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用於減輕電動機控制設備中的電弧閃光入射能量的方法和設備的製作方法

2023-09-16 12:04:25

用於減輕電動機控制設備中的電弧閃光入射能量的方法和設備的製作方法
【專利摘要】本發明提供工業電動機控制設備及技術以減輕與內部燃弧關聯的入射能量。外罩內表面和/或電部件的表面設置有紋理和/或塗層,其關於可見光和/或紅外光可以是非反射的,以重定向或吸收與內部燃弧狀況關聯的入射能量。還布置電部件以充分地最小化後壁暴露百分比,並且填充材料和/或瓦片結構可以被安裝在外罩內,其可以是非反射的和/或具有紋理化表面或塗層,以減輕入射燃弧能量。此外,擋板或隔板可以被設置在外罩內,以重定向或吸收來自內部燃弧的入射能量。
【專利說明】用於減輕電動機控制設備中的電弧閃光入射能量的方法和 設備
[0001] 相關申請的交叉引用
[0002] 於 2012 年 4 月 6 日提交的題目為 METHODS AND APPARATUS FOR MITIGATING ARC FLASH INCIDENT ENERGY IN MOTOR CONTROL DEVICES 的美國臨時專利申請61/621,127 號, 以及於2013年4月 4 日提交的題目為METHODS AND APPARATUS FOR MITIGATING ARC FLASH INCIDENT ENERGY IN MOTOR CONTROL DEVICES 的美國專利申請 13/856, 571 號,通過引用被 合併到本文中。

【背景技術】
[0003] 電動機控制中心(MCC)提供用於操作電動機和相關的控制操作的全封閉或部分 封閉的設備。工業控制設備類似地包括被容納在外罩內的電部件。於是,這些設備和系統 具有連接到電源的內部部件。當電源線短路或發生其它電氣故障狀況時,可以產生電燃弧, 於是對用於減輕燃弧狀況的不利影響的改進的MCC和技術有著持續的需求。


【發明內容】

[0004] 現總結本公開內容的各個方面以利於本公開內容的基本理解,其中該總結不是本 公開內容的詳盡的概述,且既不意在確定本公開內容的某些元素,也不意在界定其範圍。相 反地,該總結的主要目的是在下文提供更詳細的描述之前,先以簡化形式提供本公開內容 的各種構思。
[0005] 本公開內容提供工業控制或電動機控制設備及技術,利用這些工業控制或電動機 控制設備及技術可以減輕內部燃弧狀況的不利影響。該設備包括具有內部的外罩,在該內 部中安裝一個或更多個電部件。在這一點上,在這裡公開的構思和技術具有與任何合適的 部件定位隔室,或外罩內的內部空間相關的實用性,例如在有電源總線條位於其中的總線 隔室中,外罩內的電線槽等,其中總線條和布線是和這裡所使用的部件。根據本公開內容的 某些方面,一個或更多個外罩壁的一個或更多個內表面的全部或部分是紋理化的或者具備 塗層,以重定向或吸收與內部燃弧狀況關聯的入射能量。在某些實施方式中,該紋理化表面 或塗層關於可見光和/或紅外光是非反射的。此外,在某些實施方式中,外罩內的一個或更 多個電部件具備紋理化表面和/或塗層,其可以是非反射的。在某些實施方式中,在外罩內 可以安裝一個或更多個瓦片結構,其具有用於入射燃弧能量的重定向和/或吸收的紋理化 表面和/或塗層,並且瓦片可以具有非反射表面。填充材料可以被安裝在外罩內部中以重 定向或吸收入射燃弧能量,且該填充材料關於可見光和紅外光可以是非反射的。在外罩內 可以安裝一個或更多個擋板或隔板,以重定向或吸收入射燃弧能量,其中該擋板或隔板可 以具有用於重定向或吸收入射燃弧能量的紋理化表面或塗層,且該隔板可以是非反射的。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0006] 以下描述和附圖詳細地闡述本公開內容的某些說明性的實現,其表示若干示例性 方式,採用該方式可以實施本公開內容的各種原理。然而,所說明的例子不是窮舉本公開內 容的多個可能的實施方式。結合對附圖的考慮,將在以下【具體實施方式】中闡述本公開內容 的其它目的、優點和新特徵,在附圖中:
[0007] 圖1是正視圖,其圖解根據本公開內容的一個或更多個方面的具有多個部件的示 例性MCC單元的內部;
