光記錄介質的製作方法

2023-09-18 10:15:30

專利名稱：光記錄介質的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種光記錄介質及採用該光記錄介質的光碟驅動器。
背景技術：
傳統光記錄介質包括一層由高反射材料製成的反射層。金銀是目前應用最為廣泛 的反射材料。除了需要有高反射率以外，光記錄介質還需要耐受潮溼及溫度的影響。金銀在製造光記錄介質過程中的使用增加了光記錄介質的成本。過去所做的各種 嘗試致力於尋找比金銀便宜的替代品。然而，這些嘗試的失敗很大程度上歸因於對高反射 率及對潮溼和溫度的高耐受性的需求上。如上述討論，有必要提供一種使用低成本反射材料從而相對於傳統光記錄介質具 有較低成本的光記錄介質。

發明內容
本發明一個實施例是提供一個光記錄介質(及其製造方法和系統)。本發明的另一個實施例是提供一種利用低成本反射材料的光記錄介質，從而使其 相對於傳統光記錄介質具有更低的成本。本發明的一個實施例提供的光記錄介質包括一個基底、一層形成於基底上的記錄 層、一層形成於記錄層上的反射層、以及一層形成於反射層上的保護層。光記錄介質可為壓 縮光碟(⑶)或數字通用光碟(DVD)。本發明的另一個實施例提供的光記錄介質包括一個基底、一層形成於基底上的反 射層、一層形成於反射層上的記錄層、以及一層形成於記錄層上的保護層。光記錄介質可為 藍光光碟(BD)。反射層至少包含預定配比的銅和鋅。本發明一個實施例中，反射層包含質量百分 含量為50-75%的銅和質量百分含量為15-45%的鋅。本發明一個實施例中，反射層還包含鎳和鉍中的至少其中之一。本發明的一個具體實施例中，反射層包含(以質量百分含量計)60_70%的銅、 15-30%的鋅以及5-20%的鎳。本發明的另一個具體實施例中，反射層包含(以質量百分含 量計)50-65%的銅、30-45%的鋅以及1-10%的鉍。因為反射層採用低成本的反射材料製成，使得光記錄介質的製造成本下降。因此， 本發明的光記錄介質相對於傳統光記錄介質具有較低的成本。


圖1所示為本發明實施例一的光記錄介質的各層。圖2所示為本發明實施例二的光記錄介質的各層。圖3所示為本發明實施例三的光記錄介質的各層。圖4所示為本發明一個實施例的製造光記錄介質的系統。
圖5所示為本發明另一個實施例的製造光記錄介質的系統。圖6所示為本發明一個實施例的製造光記錄介質的方法。圖7所示為本發明另一個實施例的製造光記錄介質的方法。圖8所示為本發明一個實施例的光碟驅動器，其用於在所製造的光記錄介質上讀
與fn息。
具體實施例方式名詞解釋光記錄介質光記錄介質是指一種能夠記錄和複製數據的光學介質。光記錄介質的實例包括但不限於以下類型壓縮光碟(Compact Discs,⑶s)、數字通用光碟(Digital Versatile Discs, DVDs)、高清晰數字通用光碟(High-DefinitionDVDs，HD-DVDs)、藍光光 盤(Blu-ray Discs, BDs)及迷你光碟(MiniDiscs，MDs)。本領域普通技術人員應理解「光 記錄介質」不僅僅限定於上述例子。基底基底為光記錄介質的各層提供支撐。記錄層記錄層用以記錄數據。反射層反射層能夠反射照射在光記錄介質上的光線。然後反射光線可被光探測 器接收。保護層保護層能夠保護位於其下的各層免受外界因素，諸如刮擦及髒汙損壞。緩衝層緩衝層能夠控制光記錄介質的各層之間的熱傳導。基底形成單元基底形成單元用以獲得一個具有所需形狀與尺寸的基底。記錄層形成單元記錄層形成單元用以形成一層記錄層。反射層形成單元反射層形成單元用以形成一層反射層。反射層形成單元可用於 以濺射_沉積反射材料的方式形成反射層。保護層形成單元保護層形成單元用以形成保護層。光碟驅動器光碟驅動器為一種能夠在光記錄介質上讀寫信息的裝置。託盤託盤被用以承載光記錄介質。光源光源用以發射預定波長的光線。光學透鏡光學透鏡用以聚焦光線於光記錄介質上。光探測器光探測器用以探測從光記錄介質上反射出的光線。旋轉體旋轉體用以旋轉光記錄介質，從而使光線被引導至光記錄介質。