內嵌式觸摸顯示裝置及其製作方法
2023-05-10 12:02:21 1
內嵌式觸摸顯示裝置及其製作方法
【專利摘要】本申請實施例提供了一種內嵌式觸摸顯示裝置及其製作方法，該顯示裝置包括：陣列基板、彩膜基板和位於陣列基板和彩膜基板之間的液晶層；所述彩膜基板包括：第一基板；位於第一基板朝向陣列基板一側的黑色矩陣層；位於黑色矩陣層朝向陣列基板一側的色阻層；位於色阻層朝向陣列基板一側的觸控電極層，觸控電極層包括：觸控電極及與觸控電極電連接的電極連接線，且觸控電極的製作材料中包括兩性金屬。由此可見，本發明實施例至少達到以下的效果之一：本發明實施例所提供的顯示裝置，在製作彩膜基板的過程中，先製作色阻層，再製作觸控電極層，從而避免了現有技術中先製作觸控電極層，再製作色阻層過程中，破膜現象的發生。
【專利說明】內嵌式觸摸顯示裝置及其製作方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及觸摸顯示【技術領域】，尤其涉及一種內嵌式觸摸顯示裝置及其製作方 法。
【背景技術】
[0002] 現今，內嵌式觸摸顯示裝置由於其體積纖薄，厚度較小的薄型的優點而越來越流 行，一般，內嵌式觸摸顯示裝置包括彩膜基板，然而實際使用中，發現在製備彩膜基板時，容 易引發破膜現象，從而影響內嵌式觸摸顯示裝置的顯示或觸控等性能，也降低了良率。
【發明內容】
[0003] 為解決上述技術問題，本發明實施例提供了一種內嵌式觸摸顯示裝置及其製作方 法，以解決現有技術中內嵌式觸摸顯示裝置在所述觸控電極層朝向所述陣列基板一側製作 彩膜色阻層的過程中，容易引發破膜現象的問題。
[0004] 為解決上述問題，本發明實施例提供了如下技術方案：
[0005] -種內嵌式觸摸顯示裝置，包括：相對設置的陣列基板和彩膜基板；位於所述陣 列基板和所述彩膜基板之間的液晶層；其中，所述彩膜基板包括：
[0006] 第一基板；
[0007] 位於所述第一基板朝向所述陣列基板一側的黑色矩陣層；
[0008] 位於所述黑色矩陣層朝向所述陣列基板一側的色阻層；
[0009] 位於所述色阻層朝向所述陣列基板一側的觸控電極層，所述觸控電極層包括：觸 控電極以及與所述觸控電極電連接的電極連接線；
[0010] 其中，所述觸控電極的製作材料中包括兩性金屬。
[0011] 優選地，所述觸控電極由多個位於所述黑色矩陣區域背離所述第一基板一側的金 屬網格構成。
[0012] 優選地，所述觸控電極與所述陣列基板中的像素電極同步驅動。
[0013] 優選地，所述觸控電極包括：位於所述黑色矩陣區域背離所述第一基板一側的第 一電極；位於所述第一電極背離所述色阻層的絕緣層；位於所述絕緣層背離所述第一電極 一側的第二電極。
[0014] 優選地，所述第一電極為感應電極，所述第二電極為驅動電極；或所述第一電極為 驅動電極，所述第二電極為感應電極；其中，所述驅動電極與所述像素電極同步驅動。
[0015] 優選地，所述兩性金屬包括鈹、錯、鎵、鋅、鍺、銦、錫、鋪、銘、鉛、秘、針。
[0016] 一種內嵌式觸摸顯示裝置製作方法，包括：
[0017] 提供第一基板；
[0018] 在第一基板表面製作黑色矩陣層；
[0019] 在所述黑色矩陣層朝向所述陣列基板一側製作色阻層；
[0020] 在所述色阻層朝向所述陣列基板一側製作觸控電極層，所述觸控電極層包括：觸 控電極以及與所述觸控電極電連接的電極連接線；
[0021] 其中，所述觸控電極的製作材料中包括兩性金屬。