[0008] 圖2是局部截面側視圖,其圖解根據本公開內容的一個或更多個方面的具有紋理 化內表面的外罩壁或系統部件的示例性的部分;
[0009] 圖3是局部截面側視圖,其圖解根據本公開內容的具有不同的紋理化內表面的另 一種外罩壁或系統部件的不例性的部分;
[0010] 圖4是局部截面側視圖,其圖解外罩壁或系統部件的另一個示例性的部分,該外 罩壁或系統部件具有塗層,以重定向或吸收與MCC單元中的內部燃弧狀況關聯的入射能 量;
[0011] 圖5是正視圖,其圖解根據本公開內容另外的方面的示例性的MCC單元的內部,該 示例性的MCC單元具有安置在外罩壁的各部分上的多個部件和瓦片結構,以重定向和/或 吸收入射燃弧能量;
[0012] 圖6是局部截面側視圖,其圖解圖5的MCC單元中示例性的瓦片結構;
[0013] 圖7是局部側剖視圖,其圖解圖5的MCC單元中具有紋理化表面的另一個示例性 的瓦片結構;
[0014] 圖8是正視圖,其圖解根據本公開內容的另一個示例性的MCC單元的內部,該示例 性的MCC單元包括被安裝到後壁的各部分上的填充材料,以重定向和/或吸收入射電弧能 量;以及
[0015] 圖9是正視圖,其圖解又一個示例性的MCC單元的內部,該示例性的MCC單元包括 一個或更多個擋板或隔板,以重定向或吸收與外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量。

【具體實施方式】
[0016] 現參照各圖,在下文中結合附圖描述若干實施方式或實現,其中相似的附圖標記 始終用於指代相似的元件,並且其中各特徵未必按比例繪製。
[0017] 如同在這裡充分闡述一樣,將以下參考文獻通過引用合併到本文中,:[1] Heberleinj G. E. , Jr. ;Higgins, J. A. ;Epperly, R. A. "'Report on enclosure internal arcing tests"; IEEE Industry Applications Magaz ine ; VoIume:2,Issue :3 ; Publ i cat ion Year: 1996 ;Page (s) : 35-42 ; [2] IEEE website : http : // ieeexplore. ieee. org/Xplore/dynhome. jsp ; [3]Das, J. C. "'Protection Planning and System Design to Reduce Arc Flash Incident Energy in a Multi-Voltage-Level Distribution System to 8 cal/cm2 (HRC 2) or Less-Part I :Methodology" ; IEEE Transactions on Industry Applications ;VoIume:47, Issue: I ;PubIication Year:2011 ;Page(s) :398-407 ;[4]Das,J.C. ,Protection Planning and System Design to Reduce Arc-Flash Incident Energy in a Multi-Voltage-Level Distribution System to 8cal/cm2 (HRC 2) or Less-Part II : Analysis,'; IEEE Transactions on Industry Applications ;Volume:47, Issue :1 ; Pub Ii cat ion Year :2011 ; Page (s):408-420 ; [5]Brown,W.A.and Shapiro,R. ;uIncident energy reduction techniques: A comparison using low-voltage power circuit breakers,'; IEEE Industry Applications Magazine : Volume :15, Issue :3 ;PubIication Year:2009 ; Page (s) : 53-61 ; [6] Sutherland,P. E. ;iiArc Flash and Coordination Study Conflict in an Older Industrial Plant" ;IEEE Transactions on Industry Applications ;Volume:45, Issue:2 ;Publication Year :2009 ;Page (s) :569-574 ;
