板狀物的研磨設備及研磨方法
2023-07-27 16:17:41 2
專利名稱：板狀物的研磨設備及研磨方法
技術領域：
本發明屬於板狀物的精細研磨以及拋光技術領域，尤其涉及一種對FPD玻璃基板進行精細研磨和拋光的板狀物的研磨設備及研磨方法。
背景技術：
FPD顯示尺寸的不斷變大，帶來構成FPD主要部件-玻璃基板的生產難度越來越高，特別是表面粗糙度(Roughness)、波紋度(Waviness)等性能參數要求在玻璃成型工藝中越來越難得到滿足。由於玻璃基板將用於化學澱積、物理澱積、光蝕、陣列等工藝流程來形成FPD的主要部件ITO和彩色濾光片，如果表面性能參數不能得到保證，玻璃基板的產量就很難提高。
此外，在玻璃基板流水線的加工中，玻璃基板尺寸的變大，使得各種缺陷出現的機率也隨之增加。如果沒有「研磨」這種輔助工藝流程，劃痕、粘附等這些工藝流程中表面缺陷的出現將直接導致玻璃基板的判廢，由於玻璃基板製造成本昂貴，成本投入的加大可想而知。
玻璃基板生產工藝中將表面缺陷在一定範圍內的玻璃基板予以保留，使用輔助研磨工藝除去表面缺陷，此部分產品稱為「再生品」。再生品的數量一般佔生產產量的百分之三十左右。通過對再生品的研磨，可以挽救大部分的有缺陷產品，減少玻璃基板廢品數量，從而有效控制生產成本；並且通過研磨可以大大提高玻璃基板表面粗糙度等表面性能，為後續面板廠的加工提供良好條件，減少用戶報怨，因此「研磨」對於玻璃基板生產廠家來說是一道很重要的工藝流程。
圖一是日本專利JP2001-347451(發明名稱GRINDING DEVICE，以下簡稱公開專利一)中公開的一種玻璃基板研磨設備的側示圖。公開專利一的方法中，軸150的伸出可以將研磨頭110從水平位置抬起旋轉90度，使原來處於水平位置的研磨頭110變化到垂直方向，在垂直方向上對玻璃進行研磨前後的張貼以及卸載。玻璃基板500通過人工的方法吸附在研磨頭110上，電機130通過減速箱131帶去有研磨盤160轉動，氣缸120利用130的軸前端支點將力施加在帶有自調整軸承的研磨頭110上，使粘附有玻璃基板500的研磨頭110與研磨盤160產生水平的相對運動，由於玻璃基板500與研磨盤160的偏心設置，使得帶有自調整軸承的研磨頭110的隨動較研磨盤稍慢一些並且自轉，從而對玻璃基板500的表面進行充分研磨。但是，隨著玻璃尺寸的增大，G5以上的玻璃基板需要研磨頭尺寸至少在1.2米以上，這樣設備就需要做的很高，製造成本較大；此外，大尺寸的玻璃基板110需要兩人或兩人以上搬運玻璃基板抬高到研磨頭110的豎直位置，採用仰視的方法進行裝、卸載，裝卸載困難並且工作效率低下，因此此種研磨設備僅適用於小尺寸玻璃基板的研磨，G5以上的玻璃基板在這種研磨設備上研磨較難實現。
圖二是日本專利2001-293656(發明名稱CONTINUOUS-TYPE POLISHINGDEVICE OF PLATE-LIKE BODY，AND ITS METHOD，以下簡稱公開專利2)中公開了一種玻璃基板研磨設備典型示意圖。公開專利二的方法中，玻璃基板500吸附在工作檯220上，工作檯220在底座230上的軌道上往復運動，研磨頭210安裝在支架240上，工作檯220的往復運動使玻璃基板500與研磨頭210相接觸對玻璃基板500的表面進行研磨。同時研磨多塊玻璃基板500使設備的效率得到了很大的提高，但是此種方法也存在下列問題，圖三是公開專利2中所介紹方法研磨過程的示意圖，研磨頭210自轉帶動研磨盤211旋轉，工作檯220帶動玻璃基板500往復運動，研磨頭從一塊玻璃基板研磨邊緣退出時和下一塊玻璃基板研磨開始時，研磨塊211在退出和開始研磨的過程中，會造成研磨盤211損壞過快，玻璃基板邊緣研磨過多等問題。
