用於優化字符標記性能的系統和方法
2023-07-30 11:07:41 2
專利名稱：用於優化字符標記性能的系統和方法
技術領域：
本發明一般涉及受限旋轉電機系統，尤其涉及用於設計受限旋轉電機系統的系統。
背景技術：
受限旋轉電機一般包括步進電機和恆速電機。某些步進電機非常適合於要求高速和大掃描角的高佔空比鋸齒波掃描的應用。例如，美國專利NO.6,275,319公開了一種用於光柵掃描應用的光學掃描裝置。
然而，用於某些應用的受限旋轉電機，要求轉子以精確的和恆定的速度而不是通過鋸齒方式的步進和穩定(settling)在兩個位置之間移動。這些應用要求達到恆定速度所需的時間儘可能的短，且獲得的速度的誤差量儘可能的小。恆速電機一般提供更高的扭距常數並典型地包括轉子和用於使轉子繞中心軸旋轉的驅動電路，以及位置轉換器，例如，轉速計或位置傳感器，以及與轉換器耦合的反饋電路，其允許轉子由對輸入信號和反饋信號作出響應的驅動電路驅動。例如，美國專利NO.5,424,632公開了一種常規雙極受限旋轉電機。
圖1示出了一個標記系統10，其使用了兩個受限旋轉電機12、14，這兩個電機分別與反射鏡13和15耦合，以通過成像鏡頭20朝成像表面22引導由雷射源18產生的雷射束16。x掃描方向電機12和y掃描方向電機14的控制，以及雷射源18的開啟和關閉由控制器22提供。控制器24接收關於要在成像表面上作出的標記的輸入命令26。於是控制器24指引x掃描器14和y掃描器12相應地移動，並對輸入命令作出響應以及對目標平面處的成像表面的移動作出響應而開啟和關閉雷射源(例如，在低和高或高於標記門限值之間轉換)。該系統還可包括每個電機12和14內的位置檢測器，每個位置檢測器將位置檢測信號返回給控制器24。
這種受限旋轉電機可用於，例如，各種雷射掃描應用中，比如高速表面計量。其它雷射處理應用包括雷射焊接(例如，高速點焊)、表面處理、切割、鑽孔、標記、清理焊縫、雷射修補、快速定型、形成微結構，或在各種材料上形成密集排列的納米結構。
這種系統的處理速度典型地受到一個或多個反射鏡速度、X-Y級速率、材料交互作用和材料熱時間常數、要被處理的目標材料和區域的布局以及軟體性能的限制。一般地，在一個或多個反射鏡速度、位置精度以及穩定時間為限制性能的因素的應用中，掃描系統開環增益的任何重要的改進可轉化為直接通過量(immediate throughput)改進。
在受限旋轉電機致動器中，開環增益由電機的扭距常數，反射鏡的慣性和電機結構，以及功率放大器的增益特性來確定。該系統設計中的變化，比如前端(head)從一種尺寸變化到另一種尺寸，可能引起總慣性的重大變化，從而引起開環增益的變化。然而，通常必須設計和構建這種系統，以便充分地評估其性能。
因此，需要改進受限旋轉電機系統，具體地說，需要優化受限旋轉電機的性能。
發明內容
根據一個實施例，本發明提供了一種用於優化使用受限旋轉電機的雷射處理系統的性能的優化系統。該優化系統包括輸入單元，用於接收包含衝程速度、衝程延遲、跳躍速度和跳躍延遲的輸入參數的輸入單元，還包括評估單元，用於為達到期望的處理性能而識別最佳衝程速度或衝程質量之一。根據各種其它實施例，該評估單元為達到期望的標記質量識別一個最佳標記速度，在其它實施例中，該評估單元為達到期望的標記速度識別一個最佳標記質量。