[7] Bugaris, R. M. and Rollayj D. T. ;"Arc_Resistant Equipment,';IEEE Industry Applications Magazine ;Volume:17, Issue:4 ;Publication Year:2011,Page(s):62-70 ;
[8] IEC/TR 61641:2008,Enclosed low-voltage switchgear and controlgear assemblies - Guide for testing under conditions or arcing due to internal fault, Geneva, Switzerland:IEC ; [9]IEEE C37. 20. 7-2007, IEEE Guide for Testing Metal-Enclosed Switchgear Rated Up to 38kV for Internal Arcing Faults, New York,NY: IEEE ; [10]IEEE P1683,Guide for Specifying Motor Control Centers Rated Up To 600V AC or 1000V DC With Features Intended to Reduce Electrical Hazards While Performing Defined OperationsjNew York, NY: IEEE ; [11] IEEE 1584-2002 iiGuide for Performing Arc-Flash Hazards Calculations" ; [12]Cohen,M. and Doner, J. P.; "Final Report - Infrared Reflectance Spectra for Selected Paint Pigments" ;CCL Report No. 293, US Army Aberdeen Research and Development Center, Coating and Chemical Laboratory, National Technical Information Service,July 1971 ;[13] Stokes, A. D. ;Sweeting, D. K. "'Electric arcing burn hazards",IEEE Transactions on IndustryApplicationsj Volume:42, Issue: I, Page (s) : 134-141 ;and[14]Lang, M. J.; Jones,K. S. ;Neal, T. E. Impact of Arc Flash Events With Outward Convective Flows on Worker Protection Strategies",IEEE Transactions on Industry Applications,V olume:47,Issue:4, Page(s):1597-1604.
[0018] 發明人已評估了在發生燃弧故障時不同的低電壓電動機控制中心(MCC)單元結 構如何與入射能量輻照相聯繫,並分析了若干變量,這些變量包括單元類型、單元尺寸、單 元的填充百分比、電源線尺寸和長度、結構內單元位置、以及它們的與入射能量及燃弧持續 時間和燃弧電流的關係。在所分析的變量中,觀察到在燃弧事件期間測量的入射能量的大 小與單元內的部件的填充百分比以及單元內表面的性質有關。在不希望受任何特定理論約 束的情況下,據信其它因素可以影響入射能量輻照。例如,MCC單元或桶(bucket)的容納 物容器的內含物可以影響入射能量。已評估了包括單元類型、單元尺寸、填充百分比、電源 線尺寸和長度、結構內單元位置的各種設計構造變量,並且相信這些變量中的某些顯著影 響電弧閃光能量結果。使用那些設計因素,在下面公開了設備和技術,以幫助減少MCC和工 業控制設備的電弧閃光危害輻照。