此外，上述兩種研磨設備都存在著這樣一個問題。上述設備均是將玻璃基板500吸附於工作檯220表面，人工使用輔助工具將玻璃基板從工作檯220上剝離。圖四是目前所使用玻璃基板500在工作檯220上剝離方法的簡單示意圖。此種方法剝離玻璃基板500相當困難，由於用於FPD的玻璃基板極薄，最薄的達0.5MM，研磨好的玻璃基板500再次被損傷的可能性很大，且效率低下。上述玻璃基板的裝卸載方法已經遠遠不能適應規模化的生產效率，玻璃基板生產製造迫切需要一種高效率的大尺寸玻璃基板裝卸載方法和研磨設備。
發明內容
基於以上原因，本發明的目的是提供一種對FPD玻璃基板進行精細研磨和拋光的板狀物的研磨設備，研磨設備由兩部分構成一部分是研磨壓力和研磨轉速可調，沿安裝在工作檯上或者兩側的導向裝置縱嚮往復運動，並且研磨頭可以橫嚮往復運動的研磨機構；另一部分是安裝有研磨機構導向裝置並且可以方便實現固定與分離板狀物夾具的工作檯。
本發明的另一目的是提供一種通過使用編程研磨表面的運動軌跡，並採用板狀物裝卸載工藝的研磨方法，對板狀物表面進行充分的研磨，減少板狀物裝卸載時間和設備停機時間，降低板狀物邊部缺陷產生的機率，同時大大提高研磨後板狀物表面的質量，實現高生產效率的研磨。
本發明的目的是這樣實現的一種板狀物研磨設備，用於板狀物的研磨以及拋光，具有能夠橫向和縱嚮往復運動且研磨頭的轉速和壓力可調的研磨機構，對應研磨機構的工作檯設置有吸附、固定和取出玻璃基板的玻璃基板夾具。
所述的研磨機構包括研磨頭、驅動研磨頭橫向和縱嚮往復運動機構、控制研磨頭的轉速和壓力機構，研磨機構安裝在工作檯的兩側或上方。
所述的驅動研磨頭橫向和縱嚮往復運動機構為在橫梁上安裝有橫嚮往復運動導軌，研磨頭安裝在橫嚮往復運動導軌上並通過傳動機構驅動研磨頭沿導軌橫嚮往復運動，橫梁安裝在工作檯的導向裝置上，並通過傳動機構驅動橫梁在導向裝置上縱嚮往復動作。研磨頭通過傳動機構驅動研磨頭沿導軌橫嚮往復運動是指研磨頭通過安裝在研磨頭上的電機驅動研磨頭沿導軌的滑動配合實現的。橫梁通過傳動機構驅動在導向裝置上縱嚮往復動作是指導向裝置由兩對分別固定在橫梁和工作檯兩側的絲槓與絲母配合，橫梁的縱嚮往復動作通過安裝在工作檯一側的伺服電機驅動絲槓帶動固定在橫梁上的絲母，旋轉前進或者後退運動。
控制研磨頭的轉速和壓力機構為研磨機構上安裝有通過氣動迴路控制研磨頭壓力的氣缸組件，並且安裝有帶動研磨頭旋轉的電器組件，研磨頭迴轉軸上安裝有花鍵軸，花鍵軸通過齒輪與驅動部件嚙合，驅動部件連接電機，在研磨頭與氣缸的之間使用浮動機構連接，浮動機構使用一對平面自調整軸承來實現浮動，研磨頭的研磨壓力通過調整安裝在研磨機構上方的氣缸控制，研磨壓力可通過控制氣路中的調壓閥進行調整，通過電磁閥控制研磨頭的上下，研磨轉速通過調整安裝在研磨機構本體上並驅動研磨頭轉動的電機來實現。
所述的對應研磨機構的工作檯設置有吸附、固定和取出玻璃基板的玻璃基板夾具是指在工作檯中央與玻璃基板夾具相接觸的表面設計有氣孔，玻璃基板夾具與工作檯之間的固定通過接通氣孔內真空來實現，夾具需要從工作檯下取下時，斷掉真空即可分離。
在工作檯上設有與玻璃基板夾具相配合的凹槽，玻璃基板夾具的下邊緣周邊設有與工作檯凹槽相對應的凸臺，通過夾具上的凸臺實現與工作檯凹槽相對準確的定位。
