轉印膜結構的製作方法

2023-09-23 02:59:10 1

專利名稱：轉印膜結構的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種轉印膜結構，尤其是涉及一種在飾紋層與黏著膜層之間設有硬化 膜層的轉印膜結構。
背景技術：
隨著人們對生活品質的提高，產品外觀的設計成為了影響消費行為的重要因素， 具備獨特構圖設計與時尚質感的產品往往自能夠得到較多青睞。模內裝飾(IMD，In-mold decoration)是一項新型塑料加工技術，是將上面印有裝飾圖紋的轉印膜定位在射出機的 模具內，在塑料製品射出成形的同時，進行圖紋轉印，完成殼體外觀裝飾。相對於傳統噴塗、 印刷、電鍍等加工方式，模內裝飾技術可配合製品批量生產，連續完成圖紋轉印，可疑簡化 生產步驟、縮短製程時間，已廣泛應用於電子裝置、家用電器等諸多領域。圖1為現有技術的轉印膜結構的剖面示意圖，圖2為圖1的轉印膜結構的應用狀 態的剖面示意圖。如圖所示，轉印膜結構10包括一基底薄膜層11以及上方次序堆棧形成的 一離型層12、一硬化膜層13、一飾紋層14以及一黏著膜層15。基底薄膜層11可為塑料、金 屬或纖維繫薄膜，用以提供表面平坦且不易變形的基材，以便於後續塗布與印刷等加工。離 型層12設置於基底薄膜層11表面上方，用以輔助基底薄膜層11離型。硬化膜層13設置 於離型層12表面上，由樹脂溶液乾燥形成，為具有高硬度的保護層。飾紋層14設置於硬化 膜層13表面上，是由印刷形成的油墨裝飾圖紋。黏著膜層15設置於飾紋層14表面上方。 轉印時，提供一定的製程條件(例如預定溫度值)，使黏著膜層15緊密黏著於物品20表 面，從而將轉印膜10結合於物品20。最後，借著離型層12將基底薄膜層11撕離，即完成圖 紋轉印。但是，在實際應用中，轉印膜結構10中，黏著膜層15的膠水極易向下滲入飾紋層 14，致使油墨圖紋受到破壞，成為不良品。具有瑕疵的轉印膜假如沒有被檢出剔除，進一步 流入後端製程，則將導致更多的物料損失。而且，若射出成型條件改變，導致轉印膜的結構 強度不夠，極易出現油墨層破壞。

發明內容
為解決現有技術的不足，本發明的目的在於提供一種可阻擋黏著膜層的膠水滲入 飾紋層，以防止油墨圖紋遭受破壞，而且可加強膜層結構強度，從而提升轉印膜製程合格率 的轉印膜結構。為解決上述技術問題，本發明是通過採用的技術方案來實現的。一種轉印膜結構，其特徵在於包括一基底薄膜層；一離型層，設置於該基底薄膜層 的上表面；一第一硬化膜層，設置於該離型層的上表面；一飾絞層，設置於該第一硬化膜層 的上表面；一第二硬化膜層，設置於該飾紋層的上表面；以及一黏著膜層，設置於該第二硬 化膜層的上表面。前述的轉印膜結構，其特徵在於該飾紋層包括一油墨層，該油墨層設置於該第一 硬化膜層的上表面。
前述的轉印膜結構，其特徵在於該飾紋層包括一油墨層以及一金屬薄膜層，該油 墨層設置於該第一硬化膜層的上表面，該金屬薄膜層設置於該油墨層的上表面。前述的轉印膜結構，其特徵在於該第一硬化膜層以及該第二硬化膜層的厚度為3 微米至60微米。前述的轉印膜結構，其特徵在於該第一硬化膜層以及該第二硬化膜層的材料為聚 胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹 脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚碸系 樹脂、聚碸系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂以及異氰酸酯中的一種。前述的轉印膜結構，其特徵在於該基底薄膜層為高分子聚合物基材、金屬薄膜基 材以及纖維繫薄膜中的一種。前述的轉印膜結構，其特徵在於該高分子聚合物的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯 系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一種。前述的轉印膜結構，其特徵在於該纖維素系薄膜為一玻璃紙或一塗布紙或一賽珞 凡或為玻璃紙、塗布紙及賽珞凡組成的一種薄膜。本發明的有益效果是與現有技術相比，本發明在飾紋層與黏著膜層之間設置第 二硬化膜層，可阻擋黏著膜層的膠水滲入飾紋層，以防止油墨圖紋遭受破壞，且加強膜層結 構強度，從而達到提升轉印膜製程良率功效。