[0019] 單元內非反射的填充材料或瓦片或塗層或紋理化的添加能夠促進電弧閃光邊界 內的入射能量的量的減少。填充材料像海綿一樣起作用,在電弧能量被引導到單元的外面 之前將其吸收。此外,被有策略地放置的擋板和隔板的使用,或者所安裝部件的更複雜的 幾何結構,能夠幫助阻礙能量路徑、重定向和/或吸收能量,使得減小了到達空隙的最終能 量。本公開內容因而通過減小潛在入射能量輻照的單元和外罩設計以及版面布局而利於這 一目標。此外,在關於內部燃弧故障狀況確定"最壞情況"構造時,也能夠應用單元及截面 布局變量之間的關係。
[0020] 發明人已經發現存在入射能量與內部單元設計之間的關係,例如單元的密度或填 充百分比,以及單元內側表面上的反射比大小。增大單元的填充百分比導致更低的入射能 量,而降低表面的反射百分比導致更短的燃弧持續時間和更低的入射能量。
[0021] 能夠按單列或多列排列配置電動機控制中心(MCC),其中列結構或多列配置提供 總體外罩E,在該總體外罩E中安裝一個或更多個單元,這些單元自身具有在圖中被標記為 E的外罩。總體列外罩E和單元自身均容納一個或更多個電部件,其在各圖中被標記為C。 本公開內容的構思可以被有利地使用在所圖解的MCC列和單元外殼中,本文中二者均被稱 作"外罩",並且還可以將其與其它類型、形狀、尺寸以及形式的電動機控制設備和/或工業 控制設備結合使用,在這些設備中,外罩E限定內部,在該內部中,一個或多個電部件C被直 接地或間接地安裝到構成外罩E的多個壁中之一上。列外罩E可以配備有各種電力分配結 構和部件,例如連接器、總線條等,以及剛性機械安裝結構,或者用於滑動地支撐電動機驅 動單元、啟動單元,和/或各種功能單元的機構,其中這些單元自身可以包括被安裝在單元 外罩E的內部中的一個或更多個電部件C。
[0022] 此外,公開的技術具有與外罩內的任何單元或隔室類型相關聯的實用性,該外罩 一般存在於工業控制設備中和/或電動機控制系統中,該單元例如為MCC中的軟啟動單元, MCC內的變頻電動機驅動單元,以及MCC內的斷路器、啟動器和網絡連結單元等。各個單元 均可以包括外罩E,該外罩E具有頂壁UW、底壁LW、包括機箱前面板或門的內側的一個或更 多個側壁SW、以及後壁BW。如這裡使用的,壁能夠包括整個或部分壁,其包括機箱前面板或 門的內側;以及隔板,其可以但並非必須是實心或者完全分開的,例如,包括外罩E內的框 架。這些外罩E的壁和隔板限定內部空間,在該內部空間中至少一個電部件C被直接地或 間接地安裝到壁UW、LW、NSW、BW和/或機箱前面板或門的內側中的至少之一上。在電動機 控制中心單元的情況下,多個電部件C通常被安裝到後壁BW上。這裡使用的電部件指的是 傳導電流的結構,及其外殼,例如作為或包含電路板、電路部件等的任何結構。能夠提供其 中安裝各種不同單元類型的多列MCC設備,其中水平和垂直總線條電力分配系統被直接地 或間接地安裝到列外罩E的後壁上,且各個MCC單元被安裝在隔室中,這些隔室能夠是滑動 託盤,或者能夠是針對相應的單元外罩E的非滑動的(例如,剛性的)安裝位置。此外,在 某些實施方式中,水平總線條能夠位於外罩E的頂部的隔室中,而不是沿著後壁BW。這些隔 室的一個、一些,或者全部能夠具有前面板或"門",和/或能夠提供覆蓋給定列的所有隔室 的門。
[0023] 圖1-9圖解了關於減輕外罩E內的燃弧狀況的不利影響的本公開內容的各種構 思,其中在單元外罩E(例如,有時被稱為"桶")的背景下示出這些例子,儘管能夠以任何形 式的工業控制和/或電動機控制機箱實現所公開的技術,例如整體列外罩。從圖1中可以 看到,電動機控制設備包括外罩E,其具有壁UW、SW、LW和BW以及前壁,例如形成其中安裝 電部件C的矩形內部空間的面板或門(未示出)。在圖1的例子中,元件C被安裝到後壁 BW上,儘管該元件C可以被直接地或間接地安裝到外罩E的任何壁上的其它實施方式是可 能的。
