旋轉構造雷射器，具體為自補償的旋轉構造雷射器以及用於測量構造雷射器的旋轉軸線...的製作方法

2023-04-24 17:23:46

專利名稱：旋轉構造雷射器，具體為自補償的旋轉構造雷射器以及用於測量構造雷射器的旋轉軸線 ...的製作方法
技術領域：
本發明涉及具有權利要求1的前序部分中的特徵的旋轉構造雷射器以及用於測 量旋轉構造雷射器的旋轉軸線的傾斜的方法。
背景技術：
現有技術中已公知旋轉構造雷射器。例如，在US 7，370，427中，描述了一種具有 限定一平面的至少一個雷射束的構造雷射器。該構造雷射器具有雷射單元，該雷射單元可 相對於殼體繞至少一個轉動軸線傾斜。所述構造雷射器包括至少一個調平傳感器，該調平 傳感器對旋轉軸線靈敏，用於相對於重力場非常精確地取向。該裝置還包括一個傾斜傳感 器，該傾斜傳感器對轉動軸線靈敏，用於直接測量相對於重力場的傾角。該示例的缺點在於需要調平傳感器和傾斜傳感器，從而以可接受的精確度進行傾 斜測量。此外，雷射束單元需要定期地返回到其水平位置，用於重新校準傾斜傳感器。同樣，WO 2008/052590A1涉及例如在構造應用中利用雷射束示出坡度。雷射束從 雷射單元射向關於水平角度具有坡度角的期望方向。水平傳感器設置為用於調節水平角 度，坡度傳感器設置為用於基於來自水平傳感器的水平角度示出坡度角。本裝置還需要兩個傳感器來正確地示出坡度。根據US 5，485，沈6，在雷射投影儀的軸中央的彼此垂直相交的平面中固定有固 定的傾斜檢測器，並且在相對於雷射投影儀的軸中央可傾斜的板上安裝有傾斜的傾斜檢測 器。雷射投影儀是水平的，從而固定的傾斜檢測器示出水平方向。傾斜的傾斜檢測器與固 定的傾斜檢測器對準，並且示出水平方向。因此，獲得水平參考平面。傾斜的傾斜檢測器以 固定的傾斜檢測器為基準傾斜，並且雷射投影儀被調平，從而傾斜的傾斜檢測器示出水平 方向。因此，獲得以任意角度傾斜的參考平面。該裝置也需要多個傾斜傳感器。如從現有技術可以看出，兩個傾斜傳感器通常用於高精度地測量旋轉構造雷射器 的旋轉軸線的傾斜。這些傳感器中的一種是水平傳感器，該水平傳感器的精度非常高並且 範圍非常有限，並且被用於校準坡度傳感器或傾斜傳感器，所述坡度傳感器或傾斜傳感器 具有較寬的範圍但精度較低。

發明內容
本發明的目的是提供一種構造雷射器，具體地為旋轉構造雷射器，並且提供一種 用於測量構造雷射器的旋轉軸線的傾斜的方法，所述構造雷射器僅需要一個用於測量用於 產生雷射平面的裝置的旋轉軸線的傾斜的傳感器，並且該構造雷射器能夠使使用者以非常 高的精度測量旋轉軸線的傾斜。此外，所述構造雷射器應該能夠連續地產生傾斜的雷射平 面，而不會定期地返回到水平位置。該目的通過實現獨立權利要求中的特徵來實現。在從屬專利權利要求中描述了以可選或有利的方式進一步改進本發明的特徵。本發明的旋轉構造雷射器，具體地為自補償的旋轉構造雷射器包括基部；用於 發射繞旋轉軸線旋轉的雷射束的雷射單元，從而所述旋轉雷射束限定雷射平面，其中，所述 雷射單元被形成並且被可傾斜地布置到所述基部，以使所述軸線可沿至少一個方向傾斜； 以及傾斜傳感器，所述傾斜傳感器用於測量所述軸線的傾斜。根據本發明，所述傾斜傳感器由傳感器平臺支撐，所述傳感器平臺可相對於所述 雷射單元繞所述軸線在至少兩個限定樞轉位置之間樞轉，使得所述軸線的傾斜可由所述傾 斜傳感器在所述至少兩個樞轉位置中測量。