝕劑液R的汙漬。
[0078] 如圖1所示，上述待機部42以與噴嘴32相鄰的方式設於懸浮載置臺10的上方。
[0079] 如圖4所示，待機部42在1個殼體44內具有：擦拭部48,作為塗覆處理的預先準 備，該擦拭部48用於擦拭附著在噴嘴頂端（噴出口 32a和其周邊）的抗蝕劑液R ;以及噴 嘴槽50,其用於將被擦拭部48擦拭了多餘的抗蝕劑液R的噴出口 32a保持在溶劑蒸氣的氣 氛中以防止噴出口 32a乾燥。
[0080] 即，噴嘴32在利用擦拭部48進行附著在噴嘴頂端的抗蝕劑液R的擦拭處理後，對 基板G進行塗覆處理，之後，使噴嘴32在噴嘴槽50內待機。
[0081] 在與待機部42的各部48、50相對應地配置噴嘴32時，在控制器（未圖示）的控 制下，通過由例如滾珠絲槓機構構成的X方向移動部54使整個待機部42沿基板輸送方向 (X方向）移動，並利用噴嘴升降機構26使噴嘴32沿鉛垂方向（Z方向）移動。
[0082] 另外，如圖4、圖5所示，上述擦拭部48具有用於擦拭噴嘴32的噴出口周邊的擦拭 墊49。
[0083] 該擦拭墊49沿著噴嘴長邊方向（Y方向）具有例如15mm的厚度，在噴嘴短邊方向 (X方向）上具有例如30mm的橫向寬度。另外，該擦拭墊49具有例如26mm的高度。
[0084] 另外，擦拭墊49在其上表面側上具有沿著噴嘴長邊方向形成的V字槽49a，上述V 字槽49a如圖5所示那樣成為與噴嘴32的噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r的形狀相對應 的形狀。S卩，通過使上述V字槽49a與噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r相卡合且使擦拭墊 49沿噴嘴長邊方向（Y方向）移動，從而擦拭附著在噴嘴頂端的多餘的抗蝕劑液R。
[0085] 另外，擦拭墊49由具有撓性和耐化學藥品性的材質、例如矽橡膠、氟橡膠形成。
[0086] 另外，上述那樣擦拭墊49例如為30mm的橫向寬度尺寸，相對於此，擦拭墊49沿著 其移動方向（Y方向）的厚度形成得較大、例如為15mm。因此，擦拭墊49在沿著噴嘴頂端移 動的過程中不會較大地彎曲，從而能夠防止因彎曲所導致的反作用而產生使抗蝕劑液R飛 散等不良情況。
[0087] 如圖5所示，擦拭墊49以直立姿勢保持在藉助接合構件62與Y方向移動部60 (墊 移動部件）相結合的滑架64上。另外，滑架64能夠利用Y方向移動部60沿著噴出口 32a 的長邊方向移動。Y方向移動部60由例如齒條&小齒輪機構構成，並具有沿Y方向延伸的 齒條66和可動單元68,該可動單元68內置有能在該齒條66上滾動的齒輪（未圖示）。滑 架64在相對於噴嘴32的噴出口周邊部進行對位之後沿擦拭方向（Y方向）移動。
[0088] 接著，使用圖6?圖9說明擦拭墊49的第一實施方式。
[0089] 圖6表示自擦拭墊49的（利用Y方向移動部60進行移動的）移動方向前方側看 擦拭墊49的立體圖，圖7表示其俯視圖。另外，圖8是表示自墊49的（利用Y方向移動部 60進行移動的）移動方向後方側看墊49的立體圖，圖9是表示將墊49的局部剖切的立體 圖。另外，圖6?圖9所不的箭頭表不擦拭塾49利用Y方向移動部60進行移動的移動方 向。
[0090] 如圖6?圖9所示，擦拭墊49在箭頭所示的移動方向側形成有前表面49b，在移 動方向後側形成有後表面49c和傾斜面49d。另外，擦拭墊49在左右兩側分別形成有側面 49e、49f並在上側形成有上表面49g。
[0091] 另外，在V字槽49a中形成有相對的傾斜面49al、49a2,在傾斜面49al、49a2之間 的下端部直線狀地形成有在墊移動方向（Y方向）上為規定長度的底部49a3。