[0022] 優選地，在所述色阻層朝向所述陣列基板一側製作觸控電極層的步驟包括：
[0023] 在所述黑色矩陣區域背離所述第一基板一側製作多個金屬網格，構成觸控電極 層。
[0024] 優選地，在所述色阻層朝向所述陣列基板一側製作觸控電極層的步驟包括：
[0025] 在所述黑色矩陣區域背離所述第一基板一側製作第一電極；
[0026] 在所述第一電極背離所述色阻層一側製作絕緣層；
[0027] 在所述絕緣層背離所述第一電極一側製作第二電極。
[0028] 優選地，所述第一電極為感應電極，所述第二電極為驅動電極；或所述第一電極為 驅動電極，所述第二電極為感應電極。
[0029] 與現有技術相比，上述技術方案具有以下的優點之一：
[0030] 本發明所提供的技術方案中，所述彩膜基板包括：第一玻璃基板，位於所述第一玻 璃基板朝向所述陣列基板一側的黑色矩陣層，位於所述黑色矩陣層朝向所述陣列基板一側 的色阻層，以及位於所述色阻層朝向所述陣列基板一側的觸控電極層。由此可見，本發明實 施例所提供的技術方案中，所述色阻層位於所述黑色矩陣層與所述觸控電極層之間，即在 所述彩膜基板的製作過程中，先製作所述色阻層，再製作所述觸控電極層，從而避免了現有 技術中先製作觸控電極層，再製作色阻層過程中，觸控電極層與色阻顯影液發生反應，在觸 控電極層中形成倒角結構，進而導致色阻層塗布過程中引發破膜現象的發生，故而提高了 內嵌式觸摸顯示裝置的觸控或顯示等性能，也提高了內嵌式觸摸顯示裝置的製備良率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0031] 為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現 有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本 發明的實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據 提供的附圖獲得其他的附圖。
[0032] 圖1為現有技術中內嵌式觸摸顯示裝置中，彩膜基板的結構示意圖；
[0033] 圖2為現有技術裡彩膜基板中色阻層的俯視圖；
[0034] 圖3-圖6為現有技術中的內嵌式觸摸顯示裝置，在製作第一色阻和第二色阻時的 結構示意圖；
[0035] 圖7為自電容觸控螢幕顯示裝置中，觸控電極層的俯視圖；
[0036] 圖8為本發明一個實施例所提供的內嵌式觸摸顯示裝置的結構示意圖
[0037] 圖9為本發明一個實施例所提供的內嵌式觸摸顯示裝置中，彩膜基板的結構示意 圖；
[0038] 圖10為本發明一個實施例所提供的內嵌式觸摸顯示裝置中，色阻層的俯視圖；
[0039] 圖11為本發明一個實施例所提供的內嵌式觸摸顯示裝置中，陣列基板的結構示 意圖；
[0040] 圖12為本發明另一個實施例所提供的內嵌式觸摸顯示裝置中，彩膜基板的結構 示意圖；