根據本發明的一個實施例，光記錄介質包括一個基底、一層形成於基底上的記錄 層、一層形成於記錄層上的反射層以及一層形成於反射層上的保護層。光記錄介質可為CD 或 DVD。根據本發明的另一個實施例，光記錄介質包括一個基底、一層形成於基底上的反 射層、一層形成於反射層上的記錄層以及一層形成於記錄層上的保護層。光記錄介質可為 BD0根據本發明的一個實施例，反射層至少包含預定配比的銅和鋅。本發明的一個實 施例中，反射層包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為15-45%的鋅。 除了銅和鋅以外，反射層還可包含其他適合的金屬。本發明的一個實施例中，反射層還包含鎳與鉍中的至少其中之一。
根據本發明的一個具體實施例，反射層包含(以質量百分含量計)60_70%的銅、 15-30%的鋅以及5-20%的鎳。根據本發明的另一個具體實施例，反射層包含(以質量百分 含量計)50-65%的銅、30-45%的鋅以及1-10%的鉍。根據本發明的一個實施例，反射層通過濺射_沉積反射材料的方式形成，該反射 材料包括含量配比大體接近理想預定配比的銅和鋅兩種物質。而該反射材料可被按照預定 配比的形式製成濺射靶。根據本發明的一個實施例，在承受55°C的溫度和50 %的相對溼度且持續96個小 時的條件下，光記錄介質可滿足各種測試參數。圖1所示為本發明實施例一的光記錄介質100的各層。請參閱圖1，光記錄介質 100包括基底102、形成於基底102上的記錄層104、形成於記錄層104上的反射層106，以 及形成於反射層106上的保護層108。基底102可由聚碳酸酯或塑料製成。記錄層104用以記錄數據。記錄層104可由有機染料，諸如氰藍(Cyanine)、酞菁 (Phthalocyanine)、偶氮化合物(Azo Compounds)、甲暨(Formazan)、二吡咯亞甲基化合物 (Dipyrromethene Compounds)及上述材料的任意組合製成。根據本發明的一個實施例，反射層106至少包含預定配比的銅和鋅。本實施例中， 反射層106包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為15-45%的鋅。除了銅和鋅以外，反射層106還可包括其他任何合適的金屬。本實施例中，反射層 106還包含鎳與鉍中的至少其中之一。根據本發明的一個具體實施例，反射層106包含(以質量百分含量計)60_70%的 銅、15-30%的鋅以及5-20%的鎳。根據本發明的另一個具體實施例，反射層106包含(以 質量百分含量計)50-65%的銅、30-45%的鋅以及的鉍。箭頭110代表照射於光記錄介質100上的光線的方向。光線被反射層106反射， 然後可被光探測器接收，這可實現在光記錄介質100上追蹤光線。保護層108能夠保護記錄層104和反射層106不被損壞。保護層108可由丙烯酸 清漆(Acrylic Lacquer)製成。另外，保護層108可包括一層粘結層及一個偽基板(Dummy Substrate)。根據本發明的一個實施例，在承受55°C的溫度和50 %的相對溼度且持續96個小 時的條件下，光記錄介質100可滿足各種測試參數。光存儲介質100可為任何適宜的類型、形狀及尺寸。光記錄介質100的實例包括 但不限於⑶s、DVDs、HD-DVDs以及MDs。光記錄介質100可為可記錄型、複寫形、只讀型或 者隨機存儲型。圖1僅為一個實例，其不應對權利要求的範圍造成不適當的限縮。可以理解，光記 錄介質100的細節性設計僅為了便於閱讀，而不應被解釋為限定光記錄介質100於具體數 量、形狀、尺寸、類型，以及光記錄介質100各層的排列。本領域的普通技術人員應可了解根 據本發明的具體實施例做出其他的變化，變更及改良。圖2所示為本發明實施例二的光記錄介質200的各層。請參閱圖2，光記錄介質 200包括基底202、形成於基底202上的反射層204、形成於反射層204上的記錄層206，以及形成於記錄層206上的保護層208。基底202可由聚碳酸酯或塑料製成。根據本發明的一個實施例，反射層204至少包含預定配比的銅和鋅。本實施例中， 反射層204包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為15-45%的鋅。