其中，所述傳感器平臺是承載所述傾斜傳感器的結構。所述裝置僅需要一個傾斜傳感器來精確地測量所述旋轉軸線的傾斜。這通過測量 在至少兩個不同位置中的傾斜和計算有效的傾斜來實現。由此，消除可能由所述傾斜傳感 器導致的誤差，例如溫度漂移或者滯後誤差。與現有技術中已知的其它裝置相比，根據本發 明的旋轉構造雷射器在其設計方面並不廣泛。此外，其不需要構造雷射器為了重新校準傾 斜傳感器而返回到水平位置。作為示例，所述雷射單元被形成為使得所述旋轉雷射束繞所述軸線以至少 120rpm，特別是至少500rpm，尤其至少為IOOOrpm的轉速旋轉。所述傳感器平臺與所述傾斜傳感器一起可在至少兩個限定樞轉位置之間樞轉。限 定樞轉位置是可由平臺佔據並且在其中進行傾斜測量的樞轉位置。這能夠連續測量所述旋 轉軸線的傾斜。因此，所述雷射單元和所述旋轉軸線的傾斜可在操作期間調節。此外，至少 兩個樞轉位置中的兩個位置可相對於所述軸線徑向彼此相對。因此，傾斜傳感器相對於所 述旋轉軸線的對準誤差能以計算的方式消除。因此，所述旋轉構造雷射器可包括計算單元，該計算單元被設計成使得通過考慮 由所述傾斜傳感器在所述至少兩個樞轉位置中的每個位置中獲取的測量值得出所述軸線 的傾斜值。所述計算單元還可被設計成使得通過考慮由所述傾斜傳感器在所述至少兩個樞 轉位置中的每個位置中獲取的測量值校準，特別是重新校準所述傾斜傳感器。在另一個實施方式中，所述傳感器平臺可相對於所述雷射單元繞所述軸線在至少 三個限定樞轉位置之間樞轉，特別是在奇數的限定樞轉位置之間樞轉。所述平均傾斜可考 慮進行測量的位置進行計算。作為用於產生雷射平面的裝置的所述雷射單元還可包括與所述旋轉軸線同心的 軸，其中，所述傳感器平臺可被樞轉地安裝到所述軸。所述軸提供了可供所述傳感器平臺繞 其樞轉或旋轉的裝置。所述軸還可被用作所述雷射單元的另一部分的軸。在另一個實施方式中，兩個軸承位於傳感器平臺與所述軸之間，其中，所述軸承被 布置成彼此相距至少一個軸承寬度的距離。根據該實施方式，所述傳感器平臺的所述樞轉 運動相對於所述雷射束的所述旋轉軸線非常穩定。因此，所述傾斜傳感器在所述限定位置 以及樞轉運動期間始終與所述旋轉軸線嚴密地對準。這有助於降低由所述傳感器平臺可樞 轉地安裝到所述軸導致的誤差。可在所述傾斜傳感器與所述傳感器平臺之間設置印刷電路板。所述傾斜傳感器可 連接到所述電路板，並且所述電路板又可連接到控制單元。這代表了用於將所述傾斜傳感 器的信號輸出傳遞到所述控制單元的有效設計。
在另一個具體實施方式
中，所述傾斜傳感器通過接合銷樞轉，所述接合銷設置在 所述雷射單元的旋轉部上。因此，僅需要一個電機來旋轉所述雷射束並且樞轉所述傾斜傳 感器。根據本發明的另一個實施方式，所述傾斜傳感器可選地可通過樞轉電機樞轉。所 述樞轉電機可通過位置開關轉換。所述位置開關包括發光二極體(LED)和光電檢測器，所 述發光二極體和光電檢測器位於相對於彼此移動的部分上。所述LED被放置在所述傾斜傳 感器的限定位置處。如果光電檢測器檢測到光強度改變，則其恰好在限定位置處關閉樞轉 電機。可選地，所述樞轉電機可以是步進電機。所述步進電機被設計成使所述傳感器平臺 旋轉與所述限定位置之間的距離對應的預定步進數。通過所述位置開關重設所述步進電機 的計數器。所述傾斜傳感器可以是加速計。所述加速計可以是一體電路的一部分。