一種適合於多孔基材的塗布裝置的製作方法

2023-11-07 05:55:22 2

本實用新型涉及一種基材的塗布裝置，特別是適合於防止多孔基材塗布漏料且保證塗布均勻的塗布裝置。

背景技術：

塗布是鋰離子電池或者是鋰離子電容器的正負極片及隔離膜生產過程中必不可少的一道工序，塗布工藝的好壞將直接影響電池或者電容的容量以及一致性等性能。塗布的過程就是將製作好的糊狀粘稠漿料均勻的，連續或間斷的塗覆在基材(銅箔或鋁箔)的正反面。現有塗布方法是將塗布頭設置在基材的上方或側方，即漿料從塗布在基材的上面，或者同時將塗布頭設置在箔材的側方和下方，上下兩面同時塗布。這對於普通的無孔基材而言不會出現工藝缺陷，但對於多孔基材，由於漿料的重力作用，漿料極易從基材的孔隙中滲漏，這不但影響基材的塗布工藝，造成基材塗布不均勻，而且滲漏的漿料由於未及時烘乾而玷汙塗布輥，無法正常生產。此外，傳統塗布工藝中，塗布頭設置在烘箱的頭部位置處，如專利文獻CN 103567116 B和CN 102744183 A所述，這種塗布方式存在一定的缺陷。由於烘箱內較大的空氣流速，基材在行進過程中會出現波動，進而造成基材塗布不均勻，從而影響產品一致性。

技術實現要素：

本實用新型所要解決的技術問題是，提供一種適合於多孔基材的塗布裝置，使用該裝置在多孔基材上進行塗布避免多孔基材塗布不均勻以及漏料汙染塗布輥的缺陷。

為解決上述技術問題，本實用新型公開了一種適合於多孔基材的塗布裝置，包括基材，沿基材行進方向依次布置的放卷機輥、塗布輥、烘箱、牽引輥和收卷機輥，以及對基材進行塗布的塗布頭，所述塗布頭設置於塗布輥下方。

進一步地，所述基材與塗布輥的切點為A，所述塗布頭的頂部為噴塗頭B，噴塗頭B與切點A在基材行進方向上的水平距離L為0.5-5mm。塗布頭在基材行進方向上越靠近塗布輥切點，則塗布作業時，基材波動越小，塗布均一性越好。

進一步地，所述塗布頭在塗布作業時噴塗頭B到基材的垂直間隙H為0.2-1mm。塗布工況確定後，塗布頭與塗布輥之間的間隙恆定，以保證塗布基材的均勻性。

進一步地，所述基材為銅箔，鋁箔，鎳箔，鋼網，隔膜中的任意一種。

進一步地，所述基材包括多孔基材，其孔徑為0-500μm。

進一步地，所述放卷機輥有兩個或兩個以上，用於將基材卷出，增加放卷機輥可以保證基材在行進方向的平整度，使塗覆更為均勻。

進一步地，所述塗布裝置還包括離型輥，所述離型輥設置於基材的上方，且位於塗布輥與烘箱之間。增加離型輥可以減小因烘箱附近快速的空氣流動而導致基材較大的波動。

進一步地，所述基材沿烘箱水平方向通過，且烘箱從上下兩個方向對基材進行乾燥。

進一步地，所述基材位於烘箱前三分之二處沿水平方向通過，位於後三分之一處自水平方向向上傾斜，直至基材完全通過烘箱，且烘箱從上下兩個方向對基材進行乾燥。

進一步地，所述烘箱三分之二處起設置支撐輥，且支撐輥置於基材的上方，用於支撐基材沿牽引方向行進。

進一步地，所述牽引輥至少有兩個，牽引輥作為基材的牽引系統，將基材沿著收卷機輥卷繞方向行進。

本實用新型的有益效果：由於塗布頭位於塗布輥的下方，漿料通過塗布頭由下而上進行塗布，可以避免漿料漏料而玷汙塗布輥的缺陷，保證基材塗布均勻；其次，由於塗布位置處在塗布輥下方，所以基材在行進過程中波動較小，從而保證塗布的均勻性，進而提高製備電極的電化學性能。