圖1為現有技術的轉印膜結構的剖面示意圖。圖2為圖1的轉印膜結構的應用狀態的剖面示意圖。圖3為本發明的轉印膜結構的第一具體實施例的剖面示意圖。圖4為本發明的轉印膜結構的第二具體實施例的剖面示意圖。附圖中主要標記含義說明如下，10、30、40 轉印膜結構，11、31、41 基底薄膜層， 12、32、42 離型層，13 硬化膜層，14、；34、44 飾紋層，15、36、46 黏著膜層，20 物品，33、 43 第一硬化膜層，340、440 油墨層，35、45 第二硬化膜層，441 金屬薄膜層。
具體實施例方式以下結合附圖和具體實施例對本發明作具體的介紹。本發明提出一種轉印膜結構，旨在防止黏著膜層的膠水滲入飾紋層，以保持油墨 裝飾圖紋的完整性，且加強膜層結構強度。圖3為本發明的轉印膜結構的第一具體實施例的剖面示意圖。如圖所示，轉印膜 結構30包括一基底薄膜層31、一離型層32、一第一硬化膜層33、一飾紋層34、一第二硬化 膜層35以及一黏著膜層36。其中，離型層32設置於基底薄膜層31的上表面，第一硬化膜 層33設置於離型層32的上表面，飾紋層34設置於第一硬化膜層33的上表面，第二硬化膜 層35設置於飾紋層34的上表面，黏著膜層36設置於第二硬化膜層35的上表面。基底薄膜層31作為後續塗布與印刷等加工的基材，所以應具備高平坦度且不易 變形，可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、 聚氯乙烯系樹脂等高分子聚合物基材，或選用鋁箔、銅箔等金屬薄膜基材，亦可選用玻璃紙、塗布紙、賽珞凡等纖維繫薄膜，或上述薄膜組成的複合基材。基底薄膜層31的厚度約為 5微米(μ m)至300微米〔μ m)可
為片狀結構，也可以是連續進行塗布及印刷工序的大面積卷裝結構。離型層32用來輔助基底薄膜層31離型，由塗布設備將原料溶液塗布於基底薄膜 層31表面上方，經過加熱乾燥或紫外線照射固化而形成，可選用聚矽氧烷系樹脂、三聚氰 胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠系樹脂、聚胺 基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共 聚物系樹脂等材料，並根據材料種類，採取適當的固化方式。離型層32的厚度約為0. 5微 米(μ m)至40微米(μ m)。第一硬化膜層33是具有高硬度的保護層，由塗布設備將原料溶液塗布於離型層 32表面上方，經過固化形成，可選用聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹 脂、聚醯胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞 胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯 氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。第一硬化膜層33的厚度約為3微米(μ m)至60微米(|1 m)。飾紋層34包括一油墨層340，採用網版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印刷方式 製作形成，提供油墨裝飾圖紋，印刷原料一般可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚丙烯 酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系樹脂、纖維素酯系 樹脂、醇酸樹脂等樹脂為結合劑加上顏料混合製得。第二硬化膜層35是另一個具有高硬度的保護層，由塗布設備將原料溶液塗布於 油墨層340表面上方，經過固化形成。