除了銅和鋅以外，反射層204還可包含其他任何合適的金屬。本實施例中，反射層 204還包含鎳與鉍中的至少其中之一。根據本發明的一個具體實施例，反射層204包含(以質量百分含量計)60_70%的 銅、15-30%的鋅以及5-20%的鎳。根據本發明的另一個具體實施例，反射層204包含(以 質量百分含量計)50-65%的銅、30-45%的鋅以及的鉍。箭頭210代表照射於光記錄介質200上的光線的方向。光線被反射層204反射， 然後可被光探測器接收，這可實現在光記錄介質200上追蹤光線。記錄層206用以記錄數據。記錄層206可由有機染料或者無機相變材料 (Phase-changing Inorganic Material)製成。有機染料的實例包括但不限於氰藍、酞菁、 偶氮化合物、甲暨、二吡咯亞甲基化合物及上述材料的任意組合製成。保護層208能夠保護記錄層206不被損壞。保護層208可由丙烯酸基聚合物 (Acrylic-based Polymer)製成。根據本發明的一個實施例，在承受55°C的溫度和50 %的相對溼度且持續96個小 時的條件下，光記錄介質200可滿足各種測試參數。光存儲介質200可為任何適宜的類型、形狀及尺寸。光記錄介質200可為藍光光 盤(BD)。光記錄介質200可為可記錄型、複寫形、只讀型或者隨機存儲型。圖2僅為一個實例，其不應對權利要求的範圍造成不適當的限縮。可以理解，光記 錄介質200的細節性設計僅為了便於閱讀，而不應被解釋為限定光記錄介質200於具體數 量、形狀、尺寸、類型，以及光記錄介質200各層的排列。本領域的普通技術人員應可了解根 據本發明的具體實施例做出其他的變化，變更及改良。圖3所示為本發明實施例三的光記錄介質300的各層。請參閱圖3，光記錄介質 300包括基底302、形成於基底302上的反射層304、形成於反射層304上的第一緩衝層306、 形成於緩衝層306上的記錄層308、形成於記錄層308上的第二緩衝層310，以及形成於第 二緩衝層310上的保護層312。基底302可由聚碳酸酯或塑料製成。根據本發明的一個實施例，反射層304至少包含預定配比的銅和鋅。本實施例中， 反射層304包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為15-45%的鋅。除了銅和鋅以外，反射層304還可包含其他任何合適的金屬。本實施例中，反射層 304還包含鎳與鉍中的至少其中之一。根據本發明的一個具體實施例，反射層304包含(以質量百分含量計)60_70%的 銅、15-30%的鋅以及5-20%的鎳。根據本發明的另一個具體實施例，反射層304包含(以 質量百分含量計)50-65%的銅、30-45%的鋅以及的鉍。箭頭314代表照射於光記錄介質300上的光線的方向。光線被反射層304反射， 然後可被光探測器接收，這可實現在光記錄介質300上追蹤光線。第一緩衝層306能夠控制反射層304與記錄層308之間的熱傳導。第一緩衝層306可由絕緣材料製成。記錄 層308用以記錄數據。記錄層308可由有機染料或無機相變材料製成。有機 染料的實例包括但不限於氰藍、酞菁、偶氮化合物、甲暨、二吡咯亞甲基化合物及上述材料 的任意組合製成。第二緩衝層310能夠控制記錄層308與保護層312之間的熱傳導。第二緩衝層 310可由絕緣材料製成。保護層312能夠保護記錄層308不被損壞。保護層312可由丙烯酸基聚合物製成。根據本發明的一個實施例，在承受55°C的溫度和50 %的相對溼度且持續96個小 時的條件下，光記錄介質300可滿足各種測試參數。光存儲介質300可為任何適宜的類型、形狀及尺寸。光記錄介質300可為藍光光 盤(BD)。光記錄介質300可為可記錄型、複寫形、只讀型或者隨機存儲型。圖3僅為一個實例，其不應對權利要求的範圍造成不適當的限縮。可以理解，光記 錄介質300的細節性設計僅為了便於閱讀，而不應被解釋為限定光記錄介質300於具體數 量、形狀、尺寸、類型，以及光記錄介質300各層的排列。