表面清潔裝置製造方法

2023-05-19 21:36:11 4

表面清潔裝置製造方法
【專利摘要】一種表面清潔裝置，該裝置包括：具有機載過氧化氫發生器的殼體；清潔墊，附接至所述殼體的底面；流體供應箱；以及過氧化氫發生器，通過儲存在表面清潔裝置的機載供應箱內的流體就地產生過氧化氫溶液，並進一步將所產生的過氧化氫溶液輸送至清潔墊，該清潔墊附接至表面清潔裝置的殼體。過氧化氫發生器包括二氧化鈦表面、流體分配器以及紫外光源。本實用新型的表面清潔裝置提供了改善的清潔操作。
【專利說明】表面清潔裝置
[0001] 相關申請的交叉引證
[0002] 本申請要求於2013年6月11日提交的美國臨時專利申請第61/833, 593號的權 益，其全部內容通過引證方式結合於此。

【技術領域】
[0003] 本實用新型涉及一種表面清潔裝置，特別地，涉及一種具有過氧化氫發生器的表 面清潔裝置。

【背景技術】
[0004] 表面清潔裝置（諸如蒸汽拖把和手持式蒸汽機）構造用於清潔種類廣泛的普通家 用表面，諸如裸露的地面（包括瓷磚、實木地板、複合地板、乙烯基地板以及油地氈地面）， 還有地毯、毛毯、工作檯面、灶臺面等。通常，蒸汽拖把具有用於儲存液體（通常是水）的至 少一個液體箱或儲液器，該液體箱或儲液器通過流動控制機構（諸如泵或閥）流體地連接 至蒸汽發生器。蒸汽發生器包括用於加熱液體以產生蒸汽的加熱器，蒸汽可穿過蒸汽出口 被導向待清潔表面，該蒸汽出口通常位於在使用期間接合待清潔表面的底部（foot)或清 潔頭中。蒸汽通常被施加於清潔墊的附接至清潔頭的一側，而清潔墊的相對側用於擦拭待 清潔表面。蒸汽浸透清潔墊，並且潮溼的清潔墊橫穿待清潔表面擦拭，以移除存在於表面上 的汙垢、碎屑以及其他汙物。 實用新型內容
[0005] 本實用新型涉及表面清潔裝置，該表面清潔裝置包括：殼體，該殼體適於移動通過 待清潔表面；清潔墊，該清潔墊附接至殼體的底面；流體供應箱；以及過氧化氫發生器，該 過氧化氫發生器設置成通過殼體與供應箱流體連通。過氧化氫發生器包括：二氧化鈦表面； 流體分配器，該流體分配器構造成將流體從供應箱輸送至二氧化鈦表面；以及紫外光源，該 紫外光源構造成將紫外光直接發射至二氧化鈦表面上，其中，二氧化鈦表面上的流體暴露 於由紫外光源發射的紫外光而產生過氧化氫溶液，該過氧化氫溶液被輸送至清潔墊。
[0006] 進一步地，所述殼體包括下部殼體，所述下部殼體與具有手柄的上部殼體能移動 地耦接，並且其中，所述清潔墊附接至所述下部殼體。
[0007] 進一步地，所述清潔墊設置有與過氧化氫起反應的試劑。
[0008] 進一步地，所述試劑包括鐵催化劑。
[0009] 進一步地，所述二氧化鈦表面設置在所述清潔墊上。
[0010] 進一步地，所述表面清潔裝置包括蒸汽發生器。
[0011] 進一步地，所述表面清潔裝置進一步包括至少一個蒸汽出口，所述至少一個蒸汽 出口設置在所述殼體中，以用於將蒸汽輸送至所述清潔墊。
[0012] 進一步地，所述至少一個蒸汽出口進一步與所述過氧化氫發生器流體耦接，使得 所述蒸汽在被輸送至所述清潔墊之前與所述過氧化氫溶液混合。
[0013] 進一步地，所述過氧化氫發生器包括限定在所述殼體內的第一腔，所述二氧化鈦 表面和所述紫外光源位於所述第一腔中。
[0014] 進一步地，所述蒸汽發生器包括限定在所述殼體內的第二腔，並且所述蒸汽發生 器包括安裝在所述第二腔內的加熱元件。
[0015] 進一步地，所述第一腔和所述第二腔與所述供應箱流體連通，使得所述第一腔和 所述第二腔被供應有來自所述供應箱的流體。