參照附圖可進一步理解以下描述，其中圖1是現有技術的掃描或標記系統的示意圖；圖2是根據本發明的一個實施例，用於形成字母A的標記和跳躍向量的示意圖；圖3A和3B是在形成圖2所示的標記時，x和y位置命令與時間的關係示意圖；圖4A和4B是對於一組標記參數，對圖3A和3B的位置命令作出響應的x和y實際電機命令的示意圖；圖5是由圖4A和4B所示的實際電機命令形成的標記的示意圖；圖6A和6B是對於另一組標記參數，對圖3A和3B的位置命令作出響應的x和y實際電機命令的示意圖；圖7是由圖6A和6B中所示的實際電機命令形成的標記的示意圖；圖8A和8B是在根據本發明的實施例的系統中，以相對較低和較高的速度的字符標記的示意圖；圖9是根據本發明的實施例，量化一個標記的質量中誤差向量的識別的示意圖；圖10是根據本發明的實施例，量化另一個標記的質量中誤差向量的識別的示意圖；圖11是根據本發明的一些實施例標記質量量化分析的示意圖形表示；圖12是根據本發明的一個實施例，標記速度優化映射的示意圖形表示；圖13是根據本發明的另一個實施例，標記速度優化映射的示意圖形表示；圖14A-14C是根據本發明的一個實施例，以不同的參數設置的標記的示意圖；圖15A和15B是根據本發明的一個實施例，使用其它參數設置的標記的示意圖；圖16是根據本發明的一個實施例的虛擬標記系統的示意圖。
所示的附圖僅僅是說明性的目的。
具體實施例方式
根據本發明的各種實施例，通過識別達到最高速度或質量的標記速度(MS)、標記延遲(MD)、跳躍速度(JS)、跳躍延遲(JD)、以及雷射器開關延遲(Lon/off)的特殊組合對受限旋轉電機系統中的電機性能進行速度或質量優化。產生輸出性能的因素的組合是通過獲得真實或虛擬圖像，並將真實或虛擬圖像與特殊標記或字符的輸入命令相比較來識別的。該比較為輸入數據上的點集合識別輸入數據和真實或虛擬圖像之間的一組差異。於是該系統獲得對於標記或字符的平均差異(平均標記誤差)，或獲得最大單個標記誤差(最大標記誤差)。於是選擇對於速度或質量產生最小誤差的因素(MS、MD、JS、JD、Lon/off)的組合。
因此，提供一種系統和方法以優化二維雷射標記系統的性能。根據一個實施例的標記系統包括兩個光學掃描器。每個掃描器包括一個作為致動器的受限旋轉電機。一種基於這種方法的優化技術是通過以從標記頭得出的模型標記仿真來執行的。對於給定的圖案，根據命令參數的所有實際設置的仿真標記結果確定優化命令集。標記質量優化是通過選擇相同速度的所有標記之間的最佳質量標記來完成，而標記速度優化則通過搜索維持指定的標記質量的最高標記速度來獲得。仿真和實驗結果表明，與標準的零標記命令集相比，標記速度提高了40％，或標記質量提高了四倍。
雷射標記系統廣泛地用於工業中，其應用範圍從在半導體晶片上標記標籤到超大卡車的引擎。在這些應用中，標記是通過利用兩個單獨受控的反射鏡偏轉進入的雷射束以使光束點在標記表面產生水平和垂直移動來完成的。通常，該反射鏡是由專門設計的直流(DC)受限旋轉扭距電機，有時稱為檢流計來驅動的。標記一個給定圖案的速度受到具有電機的伺服系統的速度的限制。隨著對更有效地生產受限旋轉電機的持續需求，提高標記速度同時保持指定的標記質量成為標記系統設計和使用者的挑戰。
從控制系統的觀點來看，雷射標記系統可具有伺服系統的特徵，其中需要標記雷射束忠實地跟隨繪製期望圖案的一組衝程。儘管標記質量與總跟蹤誤差有關，但它是基準標記圖案和確定標記質量的實際標記之間的差異。由於實際標記僅由掃描器移動的總時間響應的一部分組成，使總跟蹤誤差最小化的優化方案可能不會導致標記系統的最佳標記性能。
可根據本發明的各種實施例使用在此提出的兩個功能，以基於實際標記的質量評估標記系統的性能這些是最大標記誤差(MME)和平均標記誤差(AME)。
為了生成用於給定標記圖案的標記命令，該圖案可以被分解成稱為衝程的小線段。每個衝程包括恆速斜坡命令，其後跟隨一個固定延時。斜坡的速度稱為標記速度(MS)，而延時稱為標記延遲(MD)。在此提出的方法，是利用標記質量評估函數為給定的標記頭和標記圖案選擇最佳的MS和MD設置。