本領域的普通技術人員應可了解根 據本發明的具體實施例做出其他的變化，變更及改良。圖4所示為本發明一個實施例的製造光記錄介質的系統400。系統400包括基底 形成單元402、記錄層形成單元404、反射層形成單元406以及保護層形成單元408。基底形成單元402用以獲得一個基底。基底形成單元402可成型聚合材料以形成 一個理想形狀和尺寸的基底。聚合材料可為聚碳酸酯或塑料。基底形成單元402可為一個注射成型單元，其可在一個注塑模具中注射成型聚合 物材料。記錄層形成單元404用以在基底上形成一層記錄層。記錄層可由有機染料製成。 有機染料的實例包括但不限於氰藍、酞菁、偶氮化合物、甲暨、二吡咯亞甲基化合物及上述 材料的任意組合製成。記錄層形成單元404可採用染料與對應溶劑混合的溶液進行旋塗 (spincoating)，隨後再將溶劑烘乾。記錄層形成單元404可被用以形成多於一層的記錄層。記錄層的數量可取決於待 製造的光記錄介質的類型。反射層形成單元406用以在記錄層上形成一層反射層。反射層採用反射材料制 成，反射材料至少包含預定配比的銅和鋅。因此，所形成的反射層至少包含預定配比的銅 和鋅。本發明一個實施例中，反射層包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為 15-45% 的鋅。反射層形成單元406可為一個濺射單元用以在記錄層上濺射_沉積反射材料。因 此，反射材料可被按照預定配比製成濺射靶的形態。如前所述，反射層還可包含其他適合的金屬。根據本發明的一個實施例，反射層還 包含鎳與鉍中的至少其中之一。根據本發明的一個具體實施例，反射層包含(以質量百分含量計)60_70%的銅、 15-30%的鋅以及5-20%的鎳。根據本發明的另一個具體實施例，反射層包含(以質量百分 含量計)50-65%的銅、30-45%的鋅以及1-10%的鉍。
保護層形成單元408用 以在反射層上形成一層保護層。保護層可採用丙烯酸清漆 製成。在這種情況下，保護層形成單元408可進行旋塗及隨後紫外線固化的方式形成保護 層。在另一個例子中，保護層可包括一層粘結層和一個偽基板。這種情況下，保護層形成單 元408可形成粘結層，然後將偽基板連接於粘結層上。根據本發明的一個實施例，在承受55°C的溫度和50%的相對溼度且持續96個小 時的條件下，所製造的光記錄介質可滿足各種測試參數。圖4僅為一個實例，其不應對權利要求的範圍造成不適當的限縮。本領域的普通 技術人員應可了解根據本發明的具體實施例做出其他的變化，變更及改良。圖5所示為本發明另一個實施例的製造光記錄介質的系統500。系統500包括基 底形成單元502、反射層形成單元504、記錄層形成單元506及保護層形成單元508。基底形成單元502用以獲得一個基底。基底形成單元502可成型聚合材料以形成 一個理想形狀和尺寸的基底。聚合材料可為聚碳酸酯或塑料。基底形成單元502可為一個注射成型單元，其可在一個注塑模具中注射成型聚合 物材料。反射層形成單元504用以在基底上形成一層反射層。反射層採用反射材料製成， 反射材料至少包含預定配比的銅和鋅。因此，所形成的反射層至少包含預定配比的銅和 鋅。本發明一個實施例中，反射層包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為 15-45% 的鋅。反射層形成單元504可為一個濺射單元用以在基底上濺射-沉積反射材料。因此， 反射材料可被按照預定配比製成濺射靶的形態。如前所述，反射層還可包含其他適合的金屬。根據本發明的一個實施例，反射層還 包含鎳與鉍中的至少其中之一。根據本發明的一個具體實施例，反射層包含(以質量百分含量計)60_70%的銅、 15-30%的鋅以及5-20%的鎳。根據本發明的另一個具體實施例，反射層包含(以質量百分 含量計)50-65%的銅、30-45%的鋅以及1-10%的鉍。記錄層形成單元506用以在反射層上形成一層記錄層。記錄層可由有機染料或無 機相變材料製成。有機染料的實例包括但不限於氰藍、酞菁、偶氮化合物、甲暨、二吡咯亞甲 基化合物及上述材料的任意組合製成。