[0016] 進一步地，所述表面清潔裝置進一步包括閥，所述閥用於選擇性地控制從所述供 應箱至所述第一腔和所述第二腔中的一者的流體供應。
[0017] 進一步地，所述第一腔和所述第二腔與所述至少一個蒸汽出口流體連通。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018] 在附圖中：
[0019]圖1是根據本實用新型第一實施方式的表面清潔裝置的示意圖；
[0020] 圖2是根據本實用新型第二實施方式的以蒸汽拖把形式的表面清潔裝置的主視 立體圖；
[0021] 圖3是用於圖2的蒸汽拖把的底部組件的示意圖；
[0022] 圖4是可用於根據本實用新型第三實施方式的圖2的蒸汽拖把10的底部14的示 意圖；以及
[0023] 圖5是可用於根據本實用新型第四實施方式的圖2的蒸汽拖把10的底部14的示 意圖。

【具體實施方式】
[0024] 圖1是根據本實用新型第一實施方式的以蒸汽拖把10的形式的表面清潔裝置的 各個功能系統的示意圖。當參考本文的蒸汽拖把10時，表面清潔裝置可替換地構造為手持 式蒸汽應用裝置或構造為具有手持式配件工具的裝置，該手持式配件工具通過蒸汽分配軟 管連接至盒（canister，罐）或其他可攜式裝置。此外，表面清潔裝置可構造成分配液體而 不是蒸汽，和/或可附加地具有攪動能力，包括洗滌和/或清掃、吸塵能力、和/或抽取能 力。
[0025] 蒸汽拖把10包括蒸汽產生系統24、液體分配系統26以及蒸汽輸送系統28,該蒸 汽產生系統用於從液體產生蒸汽，該液體分配系統用於儲存液體並將液體輸送至蒸汽產生 系統24,該蒸汽輸送系統用於將蒸汽輸送至待清潔表面。
[0026] 蒸汽產生系統24可包括從液體產生蒸汽的蒸汽發生器30。蒸汽發生器30可包括 入口 32和出口 34以及在入口 32與出口 34之間用於使液體沸騰的加熱器36。蒸汽發生 器30的一些非限制性實例包括但不限於急速加熱器、汽鍋、浸沒式加熱器以及流過式蒸汽 發生器。蒸汽發生器30可電耦接至電源38 (諸如電池），或通過電源線插入家用插座。
[0027] 液體分配系統26可包括用於儲存一定量液體的至少一個供應箱40。液體可包含 一種或多種任意合適的清潔液體，包括但不限於水、合成物、濃縮洗滌劑、稀釋洗滌劑等及 其混合物。例如，液體可包括水與濃縮洗滌劑的混合物。液體分配系統26可進一步包括多 個供應箱，諸如一個箱容納水並且另一個箱容納清潔劑。
[0028] 液體分配系統26可包括流動控制器42,該流動控制器用於控制穿過流體管道44 的液體的流動，該流體管道耦接在供應箱40的出口 46與蒸汽發生器30的入口 32之間。致 動器48可設置成致動流動控制器42並將液體分配至蒸汽發生器30。
[0029] 在一個構造中，液體分配系統26可包括重力供給系統，並且流動控制器42可包括 閥50,藉此當閥50打開時，液體將在重力作用下穿過液體管道44流動至蒸汽發生器30。致 動器48可操作地耦接至閥50,這樣使得按壓致動器48將打開閥50。閥50可被機械地致 動，諸如通過設置推桿，該推桿具有耦接至致動器48的一端並具有與閥50對齊的另一端， 這樣使得按壓致動器48迫使推桿打開閥50。可替換地，閥50可被電致動，諸如通過在閥 50與電源38之間設置電開關，當致動器48被致動時該電開關選擇性地關閉，因此為閥50 供電以移動至打開位置。
[0030] 在另一構造中，流動控制器42可包括將液體從供應箱40分配至蒸汽發生器30的 泵52。致動器48可操作地耦接至泵52,這樣使得按壓致動器48將啟動泵52。泵52可被 電致動，諸如通過在泵52與電源38之間設置電開關，當致動器48被致動時該電開關選擇 性地關閉，由此啟動泵52。