[0024] 也參考圖2-4,根據本公開內容的某些方面,壁UW、LW、SW、BW和/或機箱前面板或 門的內側的一個或更多個的內表面IS的全部或部分,和/或部件C的一個或更多個的內 表面IS的全部或部分設置有紋理化表面和/或塗層CL,以重定向和/或吸收與外罩E內 的內部燃弧狀況關聯的入射能量。特別地,下述的表面紋理和/或塗層,和/或瓦片結構T 和/或材料M的選擇性添加優選被設計成重定向和/或吸收入射能量值,該入射能量值在 約0. 1至約10. Ocal/cm2的範圍內,或可能高達約50. Ocal/cm2。
[0025] 從圖2和3中可以看到,紋理化結構能夠是任何合適的形式或形狀,其能有效增大 壁的內表面IS或其一部分的表面面積。例如,該表面能夠被劃刻、刮削、蝕刻或被形成為拱 肋/凹槽表面(例如,圖2),或者能夠通過任何合適的機械的和/或化學手段及技術在表面 IS上壓出凹陷部分,或能夠在形成壁的過程中例如通過合適的模製和/或擠壓技術形成該 凹陷部分。能夠對電部件C的一個或更多個表面執行相同操作,例如通過在提供部件C的 結構的模製過程中產生紋理化表面。就這一點而言,這種紋理化表面被設置在部件C的任 何表面和/或外罩壁UW、LW、SW和/或BW上,該表面面向外罩E的內部,且本文中該表面被 稱作為"內表面",儘管其可能在部件C本身的外部。在某些實施方式中,外罩壁的一個或更 多個和/或部件C的一個或更多個的內表面IS上的紋理化表面關於可見光和紅外光是非 反射的。例如,在某些實施方式中,對於可見光譜和紅外光譜,該紋理化內表面IS具有在0 到50%範圍內的反射比。
[0026] 圖4描述了外罩壁UW、LW、SW和/或BW的內表面IS和/或機箱前面板或門的內 側的另一示例性部分,和/或系統部件C的內表面IS的另一示例性部分,該系統部件C具 有塗層CL,以重定向或吸收與MCC單元中內部燃弧狀況關聯的入射能量。塗層CL能夠是起 到吸收或重定向這種入射燃弧能量的作用的任何合適的材料,且能夠使用任何合適的塗敷 技術在表面IS上將其形成為任何合適的厚度,以利於這種入射能量的吸收和/或重定向。 此外,在某些實施方式中,塗層CL關於可見光和紅外光是非反射的,例如,具有在0到50% 範圍內的反射比。例如,塗層CL能夠為諸如黑色的較深的顏色,且塗層CL能夠是具有粗糙 表面的單一顏色,而不是較淺顏色的光滑表面。
[0027] 此外,在某些實施方式中,能夠通過塗層CL提供紋理或粗糙表面,例如通過向塗 層CL提供粗糙的紋理化外表面的蝕刻、劃刻、點刻,或其它合適的塗敷技術或塗敷後處理。 另外,單獨地或結合地,塗層CL能夠被塗敷到外罩壁的內表面IS和/或部件C的一個或更 多個的紋理化表面上。
[0028] 圖5和6示出了根據本公開內容的MCC單元的另一個實施方式,該MCC單元具有 多個部件C和瓦片結構T,它們被安置或被直接地或間接地安裝至外罩壁UW、LW、SW和/或 BW和/或機箱前面板或門的內側的部分,以重定向和/或吸收入射燃弧能量。在這一點上, 在這裡所描述的瓦片結構T、紋理化表面構思、塗層CL和/或填充材料M能夠被附加或擴展 到角部和邊緣,在這些角部和邊緣處,壁UW、LW、SW、BW和/或機箱前面板或門的內側中的 兩個相會,和/或在角部/邊緣使壁的一個或更多個與部件C的一個或更多個相接。另外, 一個或更多個瓦片結構T能夠被直接地或間接地安裝到元件C的一個或更多個上。例如, 瓦片結構T能夠是背面黏性的(adhesive-backed)矩形或其它形狀,其允許容易地安裝到 外罩壁UW、LW、SW、BW和/或機箱前面板或門的內側中的一個或更多個的否則為開口的部 分上,和/或安裝到元件C的一個或多個上。能夠單獨地或與上述內表面紋理和/或塗層 CL構思相結合地使用瓦片結構T。在某些實施方式中,該瓦片結構T關於可見光和紅外光 是非反射的,例如,具有小於約50%的反射比。例如,瓦片結構T能夠為諸如黑色的較深的 顏色,且瓦片結構T的表面能夠是具有粗糙(例如,紋理化)表面的單一顏色。另外,在某 些實施方式(未示出)中,塗層CL能夠被設置在瓦片結構T的暴露表面的全部或部分上。 此外,如圖7中所示,能夠通過任何合適的技術,單獨地和/或與塗層CL相結合地,紋理化 瓦片結構T的一個或更多個表面。