記錄層形成單元506可採用染料與對應溶劑混合的溶液進行旋塗，隨後再將溶劑 烘乾。可以理解，記錄層形成單元506還可進行無機相變材料濺射-沉積。記錄層形成單元506可被用以形成多於一層的記錄層。記錄層的數量可取決於待 製造的光記錄介質的類型。保護層形成單元508用以在記錄層上形成一層保護層。例如，保護層形成單元508 可在記錄層上旋塗丙烯酸基聚合物。根據本發明的另外一個實施例，系統500包括一層緩衝層形成單元用以在反射層 與記錄層之間形成一層第一緩衝層，並在記錄層與保護層之間形成一層第二緩衝層。根據本發明的一個實施例，在承受55°C的溫度和50 %的相對溼度且持續96個小 時的條件下，所製造的光記錄介質可滿足各種測試參數。圖5僅為一個實例，其不應對權利要求的範圍造成不適當的限縮。本領域的普通技術人員應可了解根據本發明的具體實施例做出其他的變化，變更及改良。 圖6所示為本發明一個實施例的製造光記錄介質的方法。該方法以邏輯流程圖中 步驟的集合加以說明。邏輯流程圖代表了可於硬體、軟體或硬體與軟體的組合中加以執行 的步驟次序。步驟602中，基底被製造。步驟602可包括成型聚合物材料以形成一個理想形狀 及尺寸的基底。聚合物材料可為聚碳酸酯或塑料。步驟602可包括在一個注塑模具中注射成型聚合物材料。步驟604中，一層記錄層被形成於基底上。記錄層可由有機染料製成。有機染料 的實例包括但不限於氰藍、酞菁、偶氮化合物、甲暨、二吡咯亞甲基化合物及上述材料的任 意組合製成。步驟604包括採用染料與對應溶劑混合的溶液進行旋塗，然後再將溶劑烘乾。另外，多於一層的記錄層可在步驟604中被製造。記錄層的數量可取決於待製造 的光記錄介質的類型。步驟606中，一層反射層被形成於記錄層上。如前所述，反射層採用反射材料制 成，反射材料至少包含預定配比的銅和鋅。因此，所形成的反射層至少包含預定配比的銅 和鋅。本發明一個實施例中，反射層包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為 15-45% 的鋅。步驟606包括在記錄層上濺射_沉積反射材料。因此，反射材料可被按照預定配 比製成濺射靶的形態。如前所述，反射層還可包含其他適合的金屬。根據本發明的一個實施例，反射層還 包含鎳與鉍中的至少其中之一。根據本發明的一個具體實施例，反射層包含(以質量百分含量計)60_70%的銅、 15-30%的鋅以及5-20%的鎳。根據本發明的另一個具體實施例，反射層包含(以質量百分 含量計)50-65%的銅、30-45%的鋅以及1-10%的鉍。步驟608中，一層保護層被形成於反射層上。保護層可採用丙烯酸清漆製成。在 這種情況下，步驟608可包括旋塗及後續的紫外線固化。在另一個例子中，保護層可包括一 層粘結層和一個偽基板。這種情況下，步驟608包括形成粘結層，然後將偽基板連接於粘結層上。根據本發明的一個實施例，在承受55°C的溫度和50%的相對溼度且持續96個小 時的條件下，所製造的光記錄介質可滿足各種測試參數。需要注意的是，步驟602-608僅為實例，其它變更設計可被提供，諸如一些步驟可 被增加，一個或多個步驟可被刪除，或者一個或多個步驟可具有不同次序，這些都不會超出 權利要求的範圍。圖7所示為本發明另一個實施例的製造光記錄介質的方法。該方法以邏輯流程圖 中步驟的集合加以說明。邏輯流程圖代表了可於硬體、軟體或硬體與軟體的組合中加以執 行的步驟次序。步驟702中，基底被製造。步驟702可包括成型聚合物材料以形成一個理想形狀 及尺寸的基底。聚合物材料可為聚碳酸酯或塑料。步驟702可包括在一個注塑模具中注射成型聚合物材料。