第二硬化膜層35的材料選用與厚度範圍與第一硬化 膜層33相同，在此不再多作贅述。黏著膜層36可選用聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚 醯胺系樹脂等材料，由塗布設備將原料溶液塗布於第二硬化膜層35表面上方，經過乾燥形 成。黏著膜層36的厚度約為3微米(μ m)至50微米(μ m)本發明的主要特點在於在飾紋層34與黏著膜層36之間增設第二硬化膜層35，用 來阻擋黏著膜層36的膠水向下滲漏，以防止飾紋層34的油墨圖紋遭受破壞，同時可強化膜 層結構強度。圖4是本發明的轉印膜結構的第二具體實施例的剖面示意圖。在本實施例中，轉 印膜結構40包括一基底薄膜層41，以及上方次序疊置的一離型層42、一第一硬化膜層43、 一飾紋層44、一第二硬化膜層45與一黏著膜層46，其中飾紋層44包括一油墨層440以及 一金屬薄膜層441。油墨層440設置於第一硬化膜層43的上表面，金屬薄膜層441則設置 於油墨層440的上表面。第二硬化膜層45設置於金屬薄膜層441與黏著膜層46之間，以 阻擋黏著膜層46的膠水向下』滲漏，且加強膜層結構強度。綜上所述，本發明的轉印膜結構在飾紋層與黏著膜層之間設置一第二硬化膜層， 可以有效阻擋黏著膜層的膠水滲入飾紋層，防止油墨圖紋遭受破壞，保持裝飾圖案的完整 性，同時可疑加強膜層結構強度，從而達到提升轉印膜製程合格率的功效。上述實施例不以任何形式限制本發明，凡採用等同替換或等效變換的方式所獲得 的技術方案，均落在本發明的保護範圍內。
權利要求
1.轉印膜結構，其特徵在於包括一基底薄膜層；一離型層，設置於該基底薄膜層的上 表面；一第一硬化膜層，設置於該離型層的上表面；一飾絞層，設置於該第一硬化膜層的上 表面；一第二硬化膜層，設置於該飾紋層的上表面；以及一黏著膜層，設置於該第二硬化膜 層的上表面。
2.根據權利要求1所述的轉印膜結構，其特徵在於該飾紋層包括一油墨層，該油墨層 設置於該第一硬化膜層的上表面。
3.根據權利要求1所述的轉印膜結構，其特徵在於該飾紋層包括一油墨層以及一金屬 薄膜層，該油墨層設置於該第一硬化膜層的上表面，該金屬薄膜層設置於該油墨層的上表
4.根據權利要求1所述的轉印膜結構，其特徵在於該第一硬化膜層以及該第二硬化膜 層的厚度為3微米至60微米。
5.根據權利要求1所述的轉印膜結構，其特徵在於該第一硬化膜層以及該第二硬化膜 層的材料為聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醋酸 纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹 脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂以及異氰酸 酯中的一種。
6.根據權利要求1所述的轉印膜結構，其特徵在於該基底薄膜層為高分子聚合物基 材、金屬薄膜基材以及纖維繫薄膜中的一種。
7.根據權利要求6所述的轉印膜結構，其特徵在於該高分子聚合物的材料為聚乙烯系 樹脂、聚丙烯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一 種。
8.根據權利要求6所述的轉印膜結構，其特徵在於該纖維素系薄膜為一玻璃紙或一塗 布紙或一賽珞凡或為玻璃紙、塗布紙及賽珞凡組成的一種薄膜。
全文摘要
本發明涉及一種轉印膜結構，其特徵在於包括一基底薄膜層；一離型層，設置於該基底薄膜層的上表面；一第一硬化膜層，設置於該離型層的上表面；一飾絞層，設置於該第一硬化膜層的上表面；一第二硬化膜層，設置於該飾紋層的上表面；以及一黏著膜層，設置於該第二硬化膜層的上表面。本發明在飾紋層和黏著膜層之間增設第二硬化膜層，第二硬化膜層將可阻擋黏著膜層的膠水滲入飾紋層，以防止油墨圖紋遭受破壞，並可同時強化膜層結構強度，從而達到提升轉印膜製程合格率的功效。
文檔編號B41M5/00GK102059871SQ2010105531
公開日2011年5月18日 申請日期2010年11月22日 優先權日2010年11月22日
發明者曾水泉 申請人:琨詰電子(崑山)有限公司