[0029] 圖8圖解了另一個示例性MCC單元,在該MCC單元中,填充材料M被設置在後壁BW 的否則為開口的部分上,以重定向和/或吸收入射電弧能量。可以使用任何重定向和/或 吸收這種與外罩E中的內部燃弧狀況關聯的入射能量的合適材料M,並且材料M可以為任何 合適的厚度和形狀。在某些實施方式中,材料M優選是深色的且能夠具有粗糙的紋理化表 面。此外,在某些實施方式中,填充材料M優選地是關於可見光和紅外光非反射的,例如,具 有在0到50%範圍內的反射比。可以使用任何合適的安裝技術安裝填充材料M,且其優選 地被安置在壁UW、LW、SW、BW和/或機箱前面板或門的內側中的一個或更多個的否則為開 口的區域中,和/或安置在一個或更多個部件C和/或與之關聯的角部/邊緣上。
[0030] 圖9中圖解的另一個實施方式包括一個或更多個擋板或隔板B,以重定向或吸收 與外罩內的燃弧狀況關聯的入射能量。這些擋板/隔板結構B能夠是與上、下或側壁UW、 LW、SW中的一個平行的平板,或者能夠是被安裝為一般平行於後壁BW延伸從而如圖中所示 覆蓋一個或更多個部件C的全部或部分的平板。此外,能夠提供不嚴格平坦的其它擋板/ 隔板結構B,並且能夠安置擋板/隔板結構B,以重定向或減輕入射燃弧能量向外朝向外罩E 的前開口的轉移。在某些實施方式中,擋板和/或隔板能夠包括如上所述的紋理化表面和/ 或塗層CL,以利於入射燃弧能量的重定向和/或吸收。此外,一個或更多個瓦片結構T和/ 或多塊填充材料M能夠被設置在擋板或隔板B的一個或更多個上。此外,擋板和/或隔板B 優選地由深色製成,且能夠具有粗糙的紋理化表面。另外,在某些實施方式中,擋板和/或 隔板B優選地是關於可見光和紅外光非反射的,例如,具有低於約50 %的反射比。能夠使用 任何合適的安裝技術安裝擋板和/或隔板B,例如合適的安裝螺栓螺釘或其它緊固技術,並 且在某些情況下,其能夠被安裝在外罩E的壁的一個或多個上。
[0031] 另外,在各種實施方式中,單獨地或與上述技術的一個或更多個相結合地,通過在 外罩內部中有選擇地布置電部件C,能夠減輕內部燃弧狀況的不利影響,該布置例如最大化 外罩的內部中的高反射或平滑內表面的覆蓋(例如,最小化暴露),例如最小化後壁BW的暴 露,和/或最大化填充百分比。
[0032] 上面的例子只是本公開內容的各個方面的若干可能的實施方式的說明,其中,一 旦閱讀和理解本說明書和附圖,本領域其它技術人員將想到等效的變化和/或修改。尤其 關於上述部件(組件、設備、系統、電路等)所執行的各種功能,除非另被說明,否則用來描 述這些部件的術語(包括"裝置"("111-11 8")的提及)旨在對應於任何部件,例如硬體、處理 器所執行的軟體,或者其組合,即使該任何部件在結構上不相當於執行本公開內容的示例 實現中的功能所公開的結構,其也執行所述部件的特定功能(即,是功能上等效的)。此外, 雖然可以僅對於若干實現中的一個,公開了本公開內容的特定特徵,但是,可以將該特徵與 其它實現的一個或更多個其它特徵相組合,這對於任何給定的或特定的應用是被期望的或 有利的。另外,對用在【具體實施方式】和/或在權利要求中的術語"包括"("including")、"包 括"("includes")、"具有"("having")、"具有"("has")、"具有"("with")或其變形來 說,這些術語意在以類似於術語"包含"("comprising")的方式表示包括的(inclusive)。
【權利要求】
1. 一種工業控制或電動機控制設備,包括: 外罩,其包括頂壁、底壁、至少一個側壁以及後壁,所述壁限定外罩內部,並且所述壁的 至少之一包括面向所述外罩內部的內表面;以及 至少一個電部件,其被直接地或間接地安裝到所述外罩內部中的所述壁的至少之一 上; 其中,所述壁的至少之一的所述內表面的至少一部分包括紋理化表面和塗層的至少之 一,以重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量。
2. 如權利要求1所述的設備,其中所述紋理化表面或所述塗層關於可見光和紅外光是 非反射的。
3. 如權利要求1所述的設備,其中所述至少一個電部件包括紋理化表面和塗層的至少 之一,以重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量。
4. 如權利要求1所述的設備,包括至少一個瓦片結構,其被直接地或間接地安裝到所 述壁的至少之一的所述內表面上,或被直接地或間接地安裝到所述至少一個電部件上,所 述至少一個瓦片結構包括紋理化表面和塗層的至少之一,以重定向或吸收與所述外罩內的 內部燃弧狀況關聯的入射能量。