步驟704中，一層反射層被形成於基底上。如前所述，反射層採用反射材料製成， 反射材料至少包含預定配比的銅和鋅。因此，所形成的反射層至少包含預定配比的銅和 鋅。本發明一個實施例中，反射層包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為 15-45% 的鋅。步驟704包括在基底上濺射_沉積反射材料。因此，反射材料可被按照預定配比 製成濺射靶的形態。如前所述，反射層還可包含其他適合的金屬。根據本發明的一個實施例，反射層還 包含鎳與鉍中的至少其中之一。根據本發明的一個具體實施例，反射層包含(以質量百分含量計)60_70%的銅、 15-30%的鋅以及5-20%的鎳。根據本發明的另一個具體實施例，反射層包含(以質量百分 含量計)50-65%的銅、30-45%的鋅以及1-10%的鉍。步驟706中，一層記錄層被形成於反射層上。記錄層可由有機染料或無機相變材 料製成。有機染料的實例包括但不限於氰藍、酞菁、偶氮化合物、甲暨、二吡咯亞甲基化合物 及上述材料的任意組合製成。步驟706包括採用染料與對應溶劑混合的溶液進行旋塗，然後再將溶劑烘乾。可 以理解，步驟706還可包括濺射-沉積無機相變材料。另外，多於一層的記錄層可在步驟706中被製造。記錄層的數量可取決於待製造 的光記錄介質的類型。步驟708中，一層保護層被形成於記錄層上。步驟708可包括在記錄層上旋塗丙 烯酸基聚合物。根據本發明的一個實施例，一層在反射層與記錄層之間形成一層第一緩衝層的步 驟可被執行。根據本發明的另外一個實施例，一層在記錄層與保護層之間形成一層第二緩 衝層的步驟可被執行。根據本發明的一個實施例，在承受55°C的溫度和50%的相對溼度且持續96小時 的條件下，所製造的光記錄介質可滿足各種測試參數。需要注意的是，步驟702-708僅為實例，其它變更設計可被提供，諸如一些步驟可 被增加，一個或多個步驟可被刪除，或者一個或多個步驟可具有不同次序，這些都不會違背 權利要求的範圍。圖8所示為本發明一個實施例的用以在光記錄介質上讀寫信息的光碟驅動器 800。光碟驅動器800包括託盤802、光源804、光學透鏡806及光探測器808。託盤802用以承載光記錄介質。託盤802可在裝載位置與工作位置之間伸展及回縮。光源804用以發出預定波長的光線，同時光學透鏡806用以將光線聚焦在光記錄 介質上。根據本發明的一個實施例，預定波長取決於光記錄介質的類型。以兩種不同類型 的分別被稱作DVD與BD的光記錄介質為例，在DVD的情況下，第一預定波長的光線將被採 用，在BD的情況下，第二預定波長的光線將被採用，其中第二預定波長小於第一預定波長。並且，光源804還可包括一個控制器用以根 據操作需要的類型控制光線的量。例 如，不同量的光線可被用於在光記錄介質上寫入數據或從光記錄介質上讀出數據。
光探測器808用以探測從光記錄介質上反射的光線。已經被記錄在光記錄介質上 的數據可通過確定反射光線的變化被讀出。在光記錄介質為圓形的情況下，光碟驅動器800還可包括一個旋轉體用以旋轉光 記錄介質。當光記錄介質被旋轉時，光線被引導至光記錄介質的各個部位。光碟驅動器800可被應用於個人電腦或筆記本電腦中。電腦一般包括一個用以執 行各種程序的處理器、一個用以向用戶顯示一個或多個用戶界面的顯示屏以及一個或多個 用以接收用戶輸入信息的輸入裝置。電腦可包括一個能夠在光記錄介質上讀寫信息的單一 集成裝置。圖8僅為一個實例，其不應對權利要求的範圍造成不適當的限縮。本領域的普通 技術人員應可了解根據本發明的具體實施例做出其他的變化，變更及改良。本發明的實施例提供了 一種光記錄介質，其可滿足根據說明書中提及的 IEC68-2-2Ba所列舉的各種測試參數。這些測試參數是以一個承受55°C的溫度和50%的相 對溼度且持續96個小時的光記錄介質來測定的。以DVD為例，下列測試參數將被採用
反射率反射率是光線從光記錄介質的擬定區域(包括導入區、導出區、中間區及 數據區)返回的百分率的測量指標。反射率的值太低將可能導致讀出數據出現問題。調製(Modulation)調製體現了關於凹坑形狀的信息，因此，也體現了關於光記 錄介質記錄質量的信息。不對稱度(Asymmetry)不對稱度用來檢測包括偏差(deviation)、抖動(Jitter) 及數字錯誤的信號值。奇偶校驗外碼失效(Parity Outer Fail,P0F) :P0F反映了目前在光記錄介質中不 能被糾正的模塊數量。PISumS :PISum8反映了光記錄介質的每連續八個模塊中奇偶校驗內碼錯誤 (Parity Inner Errors, PIE)的總數。