根據一個實施例的X-Y雷射標記系統包括兩個掃描器。標記點的橫軸可以被定義為X軸，而縱軸可以被定義為Y軸。每個軸中的掃描器由作為致動器的受限旋轉扭距、作為光束偏轉裝置的反射鏡和相關的控制和驅動器電子器件組成。聚焦透鏡也可以插入到目標平面和Y軸反射鏡之間的光束路徑，以減小點大小並增加雷射點的能量密度。
在雷射標記期間，雷射束從雷射頭投射到要被標記的目標上，該目標稱為標記平面。在雷射束路徑中的X和Y反射鏡通過X和Y掃描器的旋轉角分別控制光束點在標記面板上的位置。標記是在目標材料和雷射之間的相互作用點處產生的。
對每個掃描器的用於標記給定圖案的位置基準命令是X和Y掃描器的期望的角位置的連續波形。這些位置基準命令是通過一組衝程向量和標記速度以及標記延遲設置生成的。每個衝程向量是構建整個圖案的直線段。如果我們將圖案投射在複平面上，這些線段可能被顯現為向量，該向量的方向代表雷射束在標記期間的移動方向。因為要被標記的圖案由一系列的小向量表示，這種類型的雷射標記也被稱為向量標記。
例如，產生大寫字母A的一系列向量在圖2的30示出。每個向量隨後在時域內被轉換成斜坡信號，斜坡速度由標記速度(MS)控制。在每個斜坡命令的結尾，是任選停止周期，被定義為標記延遲(MD)。圖3A示出了用於標記圖2中的字母A的X軸命令。特別的，如圖3A所示，掃描器將光束沿X軸移動第一時間周期，如32所示，停止一個延遲周期，如34所示，接著沿X軸的正方向再次標記，如36所示，然後靜止，如38所示，接著沿X軸的負方向移動，如40所示，然後靜止，如42所示，接著沿X軸的正方向標記，如44所示，然後靜止，如46所示。
圖3B示出了用於標記圖2中的字母A的Y軸命令。特別的，如圖3B所示，掃描器將光束沿Y軸移動第一時間周期，如50所示，停止一個延遲周期，如52所示，接著沿Y軸的負方向標記，如54所示，然後靜止，如56所示，接著沿Y軸的正方向移動，如58所示，然後靜止，如60所示。
注意，MS和MD設置是全程設置。換句話說，相同的MS和MD值用於圖案中的所有向量。從標記開始到標記結束的全部時間確定標記給定圖案的速度。對於相同向量序列的更大的MS和更小的MD導致更高的標記速度，但是更大的MS也可能導致質量的嚴重降級。
例如，圖4A和4B所示為用於形成圖2所示的標記A的期望和實際標記命令。圖4A示出了當標記延遲(MD)增加時對於X軸的標記命令70和結果實際命令72。圖4B示出了當標記延遲(MD)增加時對於Y軸的標記命令74和結果實際命令76。如圖5中78所示，由圖4A和4B中72和76所示的實際命令產生的標記導致產生一個具有與延遲區域相關的輻射增加區域(如79所示)的標記。
圖6A和6B所示為用於形成圖2所示的標記A的期望和實際標記命令，其中標記速度(MS)增大。圖6A示出了當標記速度(MS)增大時對於X軸的標記命令80和結果實際命令82，圖6B示出了當標記速度(MS)增大時對於Y軸的標記命令84和結果實際命令86。如圖7中88所示，由圖6A和6B中82和86所示的實際命令產生的標記導致產生一個具有超限(如89所示)和不足標記(如90所示)的標記。因此，期望這些極端之間的平衡。
因為伺服系統具有有限的跟蹤能力，對於固定的MD值，MS值越高，標記速度越快。但是，達到更高的標記速度是以標記質量的降級為代價的。圖8A和8B所示是以MD等於0的兩種不同速度掃描的相同圖案的實際標記的圖像。觀察到，與圖8B中所示的以較高速度標記的圖案94相比，圖8A中以較低速度標記的圖案92具有較高的質量，每個字符的拐角更清楚。