加速計已 示出為提供非常高精度的傾斜測量。總而言之，根據本發明的構造雷射器，具體地為自補償的旋轉構造雷射器包括基 部；用於產生雷射束平面的裝置，其中，所述雷射束平面由繞旋轉軸線旋轉的雷射束形成， 並且其中，用於產生所述雷射束平面的裝置可樞轉地安裝到所述基部，其中，用於產生所述 雷射束平面的裝置可相對於X軸和/或Y軸樞轉；以及用於測量所述旋轉軸線的傾斜的傾 斜傳感器。其中，所述傾斜傳感器可繞所述旋轉軸線樞轉，用於測量所述旋轉軸線在至少兩 個位置中的傾斜。本發明還涉及用於確定旋轉構造雷射器的旋轉軸線的傾斜的方法，以及該旋轉構 造雷射器。所述旋轉構造雷射器包括基部；用於發射繞所述旋轉軸線旋轉的雷射束的雷射 單元，使得所述旋轉雷射束限定雷射平面，其中，所述雷射單元被形成並被可傾斜地布置到 所述基部，以使所述軸線可傾斜；以及傾斜傳感器，所述傾斜傳感用於測量所述軸線的傾 斜。根據本發明，所述傾斜傳感器可相對於所述雷射單元繞所述軸線在至少兩個限定 樞轉位置之間樞轉。此外，通過所述傾斜傳感器在所述至少兩個樞轉位置中的每個位置中 獲取所述傾斜的測量值，並且通過考慮由所述傾斜傳感器在所述至少兩個樞轉位置中獲取 的測量值得出用於所述軸線的傾斜值。可選地，還可以通過考慮由所述傾斜傳感器在所述 至少兩個樞轉位置中獲取的測量值校準，特別是重新校準所述傾斜傳感器。作為示例，所述至少兩個樞轉位置中的兩個位置可相對於所述軸線彼此相對。此外，所述傾斜傳感器可相對於所述雷射單元繞所述軸線在至少三個限定樞轉位 置之間樞轉，特別是在奇數個限定樞轉位置之間樞轉。因此，通過考慮由所述傾斜傳感器在 所述限定樞轉位置中的每個位置中獲取的測量值得出用於所述軸線的所述傾斜值。例如，所述構造雷射器的所述雷射束繞所述軸線以至少120rpm，特別是至少 500rpm，尤其至少為IOOOrpm的轉速旋轉。因此，根據該方法，所述旋轉軸線的傾斜可利用傾斜傳感器在所述傾斜傳感器的 主位置處和所述傾斜傳感器的至少一個其它位置處測量，其中，可根據在其它位置處的傾 斜測量產生補償值，以調節所述傾斜傳感器在所述主位置處的傾斜測量。所述傾斜傳感器可設置在至少兩個限定位置處。優選地，所述兩個位置相對於所述旋轉軸線彼此相對。根據另一個具體的實施方式，所述傾斜傳感器在奇數個限定位置之間樞轉。在所 述限定位置處的傾斜測量的結果可被有利地用於校準所述傾斜傳感器的靈敏度。


現在將結合附圖參照示例性實施方式詳細地說明本發明，附圖中圖1和2是構造雷射器的兩個圖；圖3是用於限定傳感器平臺的樞轉運動的止動盤；圖4是具有步進電機和位置轉換系統的構造雷射器的實施方式；圖fe至5d是限定位置的各種位置；圖6示出其中樞轉電機安裝到軸的構造雷射器；以及圖7示出其中傳感器平臺通過設置在頭部組件上的接合銷樞轉的構造雷射器。
具體實施例方式在圖1和2中，在兩個圖中示出構造雷射器1，一個從前視圖示出，一個從右視圖 示出。構造雷射器1包括呈殼體形式的基部2。作為用於產生雷射平面的裝置的雷射單元 3利用樞轉系統4被可樞轉地安裝到基部2，樞轉系統4可以是球形接頭或萬向節。樞轉系 統4允許雷射單元3繞X軸和Y軸旋轉，因此沿兩個方向傾斜。雷射單元3包括中空軸5。 樞轉系統4附連到軸5的近似中部。軸5具有下端6和上端7。雷射準直儀單元8位於中 空軸5的內部中的下端6處。