數據對時鐘抖晃(Datato Clock Jitter, DC Jitter) =DC Jitter 反映了相對於 理想時間周期出現的偏差。本發明的實施例提供了一種光記錄介質以及製造這種光記錄介質的方法和系統。 光記錄介質包括一層反射層，該反射層至少包含預定配比的銅和鋅。反射層具有高反射率從而可適用於各種類型的光記錄介質。並且，反射層採用低成本的反射材料製成。這減少了製造光記錄介質的總成本，從 而降低了所製造光記錄介質的成本。進一步地，所製造的光記錄介質在標準所指定的條件下是穩定的，因此，其質量是 可靠的。以上所述，僅是本發明的較佳實施例而已，並非對本發明作任何形式上的限制，雖 然本發明已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本發明，任何熟悉本專業的技術人 員，在不脫離本發明技術方案範圍內，當可利用上述揭示的技術內容做出些許更動或修飾 為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發明技術方案內容，依據本發明的技術實質對 以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本發明技術方案的範圍內。
權利要求
1.一種光記錄介質，其包括一個基底、一層形成於該基底上的記錄層、一層形成於該記 錄層上的反射層以及一層形成於該反射層上的保護層，該記錄層被用以記錄數據，其特徵 在於該反射層至少包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為15-45%的鋅。
2.如權利要求1所述的光記錄介質，其特徵在於該反射層進一步包含選自鎳與鉍中 的至少一種金屬。
3.如權利要求1所述的光記錄介質，其特徵在於該反射層包含質量百分含量為 60-70%的銅、質量百分含量為15-30%的鋅及質量百分含量為5-20%的鎳。
4.如權利要求1所述的光記錄介質，其特徵在於該反射層包含質量百分含量為 50-65%的銅、質量百分含量為30-45%的鋅及質量百分含量為的鉍。
5.一種光記錄介質，其包括一個基底、一層形成於該基底上的反射層、一層形成於該反 射層上的記錄層以及一層形成於該記錄層上的保護層，該記錄層被用於記錄數據，其特徵 在於該反射層至少包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為15-45%的鋅。
6.如權利要求5所述的光記錄介質，其特徵在於該反射層進一步包含選自鎳與鉍中 的至少一種金屬。
7.如權利要求5所述的光記錄介質，其特徵在於該反射層包含質量百分含量為 60-70%的銅、質量百分含量為15-30%的鋅及質量百分含量為5-20%的鎳。
8.如權利要求5所述的光記錄介質，其特徵在於該反射層包含質量百分含量為 50-65%的銅、質量百分含量為30-45%的鋅及質量百分含量為的鉍。
9.一種光碟驅動器用以在一個光記錄介質上讀寫信息，該光記錄介質包括一層反射 層，該反射層至少包含質量百分含量為50-75%的銅和質量百分含量為15-45%的鋅，該光 盤驅動器包括一個託盤用以承載該光記錄介質；一個光源用以發射預定波長的光線；一個光學透鏡用以將該光線聚焦在該光記錄介質上；及一個光探測器用以探測從該光記錄介質上反射出的光線。
10.如權利要求9所述的光碟驅動器，其特徵在於該光碟驅動器進一步包括一個旋轉 體用以旋轉該光記錄介質，從而使光線被引導至該光記錄介質。
全文摘要
光記錄介質及製造光記錄介質的方法和系統被提供。光記錄介質包括基底及形成於基底上的記錄層和反射層。反射層至少包含預定配比的銅和鋅，其中銅的質量百分含量為50-75％，鋅的質量百分含量為15-45％。記錄層可形成於基底或反射層上用以記錄數據。保護層可形成於反射層或記錄層上。
文檔編號G11B7/249GK102005223SQ201010263749
公開日2011年4月6日 申請日期2010年8月20日 優先權日2009年8月31日
發明者吉裡拉吉尼阿提, 維諾德夏爾馬, 阿基爾泰雅 申請人:莫澤巴爾印度有限公司