[0041]圖13為本發明一個實施例所提供的內嵌式觸摸顯示裝置製作方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0042] 發明人研究發現，內嵌式觸摸顯示裝置包括：相對設置的彩膜基板和陣列基板，以 及位於所述彩膜基板和陣列基板之間的液晶層。如圖1所示，所述彩膜基板包括：第一玻璃 基板01 ;位於所述第一玻璃基板01朝向所述陣列基板一側的黑色矩陣層02,所述黑色矩陣 層02由多個間隔排列的黑色矩陣區域構成；位於所述黑色矩陣層02朝向所述陣列基板一 側的觸控電極層03,所述觸控電極層03由多個位於所述黑色矩陣區域朝向所述陣列基板 一側的金屬網格構成；位於所述觸控電極層03朝向所述陣列基板一側的彩膜色阻層04,所 述彩膜色阻層04覆蓋所述第一玻璃基板01、黑色矩陣層02和觸控電極層03 ;位於所述彩 膜色阻層03朝向所述陣列基板一側的平坦層05。所述陣列基板包括：第二玻璃基板，位於 所述第二玻璃基板朝向所述彩膜基板一側的像素電極層。
[0043] 但是，上述內嵌式觸摸顯示裝置在所述觸控電極層朝向所述陣列基板一側製作彩 膜色阻層的過程中，容易引發破膜現象。
[0044] 發明人進一步研究發現，這是由於現有技術的內嵌式觸摸顯示裝置中，在製作彩 膜基板中的觸控電極層和色阻層時，通常是先在所述黑色矩陣層背離所述第一玻璃基板的 一側形成整片金屬層，然後對形成的整片金屬層進行刻蝕，形成多個金屬網格；然後，再在 所述金屬網格背離所述黑色矩陣層的一側利用塗布輪塗布彩膜層，並利用色阻顯影液對所 述彩膜層進行刻蝕，形成色阻層。其中，所述金屬層的常用材料為鋁，所述色阻顯影液為鹼 性溶液，且所述色阻層包括並排設置的第一色阻R、第二色阻G和第三色阻B，如圖2所示。 [0045] 具體的，在所述金屬網格背離所述黑色矩陣層的一側形成色阻層又包括：如圖3 所示，利用塗布輪06在所述金屬網格031背離所述黑色矩陣層02的一側塗布第一色阻層 0410,利用第一色阻顯影液對所述第一色阻層0410進行顯影，形成多個間隔排列的第一色 阻0411，如圖4所示；如圖5所示，利用塗布輪06在第一色阻0411背離所述金屬網格031 的一側塗布第二色阻層0420,所述第二色阻層0420覆蓋所述第一色阻0411和所述金屬網 格031，利用第二色阻顯影液對所述第二色阻層0420進行顯影，在所述金屬網格031背離所 述黑色矩陣層02 -側形成多個間隔排列的第二色阻0421，如圖6所示；在所述第二色阻背 離所述金屬網格的一側塗布第三色阻層，所述第三色阻層覆蓋所述第一色阻、第二色阻和 金屬網格，利用第三色阻顯影液對所述第三色阻層進行顯影，在所述金屬網格背離所述黑 色矩陣層的一側形成多個間隔排列的第三色阻。
[0046] 而由於金屬鋁為兩性金屬，色阻顯影液為鹼性溶液，所以，色阻顯影液能與金屬鋁 發生反應，從而在利用第一色阻顯影液對所述第一色阻層0410進行顯影時，所述第一色阻 顯影液會與所述金屬網格031發生反應，在所述金屬網格031的邊緣形成倒角結構07,如圖 4所示，進而在所述塗布第二色阻層0420的過程中，受所述倒角結構07的影響，在倒角結構 07處容易引發破膜，使得第二色阻層0420存在破裂，進而使得形成的第二色阻0421中可能 存在破裂，影響顯示效果。同理，在利用第二色阻顯影液對所述第二色阻層進行顯影時，所 述第二色阻顯影液也會與所述金屬網格發生反應，在所述金屬網格的邊緣形成倒角結構， 進而在所述塗布第三色阻層的過程中，受所述倒角結構的影響，容易引發破膜，使得第三色 阻層存在破裂，進而使得形成的第三色阻中可能存在破裂，影響顯示效果。
[0047] 而且，如圖7所示，觸控電極中的金屬網格031通常需要通過較長的金屬電極線 032電連接至位於所述彩膜基板邊緣的觸控信號檢測電路，而較長金屬電極線032的邊緣 更容易引發破膜現象。