5. 如權利要求4所述的設備,其中所述至少一個瓦片結構關於可見光和紅外光是非反 射的。
6. 如權利要求1所述的設備,包括填充材料,其被安裝在所述外罩內部中,所述填充材 料起到重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量的作用。
7. 如權利要求6所述的設備,其中所述填充材料關於可見光和紅外光是非反射的。
8. 如權利要求1所述的設備,包括至少一個擋板或隔板,其被安裝在所述外罩內部中, 所述至少一個擋板或隔板起到重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能 量的作用。
9. 如權利要求8所述的設備,其中所述至少一個擋板或隔板關於可見光和紅外光是非 反射的。
10. 如權利要求8所述的設備,其中所述至少一個擋板或隔板包括紋理化表面和塗層 的至少之一,以重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量。
11. 一種用於減輕與工業控制或電動機控制設備中的內部燃弧狀況關聯的入射能量的 方法,所述方法包括: 將至少一個電部件安裝在外罩的內部中,所述外罩包括頂壁、底壁、至少一個側壁以及 後壁; 將紋理化表面和塗層的至少之一設置在所述外罩的所述壁的至少之一的內表面的至 少一部分上,以重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量。
12. 如權利要求11所述的方法,其中所述紋理化表面或所述塗層關於可見光和紅外光 是非反射的。
13. 如權利要求11所述的方法,包括將紋理化表面和塗層的至少之一設置在所述至少 一個電部件上,以重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量。
14. 如權利要求11所述的方法,包括將至少一個瓦片結構直接地或間接地安裝到所述 壁的至少之一的所述內表面上,或直接地或間接地安裝到所述至少一個電部件上,所述至 少一個瓦片結構包括紋理化表面和塗層的至少之一,以重定向或吸收與所述外罩內的內部 燃弧狀況關聯的入射能量。
15. 如權利要求14所述的方法,其中所述至少一個瓦片結構關於可見光和紅外光是非 反射的。
16. 如權利要求11所述的方法,包括將填充材料安裝在所述外罩內部中,所述填充材 料起到重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量的作用。
17. 如權利要求16所述的方法,其中所述填充材料關於可見光和紅外光是非反射的。
18. 如權利要求11所述的方法,包括將至少一個擋板或隔板安裝在所述外罩內部中, 所述至少一個擋板或隔板起到重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能 量的作用。
19. 如權利要求18所述的方法,其中所述至少一個擋板或隔板關於可見光和紅外光是 非反射的。
20. 如權利要求18所述的方法,其中所述至少一個擋板或隔板包括紋理化表面和塗層 的至少之一,以重定向或吸收與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量。
21. -種用於減輕與工業控制或電動機控制設備中的內部燃弧狀況關聯的入射能量的 方法,所述方法包括: 將多個電部件布置在外罩的內部中,以使所述外罩的所述內部中的高反射或平滑內表 面的暴露百分比充分地最小化,以利於與所述外罩內的內部燃弧狀況關聯的入射能量的重 定向或吸收,其中所述外罩包括頂壁、底壁、至少一個側壁以及後壁。
【文檔編號】H02H5/04GK104396107SQ201380030153
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2013年4月6日 優先權日:2012年4月6日
【發明者】拉謝爾·M·布加裡斯, 丹尼爾·羅伯特·多恩 申請人:洛克威爾自動控制技術股份有限公司

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