[0031] 蒸汽輸送系統28可包括用於將蒸汽輸送至待清潔表面的至少一個蒸汽出口 54 並包括耦接在蒸汽發生器30的出口 34與至少一個蒸汽出口 54之間的流體管道56。至少 一個蒸汽出口 54可包括任何結構，諸如穿孔集合管或至少一個管嘴；還可設置多個蒸汽出 口。在使用中，所產生的蒸汽通過在蒸汽發生器30內產生的壓力被推出蒸汽發生器30的 出口 34,並且可選擇地，通過由泵52或單獨的風扇（未示出）所產生的壓力而被推出出口。 蒸汽流動穿過流體管道56並從至少一個蒸汽出口 54流出。
[0032] 清潔墊58可在蒸汽出口 54上方可拆卸地附接至蒸汽拖把10。在使用中，清潔墊 58被來自蒸汽出口 54的蒸汽浸透，並且潮溼的清潔墊58在待清潔表面上擦拭以移除存在 於表面上的汙垢。清潔墊58可設置有在待清潔表面上增強洗滌作用的特徵，以幫助疏鬆表 面上的汙垢。清潔墊58可為一次性的或可重複使用的，並且可進一步設置有隨著蒸汽輸送 至待清潔表面的清潔劑或合成物。例如，清潔墊58可包括用清潔劑預溼潤的一次性薄片。 清潔劑可構造成與蒸汽相互作用，諸如具有通過蒸汽溫度和/或溼度來活化或滅活的至少 一種成分。在一個實例中，蒸汽溫度和/或溼度可起作用以從清潔墊58釋放清潔劑。
[0033] 蒸汽拖把10還包括機載過氧化氫發生器60,該過氧化氫發生器用儲存在蒸汽拖 把10上的水就地產生過氧化氫。然後所產生的過氧化氫被施加至待清潔表面。特別地， 清潔墊58可用於將過氧化氫施加至表面上的有機汙物和/或染料基汙物。過氧化氫通過 將化合物分解成二氧化碳和水而破壞有機化合物，並且可處理具有不穩定化學鍵結構（例 如，雙結碳）的任何汙物，包括可見汙物和臭氣兩者。
[0034] 過氧化氫發生器60包括水源62、至少一個二氧化鈦（TiO2)表面64以及至少一個 紫外（UV)光源66,該水源可儲存在蒸汽拖把10上。UV光源66將UV光發射至TiO 2表面 64上，該TiO2表面在有水存在的情況下起到催化劑的作用，在UV光下用於水與氧氣（O 2)之 間的氧化反應。水可以液體形式或蒸汽形式供應至TiO2表面64。當TiO2表面64在有水 分子（H 2O)和氧氣（O2)存在的情況下吸收UV光時，水分子（H2O)依照如下的反應被轉化成 過氧化氫（H 2O2):
[0035] 2H20+〇2 - 2H2〇2
[0036] 所產生的過氧化氫可為液體形式、或液體與蒸汽形式的混合物，並且該過氧化氫 可輸送至清潔墊58或直接輸送至待清潔表面。儘管水源62可需要周期性的補給，但TiO 2 表面64通過反應保持不變，並且因此無需替換或補給。
[0037] 為了產生有效量的過氧化氫，UV光源66可輸出範圍在1至100瓦的UV光束，以 實現在UVC範圍（110至280納米）內的一頻率下的高能輸出。UV光源66可電耦接至電源 38或耦接至該UV光源自身專用的電源。
[0038] 過氧化氫發生器60可一體形成有一個或多個蒸汽產生系統24、液體分配系統26 以及蒸汽輸送系統28。例如，水源62可包括供應箱40,並且所產生的過氧化氫可被引導穿 過蒸汽出口 54,這樣使得過氧化氫在被輸送至清潔墊58之前與所產生的蒸汽混合。可替換 地，過氧化氫發生器60可為具有專用水源62以及輸送出口的單獨的系統。
[0039] 根據以下方法，在圖1中示出的蒸汽拖把10可用於有效地產生過氧化氫，以從待 清潔表面移除汙物和臭氣。所討論的步驟的順序僅用於說明的目的，並不意味著以任何方 式限制該方法，可以理解在不損害本實用新型的前提下，這些步驟可以不同的邏輯順序進 行，可包括附加的步驟或插入的步驟，或者所描述的步驟可分成多個步驟。