雷射準直儀單元8包括雷射二極體9和準直儀10。雷射準直 儀單元8產生準直雷射束11，該準直雷射束沿軸5的中心線12指向頭部組件13。頭部組 件13包括透光罩14，透光罩14利用兩個軸承15、16可旋轉地安裝到軸5。呈稜柱形式的 雷射束轉向器17—體形成在罩14中。雷射束轉向器17將雷射束11的方向改變90°角。 由於雷射束轉向器17隨罩14 一起旋轉，因此，產生雷射平面，在該雷射平面中，雷射束11 繞旋轉軸線18旋轉。所述旋轉軸線18與軸5的中心線12同心。頭部組件13還包括旋轉 電機，該旋轉電機經由線帶使罩旋轉(參見圖6)。罩14以每分鐘幾千轉(rpm)的速度旋 轉。在軸5的下端6處，設置傾斜傳感器19。傾斜傳感器19利用印刷電路板21安裝 到傳感器平臺20。傳感器平臺20利用兩個軸承22、23可樞轉地安裝到軸5。軸承22、23 間隔開一個軸承寬度的距離D。因此，傳感器平臺20和傾斜傳感器19可繞旋轉軸線18樞 轉。軸承22、23之間的距離D使傾斜傳感器19的樞轉運動穩定。傾斜傳感器19與旋轉軸 線18對準。為了實現該對準，傳感器平臺20的內表面M優選與旋轉軸線18優選平行，並 且還與附連有印刷電路板21的安裝表面25垂直。為了進一步穩定傾斜傳感器19的樞轉 運動，在印刷電路板21上直接設置與傾斜傳感器19相對的配重26。在具體的實施方式中， 配重沈可由第二傾斜傳感器取代。該第二傾斜傳感器可與前述的傾斜傳感器19平行地使 用，或者可被用作備用物。傾斜傳感器19被構造成測量旋轉軸線18相對於X軸和Y軸的 傾斜。在具體的實施方式中，可在傳感器平臺20上設置兩個傾斜傳感器，其中，一個傾斜傳 感器測量旋轉軸線18繞X軸的傾斜，另一個傾斜傳感器測量旋轉軸線3繞Y軸的傾斜。這 兩個傾斜傳感器可相對於旋轉軸線18被布置成彼此呈直角。
傳感器平臺20通過樞轉電機27樞轉。樞轉電機27為直流(DC)電機。小齒輪觀 安裝到樞轉電機27的驅動軸29，並且與傳感器平臺20上的外齒系統30嚙合。在傳感器 平臺20的底側31上，設置銷32來限制傳感器平臺20的樞轉運動。銷32與止動件33接 合，止動件33設置在止動盤34上的兩個徑向限定的相對位置M、55上(參見圖幻。在該 圖中，止動盤示出為與軸5分離。在具體實施方式
中，止動盤34可被設置成軸5的一體部。 這些限定位置M、55與雷射單元3可繞其旋轉的X軸和Y軸對準。在操作時，樞轉電機27 始終被供以最小的電流，以產生推動銷32抵靠其中一個止動件33的機械轉矩。主印刷電路板35安裝到軸5的下端6。控制單元36、雷射二極體9、樞轉電機27 和傾斜傳感器19 (經由電線37和另外的印刷電路板21)與該主印刷電路板35附連和/或 連接。兩個相互垂直的調平臂38、39附連到止動盤34。調平臂38、39設置有調平銷40、 41，調平銷40、41與調平驅動裝置接合，用於使雷射單元3相對於X軸和Y軸傾斜。調平驅 動裝置未在圖中示出。在啟動階段，傾斜傳感器19樞轉至作為主位置M的一個限定位置中(參見圖3)。 雷射單元3根據傾斜傳感器19在主位置M中的測量結果而樞轉。為了在雷射單元3運轉 的同時校準傾斜傳感器19，傾斜傳感器19根據觸發信號樞轉到另一限定位置55中，以在該 位置處測量旋轉軸線18的傾斜，該傾斜用作對傾斜傳感器19在主位置M中的傾斜測量的 補償值。之後，傾斜傳感器19向後樞轉至其主位置M。