因為標記速度不僅由MS值確定，還由MD值確定，存在許多導致相同標記速度的MS和MD值的組合(例如，總標記速度＝MS+MD，而總跳躍速度＝JS+JD)。申請人發現存在一組提供最佳標記值的MS和MD。還期望在一些應用中找到在可接受的標記質量級別可達到的最大標記速度。
評估標記質量的基本構思是將結果標記與基準圖案相比較。這是通過從其對應的時序重建基準圖案和實際標記圖案來完成的。實際標記的軌跡僅從掃描頭的時間響應部分來獲得。這是因為在字符標記中，如同在許多其它向量標記應用中一樣，由於掃描器的一些移動而關閉雷射束。圖2中具有虛線的向量是這種移動或跳躍的實例。
為了量化標記誤差，我們從空間上將每個連續標記劃分為相等長度部分，並通過連接基準標記和實際標記之間的對應劃分點來形成誤差向量。
例如，如圖9所示，用於一個標記(如96所示)的命令可在多個點(在100示出)與實際標記(在98示出)相比較。根據一個實施例，標記96可被以慢的總速度(標記速度加標記延遲)物理地記錄在成像媒介中，且實際標記98也可被物理地記錄在成像媒介中。這兩個記錄可以如以下討論的被掃描和比較。根據另外的實施例，標記96可被創建作為了解輸入到系統中用以產生標記的命令的數學表達。在該實例中，實際標記98可以根據提供給X和Y電機的驅動信號來構建。根據另外的實施例，也可根本不需要利用電機來生成實際標記98，而是執行利用特定參數模擬特定電機的數學分析。
在誤差點處標記96和98之間的差異(或誤差向量)可通過為誤差向量之間的間隔選擇一個增量值來生成。例如，根據一個實施例，該系統可使標記96的每個衝程表徵為一行位置。每個衝程的開始和結束是確定的，且沿衝程的中點也是確定的。如果該衝程很長，該處理可在完整衝程的每一半中再次確定一個中點。該系統於是使標記98的每個衝程表徵位一行位置，並如同標記96一樣適當地確定終點和中點。於是每個誤差向量被定義為標記96和98上的對應點之間的距離。
例如，圖10是基準標記102(以矩形的形式)和實際標記104的示意圖。第一個衝程的端點被識別為101和103。該衝程的中點被識別且由於該衝程很長，每一半又被劃分。實際標記104的相應衝程也類似地被劃分為端點和中點，且誤差向量被識別為在相關點之間延伸。例如，誤差向量106在每一個基準標記102和基準標記104的第一個衝程的第一個端點之間延伸。這些端點誤差向量被識別，例如，在106、110、114和118。中點誤差向量在107、108、109、112、115、116、117和120被識別。構建MME的過程涉及查找最大誤差(例如，110)，而構建AME的過程涉及查找12個誤差向量的平均值。如果中點的數量變得非常多，則AME接近基準標記102和實際標記104之間的區域。
根據其它實施例，誤差向量可以在以每個點之間大約10到1000微米的均衡間隔覆蓋標記的柵格圖案中確定。這些誤差向量可以用多種方法來量化。再者，定義的這些誤差向量的長度指示實際標記與基準標記的偏差。
可以使用標記質量的兩個評估函數來量化誤差向量最大標記誤差(MME)被定義為所有誤差向量的最大長度，而平均標記誤差(AME)被定義為所有誤差向量的平均長度。因此，MME是實際標記與理想標記的最大偏差。另一方面，AME代表整個圖案的標記誤差。實際上，對於足夠大的劃分數量，AMR指示由基準標記和實際標記形成的條帶的總面積。
由於定義了評估函數，可以通過比較所有可能的標記之間的質量評估函數值來確定用於給定圖案的最佳命令集。具體來說，可以仿真對於期望的圖案具有不同的MS和MD設置的標記，可以記錄由評估函數值定義的標記速度和標記質量。
為獲得最佳質量標記，可以選擇以指定的標記速度提供最小評估函數數量的命令集。為獲得最佳速度標記，可以選擇在預定質量級別產生最高標記速度的命令集。