[0092] 另外，如圖6所示，在前表面49b上形成有由V字槽49a的前端緣部形成的V字型 的邊（稱作V字邊）49bl。另外，如圖8所示，在墊後側的傾斜面49d上，作為刮除邊而形成 有由V字槽49a的後端緣部形成的V字型的邊（稱作V字邊）49dl。
[0093] 在利用擦拭墊49進行噴嘴頂端的擦拭動作時，僅上述墊後側的V字邊49dl分別 與噴嘴32的噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r相抵接。其原因在於，墊前側的上述V字邊 49bl的底部的高度尺寸hi (圖6)形成得低於墊後側的上述V字邊49dl的底部的高度尺 寸h2(圖8) ( S卩，V字槽49a的槽深度隨著朝向墊移動方向去而逐漸變深），V字槽49a的 槽寬度也以隨著朝向墊移動方向去而逐漸變寬的方式形成。由此，成為將被作為刮除邊而 發揮作用的墊後側的V字邊49dl刮除的抗蝕劑液R向V字槽49a(導出路徑）內導出且自 墊前側（V字邊49bl側）排出的構造。
[0094] 另外，在圖6?圖9所示的擦拭墊49的第一實施方式中，如圖8、圖9所示，傾斜面 49d與後表面49c (鉛垂面）所成的傾斜角θ 1是45°，V字槽49a的傾斜面49al、49a2與 上述傾斜面49d所成的傾斜角θ 2分別是90°以上（例如98. 794° )。
[0095] 由於如此設定傾斜角Θ 1、Θ2,因此，在擦拭墊49處於直立姿勢下，能夠使擦拭墊 49的V字邊49dl抵接於噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r。另外，由於通過設定上述傾斜角 Θ 2而成為使V字槽49a的槽寬度和深度隨著朝向墊移動方向去而逐漸地變大的形狀，因 此，能夠在（作為刮除邊的）V字邊49dl的前方形成抗蝕劑液R的導出路徑。
[0096] 接著，說明利用該抗蝕劑塗覆裝置1的從塗覆抗蝕劑液到噴嘴32的維護的一系列 的動作。
[0097] 首先，利用上遊的單元將基板G輸入至設定於懸浮載置臺10的前端側的輸入區域 中，由在此處待機的滑動件24接收基板G。在懸浮載置臺10上，基板G受到自氣體噴射口 12噴射的氣體的壓力而以大致水平的姿勢保持懸浮狀態。
[0098] 另一方面，使整個待機部42向噴嘴下方移動而使噴嘴32的在X方向上的位置與 擦拭部48的位置對準，並利用噴嘴升降機構26使噴嘴32進行下降移動。
[0099] 此處，首先，如圖10的（a)所示，使擦拭墊49的V字槽49a在噴嘴32的一端側 成為與噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r相卡合的狀態。此時，成為僅擦拭墊49的V字邊 49dl (刮除邊）抵接於噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r的狀態。
[0100] 接著，使Y方向移動部60工作，按照圖10的（b)、圖10的（c)的順序使擦拭墊49 以規定速度移動（掃描）到噴嘴另一端側。在該移動時，利用墊後側的V字邊49dl刮除噴 嘴頂端（噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r)的抗蝕劑液R並將抗蝕劑液R向該V字槽49a 內導出，並將抗蝕劑液R自墊前側的V字邊49bl側排出。由此，能夠乾淨地擦拭附著在噴 出口 32a和噴嘴側面32f、32i的多餘的抗蝕劑液R。
[0101] 在擦拭部48完成對噴嘴頂端的抗蝕劑液R的擦拭之後，利用噴嘴升降機構26使 噴嘴32上升移動，使待機部42自噴嘴32的正下方位置移動至基板輸送方向上遊側的位 置。
[0102] 接著，利用噴嘴升降機構26使噴嘴32下降，並相對於懸浮載置臺10將噴出口 32a 維持在規定高度。