[0048] 有鑑於此，本發明實施例提供了一種內嵌式觸摸顯示裝置，包括：相對設置的陣列 基板和彩膜基板；位於所述陣列基板和所述彩膜基板之間的液晶層；其中，所述彩膜基板 包括：
[0049] 第一基板；
[0050] 位於所述第一基板朝向所述陣列基板一側的黑色矩陣層；
[0051] 位於所述黑色矩陣層朝向所述陣列基板一側的色阻層；
[0052] 位於所述色阻層朝向所述陣列基板一側的觸控電極層，所述觸控電極層包括：觸 控電極以及與所述觸控電極電連接的電極連接線；
[0053] 其中，所述觸控電極的製作材料中包括兩性金屬。
[0054] 相應的，本發明實施例還提供了 一種內嵌式觸摸顯示裝置製作方法，包括：
[0055] 提供第一基板；
[0056] 在第一基板表面製作黑色矩陣層；
[0057] 在所述黑色矩陣層朝向所述陣列基板一側製作色阻層；
[0058] 在所述色阻層朝向所述陣列基板一側製作觸控電極層，所述觸控電極層包括：觸 控電極以及與所述觸控電極電連接的電極連接線；
[0059] 其中，所述觸控電極的製作材料中包括兩性金屬。
[0060] 由此可見，本發明實施例所提供的內嵌式觸摸顯示裝置及其製作方法中，所述色 阻層位於所述黑色矩陣層與所述觸控電極層之間，即在所述彩膜基板的製作過程中，先制 作所述色阻層，再製作所述觸控電極層，從而避免了現有技術中先製作觸控電極層，再製作 色阻層過程中，由於觸控電極層的製作材料包括兩性金屬，而色組顯影液為鹼性溶液，而導 致的觸控電極層與色阻顯影液發生反應，在觸控電極層中形成倒角結構，進而導致色阻層 塗布過程中引發破膜現象的發生，故而提高了內嵌式觸摸顯示裝置的觸控或顯示等性能， 也提高了內嵌式觸摸顯示裝置的製備良率。
[0061] 為使本發明的上述目的、特徵和優點能夠更為明顯易懂，下面結合附圖對本發明 的【具體實施方式】做詳細的說明。
[0062] 在以下描述中闡述了具體細節以便於充分理解本發明。但是本發明能夠以多種不 同於在此描述的其它方式來實施，本領域技術人員可以在不違背本發明內涵的情況下做類 似推廣。因此本發明不受下面公開的具體實施的限制。
[0063] 如圖8所示，本發明實施例提供了一種內嵌式觸摸顯示裝置，包括：相對設置的陣 列基板2和彩膜基板1，位於所述陣列基板2與所述彩膜基板1之間的液晶層3 ;如圖9所 不，所述彩膜基板1包括：第一基板101 ;位於所述第一基板101朝向所述陣列基板2 -側 的黑色矩陣層102 ;位於所述黑色矩陣層102朝向所述陣列基板2 -側的色阻層103 ;位於 所述色阻層103朝向所述陣列基板2 -側的觸控電極層104,所述觸控電極層104包括：觸 控電極以及與所述觸控電極電連接的電極連接線。其中，所述色阻層包括間隔排列的第一 色阻、第二色阻和第三色阻，所述觸控電極的製作材料包括兩性金屬。在本發明的一個具體 實施例中，所述第一色阻為R色阻，所述第二色阻為G色阻，所述第三色阻為B色阻，如圖10 所示，但本發明對此並不做限定，具體視情況而定。
[0064] 在上述實施例的基礎上，在本發明的一個實施例中，所述彩膜基板1還包括：位於 所述觸控電極層104背離所述彩膜色阻層103-側的平坦層105,所述平坦層105覆蓋所述 色阻層103和所述觸控電極層104。
[0065] 在本發明的一個實施例中，如圖11所示，所述陣列基板2包括：第二玻璃基板 201 ;多個位於所述第二玻璃基板201朝向所述彩膜基板1 一側的像素單元202,所述像素 單元102包括：像素電極和與所述像素電極電連接、控制所述像素單元開啟或閉合的薄膜 電晶體。