對商業可用的標記頭的命令集優化的仿真和實驗結果表明，可根據本發明優化掃描系統。在標記仿真中使用的掃描器模型源自利用系統識別技術的標記頭。在標記中使用一行「ABCDEFGHIJ」。標記速度和標記延遲設置是標準化的。MS和MD中的更大的值分別代表更高的標記速度和更長的標記延遲周期。標記質量值，即，MME和AME值，由被標記的字符的高度來標準化並被轉換為成分貝。
在標記質量優化中，為導致產生給定標記速度的MS和MD的所有實際組合計算標記質量值MME和AME。圖6示出了在標記速度617cps(字符每秒)，MME(在126)和AME(在128)與MD的關係圖。與MD等於0的標準命令集相比，我麼可以看出在MD值大約為0.5時獲得最小標記誤差。對應於MS設置的該MD值是在MD等於0的情況下MS設置的1.4倍。利用優化的命令集，MME和AME分別減小係數4和2。注意，MME和AME在非常接近MD的區域到達最小。
圖12示出了在130指示的區域中，用於導致不同標記速度的MS和MD的所有實際組合的MME。圖13示出了在132指示的區域中，用於導致不同標記速度的MS和MD的所有實際組合的AME。為了以給定的標記質量找到最大標記速度，可以確定以給定標記質量值的圖表的下邊界。例如，由於標準命令集的MS＝1且MD＝0，且標記速度為618cps，則MME等於-22dB。在這個質量級別，最大標記速度可達到869cps。這是標記速度的40％的提高。
圖14A-14C示出了使用和不用優化命令集產生的仿真標記。圖14A示出了(在140)MD＝0的標準命令設置。圖14B示出了(在142)以如14A的相同速度的優化標記質量，而圖14C示出了(在144)以如14A的標記質量在869cps的標記。
圖15A和15B示出了用於速度優化的商業可用標記頭的實驗結果。用於圖15A中的標記(如150所示)的最初標記速度為935cps，而用於圖15B中的標記(如152所示)的優化標記速度為1110cps。因此，本發明提供了一種根據各種實施例通過命令集優化來提高字符標記性能的方法。
根據另一個實施例，本發明使標記質量可通過將期望標記與虛擬標記而非與實際標記相比較來量化。虛擬標記是通過數學建模以表示特殊參數集下的特殊系統中的實際標記來確定的。
在量化標記質量時，該系統可遞增地調節MS、MD、JS、JD其中之一，同時使速度或質量任意一個保持固定以確定最佳參數集。接著重複該過程，直到期望的性能特徵(速度或質量)開始下降。在其它實施例中，該系統可使用先前記錄的值的查找表，並為期望的性能只查找最高可用速度或質量。
圖16示出了一個虛擬標記系統。將輸入命令提供給虛擬受限旋轉電機控制器，而虛擬受限旋轉電機控制器將輸出命令提供給虛擬電機，輸出軸和反射鏡系統。位置檢測系統記錄雷射器已經打開時的位置檢測信號，從而確定一個虛擬雷射標記圖象。
因此，一種計算機模型仿真該雷射標記系統。虛擬光學標記器將要被標記的指定圖案與在標記給定圖案時標記器的各種實時信號一起轉換成標記圖案的圖像。如圖16所示，系統160包括一個命令生成和雷射控制單元162，其提供圖案生成和雷射控制，以將給定的多維圖象和雷射器控制命令一起轉化為反射鏡位置命令的時間序列。命令生成和雷射器控制單元162生成如163所示的命令歷史和雷射器控制信號。標記圖象是通過合併雷射器控制信號、光束軌跡、雷射器類型和要被標記的材料獲得的。
系統160還包括閉環致動器系統164，其仿真由電機驅動的光束偏轉表面的動態響應，還使用光學機械模型或部件166將反射鏡角度轉化為目標表面上的光束軌跡。雷射標記系統經參數輸入單元168接收用戶可調掃描參數，並經圖案輸入單元170接收要被標記的圖案。閉環致動器系統164提供如172所示的電機電流，功率和角位置軌跡。