[0040] 清潔墊58在蒸汽出口 54上方附接至蒸汽拖把10,供應箱40填充有液體，並且蒸 汽發生器30和UV光源66耦接至電源38。在致動器48致動時，液體流動至蒸汽發生器30 並被加熱至液體的沸點以產生蒸汽。液體還流動至過氧化氫發生器60並被轉化成過氧化 氫。蒸汽和過氧化氫穿過清潔墊58。隨著蒸汽穿過清潔墊58, 一部分蒸汽可在到達地面之 前回到液體形式。輸送至地面的蒸汽也回到液體形式。隨著潮溼的清潔墊58在待清潔表 面上擦拭，表面上的過量液體和汙垢被清潔墊58吸收。
[0041] 清潔墊58可進一步設置有清潔劑或合成物，該清潔劑或合成物可與過氧化氫相 互作用以進一步增強有機化合物的清潔和/或分解。在一個實例中，清潔墊58設置有鐵催 化劑，該鐵催化劑將在有過氧化氫存在的情況下氧化並以如下的芬頓（Fenton)反應來破 壞有機化合物 ：
[0042] Fe2++H202 -Fe3++0H· +0『
[0043] Fe3++H202 -Fe2++ · 00Η+Η.
[0044] 圖2是根據本實用新型第二實施方式的以蒸汽拖把10的形式的表面清潔裝置的 主視立體圖。為了參照附圖進行說明的目的，術語"上"、"下"、"右"、"左"、"後"、"前"、"堅 直"、"水平"、"內"、"外"及其派生詞應該與本實用新型有關，如在圖2中從在蒸汽拖把10後 面的使用者的視角來定向，該視角限定蒸汽拖把10的後方。然而，可以理解的是，除非清楚 地指明是相反地，本實用新型可採取各種可替換的定向。還可以理解的是，在附圖中示出的 以及在下面的說明書中描述的特定裝置和過程是在所附的權利要求中限定的本實用新型 理念的簡單實例實施方式。因此，除非權利要求清楚地另外地指明，涉及本文所公開的實施 方式的特定尺寸和其他物理特性不被認為是限制性的。
[0045] 蒸汽拖把10包括安裝至下部清潔底部14的上部殼體12,該下部清潔底部適於移 動通過待清潔表面。殼體12和底部14均可支撐關於圖1所討論的各個功能系統的一個或 多個部件。細長手柄18可從殼體12伸出，在手柄18的端部上設置有把手20以有助於使 用者移動蒸汽拖把10。耦接聯接件22形成在殼體12的相對端部處並且將底部14可移動 地安裝至殼體12上。在本文示出的實施方式中，耦接聯接件22可包括萬向接頭，這樣使得 底部14可圍繞與殼體12有關的至少兩個軸線樞轉。
[0046] 圖3是圖2的底部14的示意圖。底部14可包括殼體70並且可安裝清潔墊58,該 殼體適於在待清潔表面上移動並且可承載蒸汽發生器30和過氧化氫發生器60。
[0047] 過氧化氫發生器60包括限定在殼體70內的腔72, TiO2表面64和UV光源66放 置在該腔中。UV光源66可為UV燈泡的形式，該燈泡朝向TiO 2表面64發射UV光，並且該 燈泡可通過電導體74與電源38耦接，該電導體延伸通過耦接聯接件22。
[0048] 蒸汽發生器30可包括具有腔76和電加熱元件78的急速加熱器，該腔限定在殼體 70內，該電加熱元件安裝在腔76內，並且該電加熱元件可通過電導體74與電源38耦接。 加熱元件78構造成快速地加熱液體並將液體轉化成蒸汽。自動調溫器（thermostat)(未示 出）可連接至加熱元件78並且適於基於期望的性能指標來調節加熱元件78的操作溫度。 例如，自動調溫器可調節操作溫度以匹配待轉化成蒸汽的液體的沸點。