[0103] 然後，利用基板輸送機構20將基板G以水平姿勢沿輸送方向（X方向）以恆定速 度移動，在基板G通過噴嘴32的正下方的時刻，自噴嘴32以規定的壓力或流量帶狀地向基 板G上噴出抗蝕劑液。
[0104] 由此，如圖2、圖3所示，自基板G的前端側起朝向後端側去形成膜厚均勻的抗蝕劑 液R的塗覆膜。在基板G的後端通過噴嘴32的下方之後，在基板一表面上形成有抗蝕劑塗 覆膜，從而完成了塗覆處理。
[0105] 之後，還利用滑動件24將形成有抗蝕劑塗覆膜的基板G在懸浮載置臺10之上懸 浮輸送，並向比設定於懸浮載置臺10的後側的輸出區域靠下遊的單元輸出。
[0106] 另一方面，利用噴嘴升降機構26使完成塗覆處理後的噴嘴32進行上升移動，使待 機部42向基板輸送方向下遊側移動規定距離而將噴嘴槽50配置於噴嘴32的正下方。然 後，利用噴嘴升降機構26使噴嘴32再次進行下降移動而將噴嘴頂端保持在噴嘴槽50內以 防止噴出口 32a的乾燥，而等待對下一個基板G進行的塗覆處理。
[0107] 如上面那樣，採用本發明的實施的方式，在對基板G進行抗蝕劑液R的塗覆處理之 前，在擦拭部48中，使擦拭墊49的與噴嘴長邊方向交叉的V字邊49dl抵接於噴嘴頂端，並 實施沿噴嘴長邊方向進行掃描的工序。此處，由於在擦拭墊49的、在移動方向上的比上述 V字邊49dl靠前側的位置設有用於將由上述V字邊49dl刮除的抗蝕劑液R排出的V字槽 49a，因此，能夠有效地擦拭，而不會使已刮除的抗蝕劑液R向（正在移動的）擦拭墊49的 後方流出。
[0108] 其結果，不需要以往那樣的啟動加注輥，並不必為了進行啟動加注處理而向輥面 噴出抗蝕劑液，因此能夠將抗蝕劑液R的消耗抑制得較低。
[0109] 另外，與以往的使用了啟動加注輥的啟動加注處理相比，能夠大幅短縮噴嘴頂端 的維護處理所需的時間而使生產節拍時間短縮，因此能夠提高生產率。並且，由於不需要啟 動加注輥，因此也不需要在輥的清洗中使用的清洗液，從而能夠大幅降低成本。
[0110] 另外，在上述實施方式中，在圖6?圖9所示的擦拭墊49的第一實施方式中，如圖 8、圖9所示，使傾斜面49d與後表面49c所成的傾斜角θ 1為45°，使V字槽49a的傾斜面 49al、49a2與傾斜面49d所成的傾斜角Θ2為98. 794°。
[0111] 然而，在本發明的噴嘴維護裝置中，上述傾斜角Θ1、Θ 2的值並不受限定，能夠採 用各種角度的組合。下面，作為具體例而說明擦拭墊49的第二實施方式?第四實施方式。
[0112] 圖11、圖12表示擦拭墊49的第二實施方式，圖11是從擦拭墊49的移動方向後方 側看擦拭墊49的立體圖，圖12是將擦拭墊49局部剖切的立體圖。另外，圖11、圖12所示 的箭頭表示擦拭墊49利用Y方向移動部60進行移動的移動方向。
[0113] 在圖11、圖12所示的擦拭墊49中，傾斜面49d與後表面49c (鉛垂面）所成的傾 斜角θ 1是30°，V字槽49a的傾斜面49al、49a2與傾斜面49d所成的傾斜角Θ 2分別是 90。。
[0114] 即使如此設定上述傾斜角Θ 1、Θ 2,也能夠在擦拭墊49為直立姿勢時使擦拭墊49 的V字邊49dl抵接於噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r。另外，使V字槽49a的槽寬度和深 度隨著朝向墊49的移動方向去逐漸地變大，從而能夠利用V字邊49dl將已刮除的抗蝕劑 液R向V字槽49a(導出路徑）導出並自前方的V字邊49bl側有效地排出已刮除的抗蝕劑 液R。
[0115] 圖13?圖16表示擦拭墊49的第三實施方式，圖13是從擦拭墊49的移動方向前 方側看擦拭墊49的立體圖，圖14是其俯視圖。另外，圖15是從擦拭墊49的移動方向後方 側看擦拭墊49的立體圖，圖16是將墊49局部剖切的立體圖。另外，圖13?圖16所示的 箭頭表示擦拭墊49利用Y方向移動部60進行移動的移動方向。