光學機械部件提供如174所示的反射鏡、透鏡和目標上的雷射束軌跡。系統160還包括雷射系統176，且該系統提供如178所示的標記圖案的圖像。
獨立的雷射器控制信號被導出作為表示在標記過程期間任何給定時間雷射器的開關狀態的定時數據序列。電機系統模型仿真受制於以上生成的輸入命令的X和Y電機系統的時間響應。電機系統模型的主要輸出是由一批角位置數據和對應的時間值表示的X和Y反射鏡的角位移。來自電機系統的其它輸出包括該電機系統的實時電機電流和功率耗散。
雷射束的光路徑可如圖1所示，包括給定半徑的雷射束，具有規定特性的光學透鏡，以及反射鏡、雷射器、透鏡和目標表面之間的相關位置。在反射鏡、透鏡和目標表面上的光強度分布也是已知的。雷射束由高斯強度圖案模擬，且沿著光束的路徑傳播。
通過合併雷射控制信號和反射鏡位置軌跡，反射鏡、透鏡和目標表面上的雷射光強度剖面軌跡可以以算術方式構建。然後通過由於在標記過程期間表面材料和雷射強度變化之間的交互作用而導致的目標表面上的形狀和/或材料特性變化來獲得標記圖像。
用戶可調掃描參數可包括標記速度，其是標記期間基準光束的速度，標記延遲，其是每個標記結尾的等待周期，跳躍速度，其是跳躍期間基準光束的速度，跳躍延遲，其是每個跳躍結尾的等待周期，雷射器開啟延遲，其是基準標記開始和打開雷射束之間的時間差，以及雷射器關閉延遲，其是基準標記結束和關閉雷射束之間的時間差。
在操作期間，要被標記的指定圖案首先被轉換成一系列雷射束位置。接著，利用用戶指定的標記參數，包括標記速度、標記延遲、跳躍速度和跳躍延遲將期望的雷射束位置轉化為X和Y軸反射鏡的角位置。期望的反射鏡角位置命令由一批位置值和對應的時間值表示。要被標記的圖案可定義為具有其對應的標記和跳躍控制的反射鏡位置的期望軌跡。
命令生成和雷射控制單元162利用用戶定義的掃描參數，即MS、MD、JS、JD、雷射器開啟和雷射器關閉將圖案轉換成掃描頭的位置命令。這些命令由X和Y軸兩者的基準反射鏡位置的時間標誌序列表示。還利用雷射器開啟和雷射器關閉控制參數生成雷射器開/關控制順序。
注意，以上參數之間存在以下關係MS*MS＝MSx*MSx+MSy*MSy以及JS*JS＝JSx*JSx+JSy*Jsy。
利用電機系統的閉環系統模型生成X和Y反射鏡的位置。為了仿真光學掃描器的時間響應的目的，存在幾種表示系統模型的方法。這些包括一組微分/差分方程，轉移函數，狀態空間矩陣，頻率響應數據，以及圖形系統模型，如以下討論的模型。閉環電機系統164的數學模型可從物理定律得到或從真實系統測量確定，或可形成為兩者的組合。其目的是當使用由命令生成和雷射控制系統162生成的命令信號指控時仿真電機系統的動態響應。
光學機械元件166將給定的反射鏡位置轉換成標記表面上的雷射束的位置。這是通過在空間中將來自雷射源的雷射束建模為一組平行線來完成的。該反射鏡隨後在空間中被模擬為平面。首先，計算著落在聚焦透鏡上的光束作為由x和y反射鏡位置定義的兩個平面反射的線。接著，利用控制所使用的透鏡的光學方程式來計算標記表面上的光束位置和形狀。例如，對於標準透鏡，射入和射出的光束遵循餘弦規則，以及對於F-theta透鏡，光束出射角與光束入射角成比例。雷射控制用於確定光束點是否應在標記表面上形成。
隨後使用標記表面上的雷射點的軌跡來形成標記圖像。這是通過在整個標記過程期間線性疊加著落在標記表面的給定區域上的所有光束的光束點來完成的。
在算術上這是通過多維卷積完成的。
本領域的技術人員將理解，對以上公開的實施例的許多修改和變化不偏離本發明的精神和範圍。
權利要求