[0049] 流體管道44可延伸通過耦接聯接件22並且可包括隨手柄18的運動而彎曲的柔 性管。例如，在一個構造中，流體管道44可包含柔性的矽樹脂管、聚氨酯管或聚氯乙烯管。 在底部14內，流體管道44在第一 T形管道80處可分支成第一入口管道82和第二入口管 道84,該第一入口管道將液體供應至過氧化氫發生器60,該第二入口管道將液體供應至蒸 汽發生器30。
[0050] 液體通過入口管道82進入過氧化氫發生器60的腔72,落在TiO 2表面64上，並且 暴露至來自UV光源66的UV光。入口管道82可包括孔口節流器（未示出），該孔口節流器 用於限制液體進入腔72中的流速，以實現液體在TiO 2表面64上的滴注型分散。過氧化氫 發生器60的出口管道86從腔72延伸至第二T形管道88。
[0051] 來自T形管道80的液體還通過入口管道84移動至加熱元件78,液體從該入口管 道下落至位於蒸汽發生器的腔76中的加熱元件78上。入口管道84可包括孔口節流器（未 示出），該孔口節流器用於限制液體進入急速加熱器的腔76中的流速，以實現液體在加熱 元件上的滴注型分散。蒸汽發生器30的出口管道90從腔76延伸至第二T形管道88。
[0052] 在第二T形管道88處，所產生的過氧化氫可與所產生的蒸汽混合，並且注入H2O2 的蒸汽可通過蒸汽出口 54施加至清潔墊58上，該蒸汽出口可設置在殼體70的底面上。
[0053] 蒸汽拖把10可設置有可視標記92、94,以將蒸汽發生器30和/或過氧化氫發生器 60的功能狀態的指示提供給使用者。例如，第一燈92可構造成當蒸汽發生器30到達用於 產生蒸汽的臨界操作溫度時點亮，並且第二燈94可構造成當過氧化氫發生器60產生過氧 化氫時點亮。在一個構造中，第一燈92可與自動調溫器（未示出）電耦接，並且第一燈構造 成僅在蒸汽發生器30到達如由自動調溫器確定的預定操作溫度之後點亮，並且第二燈94 可構造成當UV光源66開啟時點亮。在另一構造（未示出）中，蒸汽標記92可包括在底部 14上方分配一部分蒸汽的通氣孔，使得一些蒸汽對於使用者可見，並且過氧化氫標記94可 包括光出口，該光出口將來自光源66的一部分UV光分配至底部14的頂部，使得一些UV光 對於使用者可見。在又一構造（未示出）中，過氧化氫標記94可包括在殼體70上的觀察 口，該觀察口允許一段清潔墊58可見。該段清潔墊58可容納與過氧化氫反應而產生可觀 測結果的化學物，諸如顏色變化或可發出撕撕聲的氣泡。
[0054] 根據以下方法，在圖2至圖3中示出的蒸汽拖把10可用於有效地產生過氧化氫， 以從待清潔表面移除汙物和臭氣。所討論的步驟的順序僅用於說明的目的，並不意味著以 任何方式限制該方法，可以理解在不損害本實用新型的前提下，這些步驟可以不同的邏輯 順序來進行，可包括附加的步驟或插入的步驟，或者所描述的步驟可分成多個步驟。
[0055] 在操作中，將清潔墊58附接至底部14,用液體填充供應箱40,並且將電源線38插 入家用插座中。在按壓致動器48時，液體從供應箱40流動至蒸汽發生器30和過氧化氫發 生器60。在蒸汽發生器30中，通過閃蒸（flash off)加熱元件78將液體加熱至液體的沸 點以產生蒸汽，而在過氧化氫發生器60內，將液體暴露至UV光和TiO2催化劑以產生過氧 化氫。所產生的蒸汽與所產生的過氧化氫在第二T形管道88處混合，並且將注入H 2O2的蒸 汽從蒸汽出口 54朝向待清潔表面排出。隨著注入H2O2的蒸汽穿過清潔墊58, 一部分蒸汽 可在到達地面之前回到液體形式。輸送至地面的蒸汽也回到液體形式。隨著潮溼的清潔墊 58在待清潔表面上擦拭，表面上的過量液體和汙垢被清潔墊58吸收。