[0116] 如圖15、圖16所示，在擦拭墊49的第三實施方式中，傾斜面49d與後表面49c所 成的傾斜角θ 1是10°，V字槽49a的傾斜面49al、49a2與傾斜面49d所成的傾斜角Θ 2 分別是75. 674°。
[0117] 即使如此設定上述傾斜角Θ 1、Θ 2,也能夠在擦拭墊49為直立姿勢時使擦拭墊49 的V字邊49dl抵接於噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r。另外，如圖14所示，在為該形狀的 情況下，與為圖6?圖9的形狀的情況相比，V字槽49a的槽寬度變大，另外，V字槽49a的 槽寬度和深度隨著朝向墊49的移動方向去而逐漸地變大，因此，能夠將更多的抗蝕劑液R 向V字槽49a(導出路徑）導出並自前方的V字邊49bl側排出該抗蝕劑液R。
[0118] 圖17?圖19表示擦拭墊49的第四實施方式，圖17是從擦拭墊49的移動方向前 方側看擦拭墊49的立體圖，圖18是其俯視圖。另外，圖19是將擦拭墊49局部剖切的立體 圖。另外，圖17?圖19所不的箭頭表不擦拭塾49利用Y方向移動部60進行移動的移動 方向。
[0119] 如圖17、圖19所示，在擦拭墊49的第四實施方式中，將傾斜面49d與後表面 49c (鉛垂面）所成的傾斜角θ 1增大至60°，使V字槽49a的傾斜面49al、49a2與傾斜面 49d所成的傾斜角Θ 2分別為104. 498°。
[0120] 即使如此設定上述傾斜角Θ 1、Θ 2,也能夠在擦拭墊49為直立姿勢時使擦拭墊49 的V字邊49dl抵接於噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r。另外，當為這樣的形狀時，如圖18 所示，與噴嘴32相抵接的V字邊49dl的上端側延伸到前表面49b，V字槽49a的槽寬度朝 向墊49的移動方向去以扇狀擴展。因此，能夠將由V字邊49dl擦拭下的抗蝕劑液R向V 字槽49a(導出路徑）導出並自前方的V字邊49bl側立即排出該抗蝕劑液R。
[0121] 另外，在上述擦拭墊的第一實施方式?第四實施方式中，構成為以形成於擦拭墊 49的上表面側的V字槽49a作為導出路徑來將由V字邊49dl刮除的抗蝕劑液R排出，但上 述導出路徑並不被限定於墊上表面側。
[0122] 作為具體例，圖20?圖22表不擦拭墊的第五實施方式。該第五實施方式的擦拭墊 在形狀上與上述第一實施方式?第四實施方式擦拭墊有較大不同，因此替代擦拭墊49而 使用擦拭墊70,下面，對其形狀進行說明。
[0123] 圖20是擦拭墊70的俯視圖，圖21是從擦拭墊70的移動方向前方側看擦拭墊70 的主視圖，圖22是其側視圖。另外，圖20、圖22所示的箭頭表示擦拭墊70利用Y方向移動 部60進行移動的移動方向。
[0124] 如圖所示，擦拭墊70在其上表面側具有沿著墊移動方向呈槽狀形成的V字槽70a， 該V字槽70a與噴嘴32的噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r的形狀相對應。具體而言，在V 字槽70a中形成有以大致V字形相對的傾斜面70al、70a2,在上述傾斜面70al、70a2之間的 下端部沿著墊移動方向（Y方向）直線狀地形成有規定長度的底部70a3。
[0125] 另外，擦拭墊70在箭頭所示的墊移動方向的前側形成有前表面70b，在前表面70b 的上部形成有向前方突出的凸緣部70c。另外，在擦拭墊70的移動方向後側形成有後表面 70e，擦拭墊70在左右兩側分別形成有側面70f、70g，在上側形成有上表面70h。上述凸緣 部70c以其上表面與上述上表面70h平齊的狀態突出，在上述凸緣部70c的下表面側形成 有傾斜面70d。