一種板狀物的研磨方法，通過使用編程被研磨表面的運動軌跡，並採用板狀物裝卸載工藝的研磨方法。
採用如下步驟1)將帶有板狀物的夾具通過夾具下邊緣四周的凸臺與工作檯上的凹槽相對應定位，然後真空通過工作檯與板狀物夾具中間的氣孔將兩者牢固的吸附在一起，2)研磨頭通過氣缸的伸出接觸板狀物的上表面，研磨機構通過自身的橫向和縱嚮往復運動在玻璃基板的上表面進行研磨，3)研磨機構的研磨曲線可以通過電氣設計為多種研磨軌跡和次數的組合，4)研磨結束後研磨機構返回初始位置，截斷氣孔中的真空，將帶有板狀物的夾具取出，5)將另一塊帶有板狀物的夾具按步驟1所述的方法安裝在工作檯上，進行下一塊板狀物的研磨。
本發明提供的研磨機構可通過安裝在工作檯上方或兩側的導向裝置往復運動，並且可以通過電氣控制調整研磨壓力和研磨轉速。導向裝置由兩對絲槓與絲母配合，研磨機構的縱嚮往復動作通過安裝在工作檯一側的伺服電機驅動絲槓帶動安裝在研磨機構上的絲母，旋轉前進或者後退運動，也可以是安裝在工作檯兩側的兩個電機通過帶式或者其它傳動機構運動來實現研磨機構的縱嚮往復運動；研磨頭的橫嚮往復運動通過研磨頭上的電機在安裝在研磨機構橫粱上的導軌上的配合滑動實現。研磨壓力通過調整安裝在研磨機構上方的氣缸控制，研磨壓力可通過設計在氣路中控制氣缸壓力的調壓閥使用電氣進行調整，也可以根據需要在研磨的過程中設置多個研磨壓力，例如在邊緣與中央設計不同的壓力，在研磨前期與後期採用不同的研磨壓力等。研磨轉速通過調整安裝在研磨機構本體上並驅動研磨頭轉動的電機來實現，電機可以使用變頻電機或者伺服電機，使用電氣來控制轉速的不同，例如在邊緣與中央採用不同的轉速，在研磨前期與後期採用不同的研磨轉速等。本發明提供的工作檯可以方便的實現玻璃基板夾具的固定與分離，工作檯採用變形量小物製作，並設計有可方便操作的控制按鈕。在工作檯的上方或者兩側安裝有研磨機構的運動導軌。工作檯表面設計有與玻璃基板夾具相對應的安裝輪廓，方便玻璃基板夾具輕鬆的放置其上和拿出。工作檯中央與玻璃基板夾具相接觸的表面設計有氣孔，夾具與工作檯之間的固定通過接通氣孔內真空來實現，夾具需要從工作檯下取下時，斷掉真空即可分離。因此本發明具有對板狀物表面進行充分的研磨，減少板狀物裝卸載時間和設備停機時間，降低板狀物邊部缺陷產生的機率，同時大大提高研磨後板狀物表面的質量，實現高生產效率研磨的優點。
圖1是日本專利JP2001-347451中研磨設備的側示圖。
圖2是日本專利JP2001-293656中研磨設備的典型示意圖。
圖3是日本專利JP2001-293656中研磨設備研磨的狀態示意圖。
圖4是玻璃基板人工剝離示意圖。
圖5是本發明所使用玻璃基板夾具的典型示意圖。
圖6是本發明提供研磨設備的典型示意圖。
圖7是本發明提供研磨頭的原理示意圖。
圖8是本發明提供研磨頭的氣路原理示意圖。
圖9是本發明研磨軌跡所採用線性回歸方程組合的一個具體實施例。
圖10是採用本方法研磨前後的玻璃基板表面粗糙度的比較。
符號說明300，研磨設備，310，研磨頭，320，導軌，330，橫梁，340，導向機構，350，工作檯，500，玻璃基板。
具體實施例方式