[0056] 圖4是可用於根據本實用新型第三實施方式的圖2的蒸汽拖把10的底部14的示 意圖。在這個實施方式中，單獨的開關96可設置成選擇性地打開UV光源66,這樣使得使用 者可獨立於蒸汽發生器30的操作而控制過氧化氫發生器60的操作。在一個實例中，開關 96可包括變阻器，以控制施加至TiO 2表面64的UV光的量，該變阻器間接地控制過氧化氫 的產生速率。在這個實例中，蒸汽拖把10的使用者可根據待從表面移除的汙垢的類型來選 擇由UV光源66發射的UV光的強度。可選擇地，閥98可設置代替第一 T形管道80,以用於 選擇性地將全部液體引導至蒸汽發生器30或者在蒸汽發生器30與過氧化氫發生器60之 間劃分液體，並且該閥可與開關96耦接，使得當開關96閉合以打開UV光源66時，閥98打 開以將一部分液體供應至過氧化氫發生器60。
[0057] 圖5是可用於根據本實用新型第四實施方式的圖2的蒸汽拖把10的底部14的示 意圖。在這個實施方式中，TiO2催化劑被施加至清潔墊58或以其他方式與清潔墊結合，使 得清潔墊58的頂部或內側（S卩，面向底部14的一側）起到用於過氧化氫發生器60的TiO 2 表面64的作用。UV光源66位於底部14的底部上並且將UV光照射至清潔墊58上。隨著 蒸汽從蒸汽出口 54被施加至清潔墊58,至少一些水分子被氧化成過氧化氫。所產生的過氧 化氫與蒸汽混合，並且注入H2O 2的蒸汽通過清潔墊58施加至待清潔表面。
[0058] 本文所公開的表面清潔裝置提供了改善的清潔操作。所描述的表面清潔裝置的一 些實施方式在實踐中可實現的一個優點是，可用儲存在蒸汽拖把10中的水就地產生過氧 化氫。現有技術已經做出直接在待清潔表面上產生過氧化氫的嘗試。然而，這需要用二氧 化鈦（TiO 2)預處理表面，並然後將水和UV光添加至被處理的表面上。如果任何TiO2在清 潔操作之後殘留在表面上，則TiO 2的這些殘留的量可改變表面的外觀和感覺。
[0059] 所描述的表面清潔裝置的一些實施方式在實踐中可實現的另一優點是，可用使用 者家中容易獲得的消耗品（水）來容易地生產過氧化氫。這避免了使用者購買、儲存以及 裝載需消耗的過氧化氫的需要。此外，可在表面清潔裝置上使用單個箱，該箱將多種化學處 理劑提供至表面；特別地，該箱可儲存水，該水可作為液體或蒸汽或者被轉化成過氧化氫而 施加至待清潔表面。
[0060] 本文描述的表面清潔裝置通過在機器上執行反應而避免了這些問題，並且該裝置 限定TiO 2的位置不直接接觸待清潔表面。所產生的過氧化氫可移除表面的有機汙物、染料 型汙物以及臭氣。由於蒸汽可成功地處理過氧化氫所未處理的其他類型的汙物，故蒸汽伴 隨過氧化氫的施加也是有益的。然而，儘管由於蒸汽可處理過氧化氫無法處理的其他類型 的汙物，但在蒸汽拖把10上設置過氧化氫發生器60可能會提供更全面的清潔性能，因此對 於一些應用，表面清潔裝置僅需要將過氧化氫分配至待清潔表面。例如，過氧化氫發生器60 可設置在Swiffer?Wet Jet或其他液體分配型地面拖把上。
[0061] 雖然已經結合本實用新型的某些特殊實施方式具體地描述了本實用新型，但應該 理解的是，這些實施方式是用於說明而非用於限制。在不背離由所附權利要求限定的本實 用新型的精神的前提下，在前文的公開以及附圖範圍內的合理變化以及修改是可行的。因 此，除非權利要求清楚地另外地指明，關於本文所公開實施方式的特殊尺寸以及其他物理 特性被認為是非限制性的。
【權利要求】
1. 一種表面清潔裝置，其特徵在於，所述表面清潔裝置包括： 殼體，所述殼體適於移動通過待清潔表面； 清潔墊，所述清潔墊附接至所述殼體的底面； 流體供應箱；以及 過氧化氫發生器，所述過氧化氫發生器設置成通過所述殼體與所述供應箱流體連通， 所述過氧化氫發生器包括： 二氧化鈦表面； 流體分配器，所述流體分配器構造成將流體從所述供應箱輸送至所述二氧化鈦表面； 以及 紫外光源，所述紫外光源構造成將紫外光直接發射至所述二氧化鈦表面上； 其中，所述二氧化鈦表面上的流體暴露於由所述紫外光源發射的紫外光而產生過氧化 氫溶液，所述過氧化氫溶液被輸送至所述清潔墊。