[0066] 優選的，所述第一基板101和第二基板201為玻璃基板，但本發明對此並不做限 定，具體視情況而定。
[0067] 需要說明的是，兩性金屬是既能和酸反應又能和鹼反應的金屬。在本發明的一個 實施例中，所述兩性金屬包括鈹、鋁、鎵、鋅、鍺、銦、錫、銻、鉈、鉛、鉍、針等，優選的，在本發 明的一個具體實施例中，所述兩性金屬為鋁，即所述觸控電極為鋁電極，但本發明對此並不 做限定，只要所述觸控電極的材料具有導電性，且可以和色阻顯影液發生反應即可。還需要 說明的是，所述觸控電極層104中與所述觸控電極電連接的電極連接線的製作材料可以為 兩性金屬，也可以為非兩性金屬，本發明對此並不做限定，只要其為導電材料即可。
[0068] 在上述實施例的基礎上，在本發明的一個實施例中，所述內嵌式觸摸顯示裝置為 內嵌式自電容觸摸顯示裝置，在該實施例中，所述觸控電極優選由多個位於所述黑色矩陣 區域背離所述第一基板101 -側的金屬網格構成。
[0069] 在本實施例中，由於所述像素電極與所述觸控電極均為導電結構，而所述像素電 極與所述觸控電極之間相互絕緣，從而使得在所述內嵌式觸摸顯示裝置工作的過程中，所 述像素電極與所述觸控電極之間會產生寄生電容，影響所述觸控電極層104的自電容檢 測，降低所述內嵌式觸摸顯示裝置的性能。故，在本發明實施例的基礎上，在本發明的另一 個實施例中，所述觸控電極與所述陣列基板中的像素電極同步驅動，即在所述內嵌式觸摸 顯示裝置的工作過程中，同時給所述觸控電極與所述像素電極提供驅動信號，從而減小所 述觸控電極與所述像素電極之間的電壓差，降低所述觸控電極與所述像素電極之間的寄生 電容，提高所述內嵌式觸摸顯示裝置的性能。
[0070] 優選的，所述觸控電極與所述像素電極同步驅動，且所述觸控電極與所述像素電 極的驅動信號大小相同，從而使得所述像素電極與所述觸控電極之間的電壓差為零，避免 所述觸控電極與所述像素電極之間寄生電容的存在，最大限度的提高所述內嵌式觸摸顯示 裝置的性能。
[0071] 需要說明的是，由於自電容驅動方式對於其觸控電極的電阻有一定的要求，電阻 越小充電越快，觸控損失信號越小，故在上述任一實施例的基礎上，在本發明的一個優選實 施例中，所述觸控電極的走線寬度越大越好，以提高所述內嵌式觸摸顯示裝置的觸控靈敏 度。
[0072] 在本發明的另一個實施例中，所述內嵌式觸摸顯示裝置還可以為內嵌式互電容觸 摸顯示裝置，在該實施例中，如圖12所示，所述觸控電極優選包括：位於所述黑色矩陣區域 102背離所述第一基板101 -側的第一電極1041 ;位於所述第一電極1041背離所述色阻層 103的絕緣層1042 ;位於所述絕緣層1042背離所述第一電極1041 -側的第二電極1043。 本發明對此也不做限定，具體視情況而定。
[0073] 在本實施例的基礎上，在本發明的一個實施例中，所述第一電極為感應電極，所述 第二電極為驅動電極，在本發明的另一個實施例中，所述第一電極為驅動電極，所述第二電 極為感應電極，本發明對此並不做限定，具體視情況而定。