本發明中涉及的玻璃基板夾具結構為本發明的玻璃基板已經進行了單獨的權利申請。圖5是玻璃基板夾具的典型示意圖，夾具的上表面設計有特殊的彈性物410，通過碾壓等方法利用真空的原理將玻璃基板500與夾具400牢固的吸附在一起，夾具的下邊緣周邊設計有與工作檯凹槽相對應的凸臺430，可以通過夾具上的凸臺430實現與工作檯凹槽相對準確的定位。當進行研磨時，玻璃基板500吸附在玻璃基板夾具400上，玻璃基板夾具400通過工作檯上的氣孔使用真空固定在研磨機工作檯上350；當研磨結束後，斷掉吸附玻璃基板夾具400的真空，如果裝卸載不方便的話，也可以使用工作檯的氣孔進行吹氣，方將玻璃基板夾具400方便的從工作檯350上取下來。玻璃基板夾具400取下後，使用人工或者自動的方式搬運到專用的玻璃基板夾具分離工作檯上，該工作檯表面具有一定的弧度，玻璃基板500的分離是利用玻璃基板500與彈性物410間具有的不同撓度，將玻璃基板500與夾具400進行分離。分離後的玻璃基板500和玻璃基板夾具400在清洗設備上進行清洗，衝洗掉玻璃基板500與玻璃基板夾具400上附著的研磨料漿以及玻璃屑等，然後將玻璃基板500送到檢驗工序進行檢驗後包裝。玻璃基板夾具400利用清洗機清洗乾燥後返回到下一道工序，進行循環使用。
圖6是本發明所提供研磨設備具體形式的一個實施例。橫嚮往復運動導軌320安裝在橫梁330上，研磨頭310沿導軌320橫嚮往復運動。橫梁330通過安裝在工作檯350上的導向裝置340縱嚮往復運動。導向裝置340由兩對分別固定在橫梁330和工作檯350兩側的絲槓與絲母配合，橫梁330的縱嚮往復動作通過安裝在工作檯350一側的伺服電機驅動絲槓帶動固定在橫梁330上的絲母，旋轉前進或者後退運動，也可以是安裝在工作檯350兩側的兩個電機通過帶式或者其它傳動機構運動來實現橫梁330的縱嚮往復運動；研磨頭310的橫嚮往復運動通過安裝在研磨機構橫粱330上的導軌320的滑動實現，也可以使用帶式傳動或者其它傳動機構運動來實現橫梁330的橫嚮往復運動。
工作檯350可以方便的實現玻璃基板夾具400的固定與分離，在工作檯350的上方或者兩側安裝有研磨機構的導向機裝置340。工作檯表面設計有與玻璃基板夾具相對應的安裝輪廓，方便玻璃基板夾具400輕鬆的放置其上和拿出。另外，工作檯表面350設計有很多氣孔，夾具與工作檯之間的固定通過接通氣孔內真空來實現，當需要夾具與工作檯分離時，可以斷掉真空或者截斷真空。工作檯採用變形量小的物構成，工作檯上設計有可方便操作的控制按鈕341。
圖7是本發明提供研磨設備研磨頭310的結構示意圖。在研磨頭310迴轉軸和電機318之間使用花鍵軸連接，在研磨頭310與氣缸311的之間使用浮動機構312連接。浮動機構312使用一對平面自調整軸承319來實現浮動。避免研磨頭310邊研磨邊移動過程中的對玻璃基板500產生的不良影響。研磨頭310的研磨壓力通過調整安裝在研磨機構上方的氣缸311控制，研磨壓力可通過控制氣路中的調壓閥進行調整。為了適用各種壓力的需要，在設置了多對調節器與電磁閥的組合。
圖8是研磨頭310的氣動原理圖，調壓閥3111用於消除研磨頭311的自重，當無氣壓時，可保證研磨設備異常斷電時，研磨頭310可停止於任何位置，對研磨頭310進行保護。調壓閥3115、3116、3117用於設置研磨過程中需要的不同壓力，利用電磁閥3113、3114的組合控制壓力的大小，利用電磁閥3112控制研磨頭的上下，也可以利用數字式的自動壓力調整裝置使用一路氣控制研磨頭的狀態。根據需要在研磨的過程中可以設置多個研磨壓力，例如在邊緣與中央設計不同的壓力，在研磨前期與後期採用不同的研磨壓力等。研磨轉速通過調整安裝在研磨機構本體上並驅動研磨頭轉動的電機318來實現，電機318可以使用變頻電機或者伺服電機，使用電氣來控制轉速的不同，例如在邊緣與中央採用不同的轉速，在研磨前期與後期採用不同的研磨轉速等。