[0126] 另外，由於上述V字槽70a以延伸到凸緣部70c側的方式設置，因此，如圖21所示， 在凸緣部70c上，作為刮除邊而形成有在主視觀察時呈V字狀的邊（稱作V字邊）70dl，該 V字邊70dl如圖20所示那樣成為在俯視時朝向前方去自中央向左右兩側擴展的V字狀。 艮P，僅上述墊前側的V字邊70dl與噴嘴32的噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r相抵接。
[0127] 另外，凸緣部70c的高度（厚度）尺寸形成為與V字槽70a的前緣部的深度尺寸 相等。另外，在該結構中，上述凸緣部70c的下表面側的傾斜面70d和前表面70b作為抗蝕 劑液的導出路徑發揮作用。
[0128] 成為如下構造：在利用如此構成的擦拭墊70來擦拭噴嘴頂端的擦拭動作中，將由 V字邊70dl刮除的抗蝕劑液R自凸緣部70c的下表面側的傾斜面70d向前表面70b導出， 並向下方排出。
[0129] S卩，即使利用這樣的擦拭墊的結構，也能夠實現本發明的目的。
[0130] 另外，在上述擦拭墊的第一實施方式?第五實施方式中，擦拭墊形成為利用擦拭 墊49(70)將附著在噴嘴頂端的抗蝕劑液R全部擦拭的形狀。然而，在本發明的噴嘴維護裝 置中，擦拭墊49(70)的形狀並不限定於此，也可以使擦拭墊49(70)特意為用於將抗蝕劑液 R以珠線狀殘留於噴嘴的特定的部位的形狀。
[0131] 在該情況下，由於殘留有抗蝕劑液R的部位具有溼潤性，因此，在向下一個基板G 噴出抗蝕劑液時，易於將抗蝕劑液R的流動向基板G的方向引導，從而能夠抑制塗覆不均 (日文：塗布斑）。
[0132] 具體說明一下，圖23是表示擦拭墊的第六實施方式的主視圖和噴嘴32的側視圖。 在圖23所示的擦拭墊49 (70)中，在與噴嘴頂端相抵接的V字邊49dl(70dl)的一部分上設 有具有規定的寬度和深度的缺口部80。具體而言，在V字邊49dl(70dl)的與噴出口 32a的 後側相對應的部位設有缺口部80。
[0133] 由此，在使用擦拭墊49(70)掃描噴嘴頂端之後，能夠如圖24所示那樣成為使珠線 狀的抗蝕劑液R僅附著於噴出口 32a的後側的狀態。
[0134] 另外，圖25是表示擦拭墊的第七實施方式的主視圖和噴嘴32的側視圖。在圖25 所示的擦拭墊49(70)中，在與噴嘴頂端相抵接的V字邊49dl(70dl)中的同噴出口 32a相 對應的部位設有規定深度的缺口部81。
[0135] 由此，在使用擦拭墊49 (70)掃描噴嘴頂端之後，能夠如圖26所示那樣成為使抗蝕 劑液R以珠線狀僅附著於噴出口 32a的狀態。
[0136] 另外，圖27是表示擦拭墊的第八實施方式的主視圖和噴嘴32的側視圖。在圖27 所示的擦拭墊49(70)中，在與噴嘴頂端相抵接的V字邊49dl(70dl)中的同噴出口 32a及 其後側相對應的部位設有具有規定寬度和深度的缺口部82。
[0137] 由此，在使用擦拭墊49 (70)掃描噴嘴頂端之後，能夠如圖28所示那樣成為使抗蝕 劑液R以珠線狀僅附著於噴出口 32a和其後側的狀態。
[0138] 另外，在上述實施方式中，以使擦拭墊49 (70)自噴嘴32的一端到另一端沿一方向 進行掃描的情況為例進行了說明，但並不限定於此，例如，也可以是，在一方向上的掃描結 束後，使擦拭墊49(70)的朝向逆轉，並使擦拭墊49(70)沿相反方向進行掃描。或者，也可 以是，設置彼此沿相反方向進行掃描的兩個（多個）擦拭部48,使擦拭墊49 (70)沿著噴嘴 32的長邊方向依次自兩個方向進行掃描。
[0139] 另外，在上述實施方式中，通過使噴嘴32下降移動，從而使噴嘴頂端抵接（按壓） 於擦拭墊49(70)的V字邊49dl(70dl)，但並不限定於此。例如，也可以是，設置用於使擦拭 部48上下移動的機構，使擦拭墊49 (70)相對於噴嘴頂端上升而使V字邊49dl (70dl)抵接 於噴嘴頂端。