觸發信號可以是溫度變化、定時器 的周期信號和/或在構造雷射器的啟動階段產生的信號。止動盤34在圖3中以俯視圖示出。止動盤34在中間具有孔，用於將其安裝到軸 5。設置用於銷32的間隙51，銷32安裝到傳感器平臺20的底側31。間隙51的形狀為環 形盤的一部分。為了將傳感器平臺20的樞轉運動限定在兩個限定位置M、55，設置可供銷 32抵靠的兩個止動件33、52。在具體的實施方式中，在其中一個止動件33中結合磁體53，以吸引銷32。一旦銷 32被吸引，則銷32被保持在止動件33處。不再需要利用樞轉電機27產生轉矩。當傳感器 平臺20被樞轉時，電機力克服磁力，並使傳感器平臺20移動到另一個限定位置55。通過樞 轉電機27施加恆定力，以將傳感器平臺20保持在該限定位置55，直到傾斜測量完成為止。 然後樞轉電機27使傳感器平臺20樞轉回其主位置M，銷32在主位置M處抵靠磁體53。在圖4中，以側視圖示出構造雷射器60的另一個實施方式。在該實施方式中，樞 轉電機27是步進電機。步進數與下一個期望限定位置M、55中的傾斜傳感器19的旋轉對 應。為了能夠重設步進電機27的計數器，使用電氣位置轉換系統61。位置轉換系統61包 括發光二極體(LED) 62和光電檢測器63。LED 62位於傳感器平臺19的底側31，並且與傳 感器平臺20上的印刷電路板21連接。光電檢測器63設置在主印刷電路板35上。在操作 期間，傳感器平臺21樞轉，直到光電檢測器63接收來自LED 62的光為止。這將促使控制 單元36重設樞轉電機27的計數器。傾斜傳感器19然後樞轉到限定位置M、55的其中一 個中。達到限定位置M、55所需要的步進數存儲在控制單元36中，然後用於將傾斜傳感器 19精確地樞轉到限定位置M、55。在這些實施方式中，步進電機27和位置轉換系統61取代前述的圖1和2的銷32 和止動盤34。
如圖3所示，傾斜傳感器19可樞轉到其中的限定位置M、55可相對於旋轉軸線18 彼此完全相反，但限定位置70、71還可彼此成直角(參見圖如)。此外，可設置兩個以上的 限定位置72，如圖恥至5d所示。如上所述，為了非常精確地對旋轉軸線18進行傾斜測量， 限定位置72優選為三以上的奇數。這些限定位置72均勻地分布在與旋轉軸線18同心的 基準圓73上。在圖6的實施方式中，具有頭部組件81的構造雷射器80設置有用於改變雷射束 83的方向的五稜鏡82。五稜鏡82安裝在罩84的頂部上。雷射束83由雷射準直儀單元85 產生，並且通過罩84中的孔99被直接引導到五稜鏡82。傳感器平臺86通過安裝到臂88的樞轉電機87樞轉，臂88設置在軸89的中部一 側上。傳感器平臺86經由兩個徑向軸承22、23安裝到軸89，兩個徑向軸承22、23通過兩 個軸襯90、91保持分開，兩個軸襯90、91與軸承22、23的內圈和外圈接觸。軸襯90、91的 長度略有不同。軸承22、23通過波形彈簧94和放置在槽中的保持環95保持在軸89的上 端92處和下端93處。波形彈簧94偏壓抵靠外軸承16、23的內圈，以在軸承15、16、22、23