[0074] 同理，所述觸控電極為導電結構，所述像素電極為導電結構，且所述像素電極與所 述觸控電極之間相互絕緣，故只要所述觸控電極與所述像素電極之間存在電壓差，則所述 觸控電極與所述像素電極之間就會產生寄生電容，影響所述內嵌式觸摸顯示裝置的性能。 而在本發明實施例中，所述觸控電極包括第一電極和第二電極兩個電極，為了減小所述觸 控電極與像素電極之間的寄生電容，在本發明的一個優選實施例中，所述觸控電極與所述 像素電極同步驅動，即在所述內嵌式觸摸顯示裝置的工作過程中，同時給所述觸控電極與 所述像素電極提供驅動信號，從而減小所述觸控電極與所述像素電極之間的電壓差，降低 所述觸控電極與所述像素電極之間的寄生電容，提高所述內嵌式觸摸顯示裝置的性能，也 提高了內嵌式觸摸顯示裝置的製備良率。
[0075] 需要說明的是，在本發明實施例中，當所述第一電極為驅動電極時，所述像素電極 與所述第一電極同步驅動，當所述第二電極為驅動電極時，所述像素電極與第二電極同步 驅動，本發明對此並不做限定，具體視情況而定。
[0076] 還需要說明的是，在上述任一實施例的基礎上，在本發明的又一個實施例中，所述 觸控電極層104中正對薄膜電晶體位置處的觸控電極及電極連接線優選為越窄越好，以減 輕由於所述觸控電極層104中的金屬反光而導致的薄膜電晶體漏電現象。
[0077] 由上可知，本發明實施例所提供的內嵌式觸摸顯示裝置中，所述色阻層位於所述 黑色矩陣層與所述觸控電極層之間，即在所述彩膜基板的製作過程中，先製作所述色阻層， 再製作所述觸控電極層，從而避免了現有技術中先製作觸控電極層，再製作色阻層過程中， 由於觸控電極層的製作材料包括兩性金屬，而色組顯影液為鹼性溶液，而導致的觸控電極 層與色阻顯影液發生反應，在觸控電極層中形成倒角結構，進而導致色阻層塗布過程中引 發破膜現象的發生，同時，也避免了較長的電極連接線的邊緣引發色阻層塗布過程中破膜 現象發生的問題，故而提高了內嵌式觸摸顯示裝置的觸控或顯示等性能，也提高了內嵌式 觸摸顯示裝置的製備良率。
[0078] 相應的，本發明實施例還提供了一種內嵌式觸摸顯示裝置製作方法，如圖13所 示，該製作方法包括：S1 :提供第一基板；S2 :在第一基板表面製作黑色矩陣層；S3 :在所述 黑色矩陣層朝向所述陣列基板一側製作色阻層；S4 :在所述色阻層朝向所述陣列基板一側 製作觸控電極層，所述觸控電極層包括：觸控電極以及與所述觸控電極電連接的電極連接 線；其中，所述觸控電極的製作材料中包括兩性金屬。
[0079] 在本發明的一個實施例中，該製作方法還包括：在所述觸控電極層背離所述色阻 層的一側形成平坦層，所述平坦層覆蓋所述色阻層和所述觸控電極層。
[0080] 在本發明的另一個實施例中，該製作方法還包括：提供第二基板，在所述第二基板 表面製作像素電極層，所述像素電極層包括多個像素單元，各像素單元包括像素電極和與 所述像素電極電連接、控制所述像素單元開啟或閉合的薄膜電晶體。
[0081] 需要說明的是，兩性金屬是既能和酸反應又能和鹼反應的金屬。在本發明的一個 實施例中，所述兩性金屬包括鈹、鋁、鎵、鋅、鍺、銦、錫、銻、鉈、鉛、鉍、針等，優選的，在本發 明的一個具體實施例中，所述兩性金屬為鋁，即所述觸控電極為鋁電極，但本發明對此並不 做限定，只要所述觸控電極的材料具有導電性，且可以和色阻顯影液發生反應即可。還需要 說明的是，所述觸控電極層中與所述觸控電極電連接的電極連接線的製作材料可以為兩性 金屬，也可以為非兩性金屬，本發明對此並不做限定，只要其為導電材料即可。
[0082] 在上述實施例的基礎上，在本發明的一個實施例中，所述內嵌式觸摸顯示裝置為 內嵌式自電容觸摸顯示裝置，在該實施例中，在所述色阻層朝向所述陣列基板一側製作觸 控電極層的步驟包括：在所述黑色矩陣區域背離所述第一基板一側製作多個金屬網格，構 成觸控電極層。