[0140] 另外，在上述實施方式中，擦拭墊49 (70)如圖5所示那樣僅保持在滑架64上，但 也可以構成為，例如，擦拭墊49(70)藉助彈性構件（彈簧構件等）保持於滑架64上，利用 彈性構件的彈力將擦拭墊49 (70)的V字邊49dl (70dl)按壓於噴嘴頂端。
[0141] 另外，在上述實施方式中，以在擦拭墊49為直立姿勢時其V字邊49dl能與噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r相抵接的方式設定了擦拭墊49的傾斜角Θ1、Θ 2,但本發明並不 限定於此。
[0142] 例如，由於擦拭墊49具有撓性，因此也可以是，將V字邊49dl的擴展的角度形成 為大於（或者小於）上述實施方式的角度並將噴嘴32按壓於擦拭墊49 (或者將擦拭墊49 按壓於噴嘴32)，從而使V字邊49dl抵接於噴出口 32a和噴嘴側面32f、32r。
[0143] 另外，在上述實施方式中，為這樣的結構：利用基板輸送機構20(相對移動部件） 將基板G相對於固定於基板輸送方向（X方向）的噴嘴32進行輸送，從而使噴嘴32和基板 G成為相對地移動，但本發明並不限定於該結構。
[0144] 例如，也可以是，設成將基板G固定於基板輸送方向的狀態，（利用未圖示的X方 向的移動機構）以使噴嘴32自基板G的一端移動到另一端的方式進行掃描。
[0145] 或者，也可以構成為，（利用未圖示的X方向的移動機構）使噴嘴32相對於沿X方 向輸送的基板G在相反的方向上移動，從而彼此相對地移動。
[0146] 並且，在待機部42中，如圖31所示，也可以設置用於朝向V字槽49a(70a)供給清 洗液的清洗液噴嘴300。在利用擦拭墊49(70)擦拭噴嘴32之前，自清洗液噴嘴300朝向V 字槽49a (70a)供給清洗液。然後，在V字邊49dl (70dl)和V字槽49a (70a)被清洗液潤溼 的狀態下進行噴嘴32的擦拭動作。這樣一來，能夠進一步乾淨地擦拭噴嘴32。另外，還能 夠減少擦拭墊49 (70)的汙漬。
[0147] 此外，如圖32所示，也可以替代清洗液噴嘴300而在擦拭墊49 (70)上設置清洗液 供給口 301。清洗液供給口 301配置於例如V字槽49a (70a)的底部49a3 (70a3)。另外，在擦 拭墊49 (70)的內部設有通向清洗液供給口 301的清洗液供給路徑302。並且，在利用擦拭墊 49(70)擦拭噴嘴32之前，自清洗液供給口 301朝向V字邊49dl(70dl)和V字槽49a(70a) 供給清洗液。於是，在V字邊49dl (70dl)和V字槽49a (70a)被清洗液潤溼的狀態下進行 噴嘴32的擦拭動作。此外，清洗液供給口 301的位置並不限定於上述V字槽49a(70a)的 底部49a3(70a3)。例如，也可以將清洗液供給口 301配置於V字槽49a(70a)的上端部附 近。
[0148] 附圖標記說明
[0149] 1、抗蝕劑塗覆裝置（塗覆處理裝置）；20、基板輸送機構（相對移動部件）；32、噴 嘴；32a、噴出口；32f、噴嘴側面；32r、噴嘴側面；42、待機部（噴嘴維護裝置）；48、擦拭部； 49、擦拭墊；49a、V字槽（導出路徑）；49al、傾斜面；49a2、傾斜面；49a3、底部；49b、前表面； 49c、後表面；49d、傾斜面；49dl、V字邊（刮除邊）；49e、側面；49f、側面；49g、上表面；50、 噴嘴槽；60、Y方向移動部（墊移動部件）；70、擦拭墊；70b、前表面（導出路徑）；70dl、V字 邊（刮除邊）；70c、凸緣部；70d、傾斜面（導出路徑）；80、缺口部；81、缺口部；82、缺口部； 300、清洗液噴嘴；301、清洗液供給口；G、基板（被處理基板）；R、抗蝕劑液（處理液）。