上產生預載荷。傾斜傳感器96與旋轉軸線18對準。傳感器平臺86的內表面97有利地布置成與 旋轉軸線18平行，並且被加工成與傾斜傳感器安裝表面98垂直。現在參照圖7，示出了構造雷射器100的另一個實施方式，在該實施方式中，罩101 利用帶輪104經由線帶103或帶通過旋轉電機102旋轉。在罩101的底側105，設置接合銷 106，該接合銷與固定到傳感器平臺108的機械致動器107接合，以使傾斜傳感器109樞轉。 機械致動器107可配置有計數器，以使傾斜傳感器109僅在接合銷106經過某次數之後才 樞轉。在另一個實施方式中，控制單元10被構造成將機械致動器107鎖定在接合銷106 中。旋轉電機102的轉動方向可以被反向，以將傾斜傳感器109樞轉到限定位置M、55，並 且轉回。在每次樞轉運動之後，機械致動器107通過控制單元110與接合銷106分離。之 後，旋轉電機102的速度回復到每分鐘幾千轉的正常運轉水平，以產生雷射平面。在軸112的下端，設置球接頭113，用於將雷射單元114可樞轉地安裝到基部115。
權利要求
1.一種旋轉構造雷射器(1)，具體地為自補償的旋轉構造雷射器，該旋轉構造雷射器 包括 基部(2，115)； 雷射單元(3，114)，所述雷射單元(3，114)用於發射繞旋轉軸線(18)旋轉的雷射束 (11，83)，使得所述旋轉雷射束(11，8；3)限定雷射平面，其中，所述雷射單元(3，114)被形成 並且被可傾斜地布置到所述基部0，115)，以使所述軸線(18)可沿至少一個方向傾斜；以 及 傾斜傳感器(19，96，109)，所述傾斜傳感器用於測量所述軸線(18)的傾斜，所述旋轉構造雷射器的特徵在於，所述傾斜傳感器(19，96，109)由傳感器平臺支撐，所述傳感器平臺可相對於所述雷射 單元繞所述軸線(18)在至少兩個限定樞轉位置(M，55，70-22)之間樞轉，使得所述軸線 (18)的傾斜可由所述傾斜傳感器(19，96，109)在所述至少兩個樞轉位置(M，55，70_22)測量。
2.根據權利要求1所述的旋轉構造雷射器(1)，其特徵在於，所述雷射單元(3，114)被形成為使得所述雷射束(11，8；3)繞所述軸線(18)以至少 120rpm，特別是至少500rpm，尤其至少為IOOOrpm的轉速旋轉。
3.根據前述權利要求中任一項所述的旋轉構造雷射器(1)，其特徵在於，所述旋轉構造雷射器具有計算單元，該計算單元被設計成使得 通過考慮由所述傾斜傳感器(19，96，109)在所述至少兩個樞轉位置(M，55，70-22) 中的每個位置中獲取的測量值得出所述軸線(18)的傾斜值，以及/或者 通過考慮由所述傾斜傳感器(19，96，109)在所述至少兩個樞轉位置(M，55，70-22) 中的每個位置中獲取的測量值校準所述傾斜傳感器(19，96，109)，特別是重新校準所述傾 斜傳感器(19，96，109)。
4.根據前述權利要求中任一項所述的旋轉構造雷射器(1)，其特徵在於，所述至少兩個樞轉位置(54，55，70-22)中的兩個位置(M，55)相對於所述軸線(18) 彼此徑向相對。
5.根據前述權利要求中任一項所述的旋轉構造雷射器(1)，其特徵在於，所述傳感器平臺可相對於所述雷射單元繞所述軸線(18)在至少三個限定樞轉位置 (54,55,70-22)之間樞轉，特別是在奇數個限定樞轉位置(7 之間樞轉。
6.根據權利要求5所述的旋轉構造雷射器(1)，其特徵在於，所述雷射單元(3，114)包括與所述軸線(18)同心的軸(5，89，112)，其中，所述傳感器 平臺(20,86,108)被可樞轉地安裝到所述軸(5,89,112).