2. 根據權利要求1所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述殼體包括下部殼體，所述下 部殼體與具有手柄的上部殼體能移動地耦接，並且其中，所述清潔墊附接至所述下部殼體。
3. 根據權利要求1所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述清潔墊設置有與過氧化氫 起反應的試劑。
4. 根據權利要求3所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述試劑包括鐵催化劑。
5. 根據權利要求1所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述二氧化鈦表面設置在所述 清潔墊上。
6. 根據權利要求1至5中任一項所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述表面清潔裝置 包括蒸汽發生器。
7. 根據權利要求6所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述表面清潔裝置進一步包括 至少一個蒸汽出口，所述至少一個蒸汽出口設置在所述殼體中，以用於將蒸汽輸送至所述 清潔墊。
8. 根據權利要求7所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述至少一個蒸汽出口進一步 與所述過氧化氫發生器流體耦接，使得所述蒸汽在被輸送至所述清潔墊之前與所述過氧化 氫溶液混合。
9. 根據權利要求7所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述過氧化氫發生器包括限定 在所述殼體內的第一腔，所述二氧化鈦表面和所述紫外光源位於所述第一腔中。
10. 根據權利要求9所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述蒸汽發生器包括限定在所 述殼體內的第二腔，並且所述蒸汽發生器包括安裝在所述第二腔內的加熱元件。
11. 根據權利要求10所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述第一腔和所述第二腔與 所述供應箱流體連通，使得所述第一腔和所述第二腔被供應有來自所述供應箱的流體。
12. 根據權利要求11所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述表面清潔裝置進一步包 括閥，所述閥用於選擇性地控制從所述供應箱至所述第一腔和所述第二腔中的一者的流體 供應。
13. 根據權利要求11所述的表面清潔裝置，其特徵在於，所述第一腔和所述第二腔與 所述至少一個蒸汽出口流體連通。
【文檔編號】A47L11/34GK204071971SQ201420310005
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年6月11日 優先權日:2013年6月11日
【發明者】埃裡克·J·漢森, 麥可·T·迪蘭, 胡安·C·弗洛雷斯-埃斯克裡瓦諾, 傑弗裡·A·斯科爾滕 申請人:碧潔家庭護理有限公司