[0083] 由於所述像素電極與所述觸控電極均為導電結構，而所述像素電極與所述觸控電 極之間相互絕緣，從而使得在所述內嵌式觸摸顯示裝置工作的過程中，所述像素電極與所 述觸控電極之間會產生寄生電容，影響所述觸控電極層的自電容檢測，降低所述內嵌式觸 摸顯示裝置的性能。故，在本發明實施例的基礎上，在本發明的另一個實施例中，所述觸控 電極與所述陣列基板中的像素電極同步驅動，即在所述內嵌式觸摸顯示裝置的工作過程 中，同時給所述觸控電極與所述像素電極提供驅動信號，從而減小所述觸控電極與所述像 素電極之間的電壓差，降低所述觸控電極與所述像素電極之間的寄生電容，提高所述內嵌 式觸摸顯示裝置的性能。
[0084] 優選的，所述觸控電極與所述像素電極同步驅動，且所述觸控電極與所述像素電 極的驅動信號大小相同，從而使得所述像素電極與所述觸控電極之間的電壓差為零，避免 所述觸控電極與所述像素電極之間寄生電容的存在，最大限度的提高所述內嵌式觸摸顯示 裝置的性能。
[0085] 在本發明的另一個實施例中，所述內嵌式觸摸顯示裝置還可以為內嵌式互電容觸 摸顯示裝置，在該實施例中，在所述色阻層朝向所述陣列基板一側製作觸控電極層的步驟 包括：在所述黑色矩陣區域背離所述第一基板一側製作第一電極；在所述第一電極背離所 述色阻層一側製作絕緣層；在所述絕緣層背離所述第一電極一側製作第二電極。
[0086] 在本實施例的基礎上，在本發明的一個實施例中，所述第一電極為感應電極，所述 第二電極為驅動電極，在本發明的另一個實施例中，所述第一電極為驅動電極，所述第二電 極為感應電極，本發明對此並不做限定，具體視情況而定。
[0087] 同理，所述觸控電極為導電結構，且所述像素電極與所述觸控電極之間相互絕緣， 故只要所述觸控電極與所述像素電極之間存在電壓差，則所述觸控電極與所述像素電極之 間就會產生寄生電容，影響所述內嵌式觸摸顯示裝置的性能。而在本發明實施例中，所述觸 控電極包括第一電極和第二電極兩個電極，為了減小所述觸控電極與像素電極之間的寄生 電容，在本發明的一個優選實施例中，所述觸控電極與所述像素電極同步驅動，即在所述內 嵌式觸摸顯示裝置的工作過程中，同時給所述觸控電極與所述像素電極提供驅動信號，從 而減小所述觸控電極與所述像素電極之間的電壓差，降低所述觸控電極與所述像素電極之 間的寄生電容，提高所述內嵌式觸摸顯示裝置的性能。
[0088] 需要說明的是，在本發明實施例中，當所述第一電極為驅動電極時，所述像素電極 與所述第一電極同步驅動，當所述第二電極為驅動電極時，所述像素電極與第二電極同步 驅動，本發明對此並不做限定，具體視情況而定。
[0089] 由上可知，本發明實施例所提供的內嵌式觸摸顯示裝置製作方法中，在所述彩膜 基板的製作過程中，先製作所述色阻層，再製作所述觸控電極層，從而避免了現有技術中先 製作觸控電極層，再製作色阻層過程中，由於觸控電極層的製作材料包括兩性金屬，而色組 顯影液為鹼性溶液，而導致的觸控電極層與色阻顯影液發生反應，在觸控電極層中形成倒 角結構，進而導致色阻層塗布過程中引發破膜現象的發生，同時，也避免了較長的電極連接 線的邊緣引發色阻層塗布過程中破膜現象發生的問題，故而提高了內嵌式觸摸顯示裝置的 觸控或顯示等性能，也提高了內嵌式觸摸顯示裝置的製備良率。
[0090] 本說明書中各個部分採用遞進的方式描述，每個部分重點說明的都是與其他部分 的不同之處，各個部分之間相同相似部分互相參見即可。