7.根據權利要求5或6所述的旋轉構造雷射器(1)，其特徵在於，兩個軸承(22,23)位於所述傳感器平臺(20,86,108)與所述軸(5,89,112)之間，其 中，所述軸承(22，2；3)被布置成彼此相距至少一個軸承寬度的距離(D)。
8.根據前述權利要求中任一項所述的旋轉構造雷射器(1)，其特徵在於，在所述傾斜傳感器(19，96，109)與所述傳感器平臺(20，86，108)之間設置印刷電路板 01)。
9.根據前述權利要求中任一項所述的旋轉構造雷射器(1)，其特徵在於，所述傾斜傳感器(109)通過接合銷(106)樞轉，所述接合銷設置在所述雷射單元(114) 的旋轉部(101)上。
10.根據權利要求1至8中任一項所述的旋轉構造雷射器(1)，其特徵在於，所述傳感器平臺通過樞轉電機(27，87)樞轉。
11.一種用於確定旋轉構造雷射器(1)的旋轉軸線(18)的傾斜的方法，所述旋轉構造 雷射器⑴包括 基部(2，115)； 雷射單元(3，114)，所述雷射單元(3，114)用於發射繞所述旋轉軸線(18)旋轉的激 光束(11，83)，使得所述旋轉雷射束(11，8；3)限定雷射平面，其中，所述雷射單元(3，114)被 形成並被可傾斜地布置到所述基部0，115)，以使所述軸線(18)可傾斜；以及 傾斜傳感器(19，96，109)，所述傾斜傳感器用於測量所述軸線(18)的傾斜，所述方法的特徵在於，所述傾斜傳感器(19，96，109)可相對於所述雷射單元繞所述軸線(18)在至少兩個限 定樞轉位置(M，55，70-22)之間樞轉，並且在於， 通過所述傾斜傳感器(19，96，109)在所述至少兩個樞轉位置(54，55，70-22)中的每 個位置中獲取所述傾斜的測量值，並且 通過考慮由所述傾斜傳感器(19，96，109)在所述至少兩個樞轉位置(M，55，70-22) 中獲取的測量值得出用於所述軸線(18)的傾斜值，以及/或者 通過考慮由所述傾斜傳感器(19，96，109)在所述至少兩個樞轉位置(M，55，70-22) 中獲取的測量值校準所述傾斜傳感器(19，96，109)，特別是重新校準所述傾斜傳感器(19， 96，109)。
12.根據權利要求11所述的方法，其特徵在於，所述至少兩個樞轉位置(54，55，70-22)中的兩個位置(M，5 相對於所述軸線(18) 彼此相對。
13.根據權利要求11或12所述的方法，其特徵在於，所述傾斜傳感器(19，96，109)可相對於所述雷射單元繞所述軸線(18)在至少三個限 定樞轉位置64,55,70-2 之間樞轉，特別是在奇數個限定樞轉位置(7 之間樞轉，並且 其中，通過考慮由所述傾斜傳感器(19，96，109)在所述限定樞轉位置(54，55，70-22)中的 每個位置中獲取的測量值得出用於所述軸線(18)的所述傾斜值。
14.根據權利要求11至13中任一項所述的方法，其特徵在於，在所述限定樞轉位置處的所述傾斜測量的結果被用於校準所述傾斜傳感器(19， 96，109)的靈敏度。
15.根據權利要求11至14中任一項所述的方法，其特徵在於，所述雷射束(11，83)繞所述軸線(18)以至少120rpm，特別是至少500rpm，尤其至少為 IOOOrpm的轉速旋轉。
全文摘要
本發明涉及一種旋轉構造雷射器(1)，具體地為自補償的構造雷射器。該構造雷射器(1)包括基部(2，115)；雷射單元(3，114)，所述雷射單元(3，114)用於發射繞旋轉軸線(18)旋轉的雷射束(11，83)，使得所述旋轉雷射束(11，83)限定雷射平面。其中，雷射單元(3，114)被形成並且被可傾斜地布置到基部(2，115)，以使軸線(18)可沿至少一個方向傾斜。另外，提供傾斜傳感器(19，96，109)，該傾斜傳感器用於測量軸線(18)的傾斜。根據本發明，傾斜傳感器(19，96，109)由傳感器平臺支撐，傳感器平臺可相對於雷射單元繞軸線(18)在至少兩個限定樞轉位置(54，55，70-22)之間樞轉，使得軸線(18)的傾斜可由傾斜傳感器(19，96，109)在至少兩個樞轉位置(54，55，70-22)測量。
文檔編號G01C15/00GK102089619SQ200980126706
公開日2011年6月8日 申請日期2009年7月10日 優先權日2008年7月10日
發明者克裡斯多佛·科萊扎, 馬丁·溫尼斯託菲爾 申請人:萊卡地球系統公開股份有限公司