1.一種用於優化使用受限旋轉電機的雷射處理系統的性能的優化系統，所述優化系統包括用於接收包含衝程速度、衝程延遲、跳躍速度和跳躍延遲的輸入參數的輸入裝置；以及用於為達到期望的處理性能而識別最佳衝程速度或衝程質量之一的評估裝置。
2.根據權利要求1的優化系統，其中所述評估裝置為達到期望的標記質量而識別最佳標記速度。
3.根據權利要求1的優化系統，其中所述評估裝置為達到期望的標記速度而識別最佳標記質量。
4.根據權利要求1的優化系統，其中所述優化裝置進一步包括用於對所述評估裝置作出響應而改變衝程速度、衝程延遲、跳躍速度和跳躍延遲中至少之一的調諧裝置。
5.根據權利要求1的優化系統，其中所述評估裝置包括用於確定平均標記誤差的裝置。
6.根據權利要求1的優化系統，其中所述評估裝置包括用於確定最大標記誤差的裝置。
7.根據權利要求1的優化系統，其中所述系統包括用於提供要被所述評估裝置評估的實際標記數據的實際標記裝置。
8.根據權利要求1的優化系統，其中所述系統包括用於提供要被所述評估裝置評估的虛擬標記數據的虛擬標記裝置。
9.一種用於優化使用受限旋轉電機的雷射標記系統的性能的優化系統，所述優化系統包括用於接收包含標記速度、標記延遲、跳躍速度和跳躍延遲的輸入參數的參數輸入裝置；用於接收代表要被標記的圖案的數據的圖案輸入裝置；用於為達到期望的標記性能，通過使將被標記的圖案與標記圖案數據進行比較，識別最佳標記速度或標記質量之一的評估裝置，其中所述標記圖案數據代表響應於所述將被標記的圖案而由雷射標記系統產生的標記圖案。
10.根據權利要求9的優化系統，其中所述評估裝置為達到期望的標記質量而識別最佳標記速度。
11.根據權利要求9的優化系統，其中所述評估裝置為達到期望的標記速度而識別最佳標記質量。
12.根據權利要求9的優化系統，其中所述優化裝置進一步包括用於對所述評估裝置作出響應而改變標記速度、標記延遲、跳躍速度和跳躍延遲中的至少之一的調諧裝置。
13.根據權利要求9的優化系統，其中所述評估裝置包括用於確定平均標記誤差的裝置。
14.根據權利要求9的優化系統，其中所述評估裝置包括用於確定最大標記誤差的裝置。
15.根據權利要求9的優化系統，其中所述系統包括用於提供將被所述評估裝置評估的實際標記數據的實際標記裝置。
16.根據權利要求9的優化系統，其中所述系統包括用於提供將被所述評估裝置評估的虛擬標記數據的虛擬標記裝置。
17.根據權利要求9的優化系統，其中所述評估裝置包括用於生成誤差向量的誤差向量生成裝置，其中所述誤差向量代表表示要被標記的圖案的數據和已標記的圖案數據之間的差異。
18.一種用於調諧包括受限旋轉電機的雷射標記系統的方法，所述方法包括以下步驟接收包含標記速度、標記延遲、跳躍速度和跳躍延遲的輸入參數；接收代表要被標記的圖案的數據，以及為達到期望的標記性能，通過使要被標記的圖案與響應於所述要被標記的圖案而由雷射標記系統產生的標記圖案進行比較，識別最佳標記速度或標記質量之一。
19.根據權利要求18的方法，其中所述為達到期望的標記性能而識別最佳標記速度或標記質量之一的步驟包括為達到期望的標記質量而識別最佳標記速度。
20.根據權利要求18的方法，其中所述為達到期望的標記性能而識別最佳標記速度或標記質量之一的步驟包括為達到期望的標記速度而識別最佳標記質量。
全文摘要
公開了一種用於優化使用受限旋轉電機的雷射處理系統的性能的優化系統。該優化系統包括用於接收包含衝程速度、衝程延遲、跳躍速度和跳躍延遲的輸入參數的輸入單元，並包括用於為達到期望的處理性能而識別最佳衝程速度或衝程質量之一的評估單元。
文檔編號B41M5/24GK1910497SQ200580002877
公開日2007年2月7日 申請日期2005年1月21日 優先權日2004年1月23日
發明者黃宇弘 申請人:傑斯集團公司