【權利要求】
1. 一種擦拭墊，使該擦拭墊相對於具有在被處理基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴 出口且在上述噴出口的前後兩側平行地延伸的噴嘴側面形成為朝向噴出口去自上而下逐 漸變細的錐形狀的噴嘴自噴嘴長邊方向的一端側移動到另一端側，從而擦拭附著在上述噴 出口和上述噴嘴側面的處理液，其中， 上述擦拭墊包括：刮除邊，其以與上述噴出口的長邊方向交叉、並能夠與上述噴出口和 上述噴嘴側面相抵接的方式設置；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的處理液向在 沿著上述噴嘴長邊方向的移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出， 上述導出路徑是沿著上述移動方向形成於墊上表面側的V字槽，上述V字槽形成為在 上述V字槽的後端緣部形成有上述刮除邊且槽寬度和深度隨著自上述刮除邊朝向前方去 而逐漸變大。
2. -種擦拭墊，使該擦拭墊相對於具有在被處理基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴 出口且在上述噴出口的前後兩側平行地延伸的噴嘴側面形成為朝向噴出口去自上而下逐 漸變細的錐形狀的噴嘴自噴嘴長邊方向的一端側移動到另一端側，從而擦拭附著在上述噴 出口和上述噴嘴側面的處理液，其中， 上述擦拭墊包括：刮除邊，其以與上述噴出口的長邊方向交叉、並能夠與上述噴出口和 上述噴嘴側面相抵接的方式設置；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的處理液向在 沿著上述噴嘴長邊方向的移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出， 通過設置有這樣的凸緣部而使上述刮除邊形成為在俯視時朝向前方去自中央向左右 兩側擴展的V字狀：該凸緣部以在上述移動方向上主視觀察時呈V字狀的方式形成於墊前 表面的上部，且該凸緣部在上述刮除邊的左右兩側向前方突出， 由上述擦拭墊的包括上述凸緣部的下表面在內的靠墊前表面側的部分形成上述導出 路徑。
3. 根據權利要求1所述的擦拭墊，其中， 在上述刮除邊的規定部位設有具有規定的寬度和深度的缺口部。
4. 根據權利要求2所述的擦拭墊，其中， 在上述刮除邊的規定部位設有具有規定的寬度和深度的缺口部。
5. 根據權利要求1所述的擦拭墊，其中， 在上述V字槽上設有用於向上述刮除邊和上述V字槽供給清洗液的供給口。
6. -種噴嘴維護裝置，該噴嘴維護裝置用於對具有在被處理基板的寬度方向上較長 的狹縫狀的噴出口且在上述噴出口的前後兩側平行地延伸的噴嘴側面形成為朝向噴出口 去自上而下逐漸變細的錐形狀的噴嘴擦拭附著在上述噴出口和上述噴嘴側面的處理液，其 中， 該噴嘴維護裝置包括擦拭墊和墊移動部件， 該擦拭墊具有：刮除邊，其與上述噴出口的長邊方向交叉，並能夠與上述噴出口和上述 噴嘴側面相抵接；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的處理液向在沿著上述噴嘴長 邊方向的移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出， 該墊移動部件用於將上述擦拭墊保持在直立姿勢並使上述擦拭墊沿著上述噴嘴的長 邊方向自上述噴嘴的一端移動到另一端， 上述擦拭墊的導出路徑是沿著上述移動方向形成於墊上表面側的V字槽，上述V字槽 形成為在上述V字槽的後端緣部形成有上述刮除邊且槽寬度和深度隨著自上述刮除邊朝 向前方去而逐漸變大。