附圖說明

圖1為第一種實施方式的塗布裝置結構示意圖；

圖2為第二種實施方式的塗布裝置結構示意圖；

圖3為第三種實施方式的塗布裝置結構示意圖；

圖4為塗布頭與塗布輥裝置的放大圖；

圖中附圖標記，1-放卷機輥；2-基材；3-塗布輥；4-塗布頭；5-烘箱；6-牽引輥；7-收卷機輥；8-支撐輥；9-離型輥。

具體實施方式

下面結合實施例，更具體地闡述本實用新型的內容。本實用新型的實施並不限於下面的實施例，對本實用新型所做的任何形式上的變通或改變都應在本實用新型的保護範圍內。

實施例1：

本實用新型提供了一種適合於多孔基材的塗布裝置，如圖1所示。包括基材2，放卷機輥1，塗布輥3，塗布頭4，烘箱5，牽引輥6和收卷機輥7。本實施例中，採用多孔銅箔，孔徑為350μm。基材2通過放卷機輥1向下卷出，再橫向依次經過塗布輥3下方，烘箱5內部，再經牽引輥6牽引之後由收卷機輥7捲入，塗布頭4設置於塗布輥3的下方，基材2經過塗布頭4與塗布輥3之間，塗布頭4與塗布輥3裝置的放大圖如圖4所示，其中基材2與塗布輥3的切點為A，所述塗布頭4的頂部為噴塗頭B，用於噴出漿料，噴塗頭B與切點A在基材2行進方向上的水平距離L在本實施例中取0.5mm。需要說明的是噴塗頭B距A的水平距離越近(即L越短)，則塗布作業時，基材2波動越小，塗布均一性越好。塗布頭4中噴塗頭B在塗布作業時到基材2的垂直間隙H為0.2mm(基材2的上側面緊貼塗布輥3)，塗布工況確定後，塗布頭與塗布輥之間的間隙恆定，進一步保證塗布基材的均勻性。基材2沿烘箱5水平方向通過，且烘箱5從上下兩個方向對基材2進行乾燥。本實施例中放卷機輥1為1個，也可以增加放卷機輥1的數量，以保證基材2在行進方向的平整度，使塗覆更為均勻。牽引輥6作為基材2的牽引系統，將基材2沿著收卷機輥7卷繞方向行進，牽引輥6有兩個，增加牽引輥6的個數可以進一步保證基材2行進的平整度。

實施例2：

本實用新型還提供一種適合於多孔基材的塗布裝置，如圖2所示。該裝置與實施例1中的不同之處在於烘箱5前三分之二處，基材2沿水平方向通過，從烘箱5三分之二處起設置支撐輥8，使基材2在烘箱5的後三分之一處沿著支撐輥8從水平方向向上傾斜，直至基材2完全通過烘箱5，基材2傾斜程度可以根據烘箱5的具體長度來調整，且烘箱5從上下兩個方向對基材2進行乾燥，其他未述及部分同實施例1。

實施例3：

本實用新型還提供一種適合於多孔基材的塗布裝置，如圖3所示。該裝置與實施例1或實施例2中的不同之處在於該塗布裝置還包括一個離型輥9，所述離型輥9設置於基材2的上方，且位於塗布輥3與烘箱5之間，增加離型輥9可以減小因烘箱5附近快速的空氣流動而導致基材2較大的波動，其他未述及部分同實施例1或實施例2。

實施例4：

本實用新型還提供一種適合於多孔基材的塗布裝置，該裝置與實施例1或實施例2中的不同之處在於塗布頭4的噴塗頭B與切點A在基材2行進方向上的水平距離L為5mm，其他未述及部分同實施例1或實施例2。

實施例5：

本實用新型還提供一種適合於多孔基材的塗布裝置，該裝置與實施例1或實施例2中的不同之處在於塗布頭4中噴塗頭B在塗布作業時到基材2的垂直間隙H為1mm，其他未述及部分同實施例1或實施例2。

本實用的裝置在使用時可包括以下步驟：

(1)、基材2隨放卷機輥1卷出，進入塗布輥3下方；

(2)、塗布頭4設置於塗布輥3的下方，漿料從塗布頭4上噴塗頭B噴出，垂直塗布至基材2上，且塗布方向與基材2行進方向垂直；

(3)、經過塗布後的基材2進入烘箱5乾燥；

(4)、經烘箱5乾燥後，基材2通過收卷機輥7捲入。