研磨頭317是由耐腐蝕金屬製成，在研磨頭317的下表面利用粘合物粘貼研磨塊，根據研磨玻璃表面質量情況，選擇適當的研磨塊。研磨塊採用海綿狀的聚胺脂橡膠類物，可根據研磨玻璃特性選用不同的物。研磨頭317可以是1-4個的研磨頭，2個以上研磨頭可通過研磨頭的偏心設計，使研磨機主軸的中心和研磨麵中心保持一致，也可以通過公用軸的偏心旋轉實現研磨的均勻。多個研磨頭時通過自轉進行自轉研磨，各個研磨頭分別通過各自的電機驅動實現自轉和公轉的統一。
圖9是本發明研磨軌跡所採用線性回歸方程組合的一個具體實施例，圖中A1、A2、A3、A4代表預定研磨曲線在玻璃基板表面研磨的次數，M代表研磨量。為使玻璃基板角部得到充分研磨，採用圖九所提供方程沿預定軌跡對玻璃基板表面研磨，實驗發現可達到極佳的研磨效果。
圖10是採用本方法研磨前後的玻璃基板表面粗糙度的比較。實驗發現，使用本方程對玻璃基板表面研磨，可以大大降低研磨頭在研磨過程中產生的研磨頭半徑的中間位置與研磨頭半徑的兩個端部產生的研磨不均。
下面對研磨設備的工作流程進行介紹首先，研磨設備300的各項機構都處於初始位置研磨機構310在工作檯的後側，研磨頭310處於上升狀態，電氣均處於控制關閉狀態。
工作人員將吸附有玻璃板的夾具400與工作檯上的位置固定後，再通過操作面板上的按鈕將工作檯下方的真空開通，由於玻璃基板夾具400與工作檯350之間均是平面，因此兩者在真空的作用下將被固定不易分離。工作人員確認夾具400已牢固的和工作檯固定後，在操作面板上選擇開啟按鈕，研磨裝置的PLC開始工作，驅動研磨機構的伺服電機開始工作，伺服電機在PLC的控制下，精確的定位到工作檯350的中央位置，研磨頭310通過設計在研磨機構上的電機驅動開始旋轉，研磨料漿系統開始工作，在研磨機旁的料漿系統將料漿通過研磨機構中間的通孔泵送到研磨頭上，將料漿噴灑在玻璃板上。此時，研磨頭310在氣缸的作用下開始下降，當達到氣缸行程的另一端時(氣缸行程預先調整到合適研磨玻璃表面的位置)，研磨頭按照預先設置好的研磨壓力開始對玻璃基板表面進行研磨。
研磨完成後，研磨機構回到中央後，研磨頭提升後停止旋轉，然後料漿系統停止泵送，研磨機構沿導軌回到初始位置，完成研磨的過程。然後，工作人員通過操作面板取消真空，將輔助託架從工作檯方便的取下來，然後再裝載下一塊已經準備好的輔助託架，進行下一次的研磨工藝操作。
取出後的玻璃基板再進行玻璃基板的分離，分離後的夾具經清洗再投入下一次的使用，本發明所介紹的玻璃板的研磨工藝也就完成了。
權利要求
1.一種板狀物的研磨設備，用於板狀物的研磨以及拋光，其特徵在於具有能夠橫向和縱嚮往復運動且研磨頭的轉速和壓力可調的研磨機構，對應研磨機構的工作檯設置有吸附、固定和取出玻璃基板的玻璃基板夾具。
2.根據權利要求1所述的一種板狀物的研磨設備，其特徵在於所述的研磨機構包括研磨頭、驅動研磨頭橫向和縱嚮往復運動機構、控制研磨頭的轉速和壓力機構，研磨機構安裝在工作檯的兩側或上方。
3.根據權利要求2所述的一種板狀物的研磨設備，其特徵在於所述的驅動研磨頭橫向和縱嚮往復運動機構為在橫梁上安裝有橫嚮往復運動導軌，研磨頭安裝在橫嚮往復運動導軌上並通過傳動機構驅動研磨頭沿導軌橫嚮往復運動，橫梁安裝在工作檯的導向裝置上，並通過傳動機構驅動橫梁在導向裝置上縱嚮往復動作。