7. -種噴嘴維護裝置，該噴嘴維護裝置用於對具有在被處理基板的寬度方向上較長 的狹縫狀的噴出口且在上述噴出口的前後兩側平行地延伸的噴嘴側面形成為朝向噴出口 去自上而下逐漸變細的錐形狀的噴嘴擦拭附著在上述噴出口和上述噴嘴側面的處理液，其 中， 該噴嘴維護裝置包括擦拭墊和墊移動部件， 該擦拭墊具有：刮除邊，其與上述噴出口的長邊方向交叉，並能夠與上述噴出口和上述 噴嘴側面相抵接；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的處理液向在沿著上述噴嘴長 邊方向的移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出， 該墊移動部件用於將上述擦拭墊保持在直立姿勢並使上述擦拭墊沿著上述噴嘴的長 邊方向自上述噴嘴的一端移動到另一端， 通過設置有這樣的凸緣部而使上述擦拭墊的刮除邊形成為在俯視時朝向前方去自中 央向左右兩側擴展的V字狀：該凸緣部以在上述移動方向上主視觀察時呈V字狀的方式形 成於墊前表面的上部，且該凸緣部在上述刮除邊的左右兩側向前方突出， 由上述擦拭墊的包括上述凸緣部的下表面在內的墊前表面側的部分形成上述導出路 徑。
8. 根據權利要求6所述的噴嘴維護裝置，其中， 在上述刮除邊的規定部位設有具有規定的寬度和深度的缺口部。
9. 根據權利要求7所述的噴嘴維護裝置，其中， 在上述刮除邊的規定部位設有具有規定的寬度和深度的缺口部。
10. 根據權利要求6所述的噴嘴維護裝置，其中， 該噴嘴維護裝置具有噴嘴槽，該噴嘴槽以能夠配置於上述噴嘴的正下方的方式設置， 用於將被上述擦拭墊擦拭了處理液的上述噴嘴的噴出口和噴嘴側面保持在溶劑蒸氣的氣 氛中。
11. 根據權利要求6所述的噴嘴維護裝置，其中， 該噴嘴維護裝置包括用於向上述刮除邊和上述V字槽供給清洗液的噴嘴。
12. 根據權利要求6所述的噴嘴維護裝置，其中， 在上述V字槽上設有用於向上述刮除邊和上述V字槽供給清洗液的供給口。
13. -種塗覆處理裝置，該塗覆處理裝置使用噴嘴維護裝置，該噴嘴維護裝置用於對具 有在被處理基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出口且在上述噴出口的前後兩側平行地 延伸的噴嘴側面形成為形成有朝向噴出口去自上而下逐漸變細的錐形狀的噴嘴擦拭附著 在上述噴出口和上述噴嘴側面的處理液，其中， 該噴嘴維護裝置包括擦拭墊和墊移動部件， 該擦拭墊具有：刮除邊，其與上述噴出口的長邊方向交叉，並能夠與上述噴出口和上述 噴嘴側面相抵接；以及導出路徑，其用於將由該刮除邊刮除的處理液向在沿著上述噴嘴長 邊方向的移動方向上的比上述刮除邊靠前側的位置排出， 該墊移動部件用於將上述擦拭墊保持在直立姿勢並使上述擦拭墊沿著上述噴嘴的長 邊方向自上述噴嘴的一端移動到另一端， 上述擦拭墊的導出路徑是沿著上述移動方向形成於墊上表面側的V字槽，上述V字槽 形成為在上述V字槽的後端緣部形成有上述刮除邊且槽寬度和深度隨著自上述刮除邊朝 向前方去而逐漸變大， 上述塗覆處理裝置包括： 上述噴嘴維護裝置； 上述噴嘴，其用於自沿上述被處理基板的寬度方向延伸的狹縫狀的噴出口向上述被處 理基板的基板面噴出處理液；以及 相對移動部件，其用於以使上述噴嘴自上述被處理基板的一端到另一端地對上述被處 理基板的基板面進行掃描的方式使上述噴嘴和上述被處理基板進行相對移動。
【文檔編號】B05C11/10GK104106125SQ201380008842
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2013年1月17日 優先權日:2012年2月10日
【發明者】稻益壽史, 小笠原幸雄, 田代佳 申請人:東京毅力科創株式會社