[0091] 對所公開的實施例的上述說明，使本領域專業技術人員能夠實現或使用本發明。 對這些實施例的多種修改對本領域的專業技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的 一般原理可以在不脫離本發明的精神或範圍的情況下，在其它實施例中實現。因此，本發明 將不會被限制於本文所示的實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的 最寬的範圍。
【權利要求】
1. 一種內嵌式觸摸顯示裝置，其特徵在於，包括：相對設置的陣列基板和彩膜基板；位 於所述陣列基板和所述彩膜基板之間的液晶層；其中，所述彩膜基板包括： 第一基板； 位於所述第一基板朝向所述陣列基板一側的黑色矩陣層； 位於所述黑色矩陣層朝向所述陣列基板一側的色阻層； 位於所述色阻層朝向所述陣列基板一側的觸控電極層，所述觸控電極層包括：觸控電 極以及與所述觸控電極電連接的電極連接線； 其中，所述觸控電極的製作材料中包括兩性金屬。
2. 根據權利要求1所述的顯示裝置，其特徵在於，所述觸控電極由多個位於所述黑色 矩陣區域背離所述第一基板一側的金屬網格構成。
3. 根據權利要求2所述的顯示裝置，其特徵在於，所述觸控電極與所述陣列基板中的 像素電極同步驅動。
4. 根據權利要求1所述的顯示裝置，其特徵在於，所述觸控電極包括： 位於所述黑色矩陣區域背離所述第一基板一側的第一電極； 位於所述第一電極背離所述色阻層的絕緣層； 位於所述絕緣層背離所述第一電極一側的第二電極。
5. 根據權利要求4所述的顯示裝置，其特徵在於，所述第一電極為感應電極，所述第二 電極為驅動電極；或所述第一電極為驅動電極，所述第二電極為感應電極；其中，所述驅動 電極與所述像素電極同步驅動。
6. 根據權利要求1-5任一項所述的顯示裝置，其特徵在於，所述兩性金屬包括鈹、鋁、 鎵、鋅、鍺、銦、錫、銻、鉈、鉛、鉍、釙。
7. -種內嵌式觸摸顯示裝置製作方法，其特徵在於，包括： 提供第一基板； 在第一基板表面製作黑色矩陣層； 在所述黑色矩陣層朝向所述陣列基板一側製作色阻層； 在所述色阻層朝向所述陣列基板一側製作觸控電極層，所述觸控電極層包括：觸控電 極以及與所述觸控電極電連接的電極連接線； 其中，所述觸控電極的製作材料中包括兩性金屬。
8. 根據權利要求7所述的製作方法，其特徵在於，在所述色阻層朝向所述陣列基板一 側製作觸控電極層的步驟包括： 在所述黑色矩陣區域背離所述第一基板一側製作多個金屬網格，構成觸控電極層。
9. 根據權利要求7所述的製作方法，其特徵在於，在所述色阻層朝向所述陣列基板一 側製作觸控電極層的步驟包括： 在所述黑色矩陣區域背離所述第一基板一側製作第一電極； 在所述第一電極背離所述色阻層一側製作絕緣層； 在所述絕緣層背離所述第一電極一側製作第二電極。
10. 根據權利要求9所述的製作方法，其特徵在於，所述第一電極為感應電極，所述第 二電極為驅動電極；或所述第一電極為驅動電極，所述第二電極為感應電極。
【文檔編號】G06F3/044GK104216596SQ201410513194
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年9月29日 優先權日:2014年9月29日
【發明者】姚綺君, 李鯈然, 盧峰 申請人:上海天馬微電子有限公司, 天馬微電子股份有限公司