4.根據權利要求3所述的一種板狀物的研磨設備，其特徵在於研磨頭通過傳動機構驅動研磨頭沿導軌橫嚮往復運動是指研磨頭通過安裝在研磨頭上的電機驅動研磨頭沿導軌的滑動配合實現的。
5.根據權利要求3所述的一種板狀物的研磨設備，其特徵在於橫梁通過傳動機構驅動在導向裝置上縱嚮往復動作是指導向裝置由兩對分別固定在橫梁和工作檯兩側的絲槓與絲母配合，橫梁的縱嚮往復動作通過安裝在工作檯一側的伺服電機驅動絲槓帶動固定在橫梁上的絲母，旋轉前進或者後退運動。
6.根據權利要求2所述的一種板狀物的研磨設備，其特徵在於控制研磨頭的轉速和壓力機構為研磨機構上安裝有通過氣動迴路控制研磨頭壓力的氣缸組件，並且安裝有帶動研磨頭旋轉的電器組件，研磨頭迴轉軸上安裝有花鍵軸，花鍵軸通過齒輪與驅動部件嚙合，驅動部件連接電機，在研磨頭與氣缸的之間使用浮動機構連接，浮動機構使用一對平面自調整軸承來實現浮動，研磨頭的研磨壓力通過調整安裝在研磨機構上方的氣缸控制，研磨壓力可通過控制氣路中的調壓閥進行調整，通過電磁閥控制研磨頭的上下，研磨轉速通過調整安裝在研磨機構本體上並驅動研磨頭轉動的電機來實現。
7.根據權利要求1所述的一種板狀物的研磨設備，其特徵在於所述的對應研磨機構的工作檯設置有吸附、固定和取出玻璃基板的玻璃基板夾具是指在工作檯中央與玻璃基板夾具相接觸的表面設計有氣孔，玻璃基板夾具與工作檯之間的固定通過接通氣孔內真空來實現，夾具需要從工作檯下取下時，斷掉真空即可分離。
8.根據權利要求7所述的一種板狀物的研磨設備，其特徵在於在工作檯上設有與玻璃基板夾具相配合的凹槽，玻璃基板夾具的下邊緣周邊設有與工作檯凹槽相對應的凸臺，通過夾具上的凸臺實現與工作檯凹槽相對準確的定位。
9.一種板狀物的研磨方法，其特徵在於通過使用編程被研磨表面的運動軌跡，並採用板狀物裝卸載工藝的研磨方法。
10.根據權利要求9所述的一種板狀物的研磨方法，其特徵在於採用如下步驟1)將帶有板狀物的夾具通過夾具下邊緣四周的凸臺與工作檯上的凹槽相對應定位，然後真空通過工作檯與板狀物夾具中間的氣孔將兩者牢固的吸附在一起，2)研磨頭通過氣缸的伸出接觸板狀物的上表面，研磨機構通過自身的橫向和縱嚮往復運動在玻璃基板的上表面進行研磨，3)研磨機構的研磨曲線可以通過電氣設計為多種研磨軌跡和次數的組合，4)研磨結束後研磨機構返回初始位置，截斷氣孔中的真空，將帶有板狀物的夾具取出，5)將另一塊帶有板狀物的夾具按步驟1所述的方法安裝在工作檯上，進行下一塊板狀物的研磨。
全文摘要
本發明屬於板狀物的精細研磨以及拋光技術領域，尤其涉及一種對FPD玻璃基板進行精細研磨和拋光的板狀物的研磨設備及研磨方法，本發明的研磨方法，通過使用編程被研磨表面的運動軌跡，並採用新型板狀物裝卸載工藝的研磨方法，對板狀物表面進行精細研磨和拋光，本發明所提供研磨設備的研磨壓力和研磨轉速可調，沿安裝在工作檯上或者兩側的導向裝置縱嚮往復運動且自身可以橫嚮往復運動的研磨機構，並且設計安裝有研磨機構導向裝置並且可以方便實現固定與分離玻璃基板輔助託架的工作檯，採用本發明提供研磨方法和設備，可以對板狀物表面進行充分的研磨，減少板狀物裝卸載時間和設備停機時間，降低板狀物邊部缺陷產生的機率，同時大大提高研磨後板狀物表面的質量，實現高生產效率的研磨。
文檔編號B24B7/24GK1830621SQ200610017648
公開日2006年9月13日 申請日期2006年4月14日 優先權日2006年4月14日
發明者賈偉, 梁勇, 李長俊, 閻志勇, 張魁東 申請人:河南安彩高科股份有限公司