液晶顯示裝置的再生方法

2023-07-15 06:51:51 1

專利名稱：液晶顯示裝置的再生方法
技術領域：
本發明涉及一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於，從在玻璃基板的表面上順次形成從黑底膜、濾色器膜、保護膜、ITO膜、聚醯亞胺膜、金屬膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封劑膜中選取的至少一個以上的該玻璃基板選擇性地去除一個或多個膜。
背景技術：
液晶顯示裝置具有配置有透明電極、偏光板等的兩片以上的玻璃板，液晶物質夾持在該玻璃板間。於是通過向該透明電極給予電荷，該液晶物質的方向發生變化，透過光的偏光方向也發生改變，因此用偏光板可以控制光的透過/不透過。於是通過將這種控制運用到細分的領域中，可以顯示文字或圖象。進而，液晶顯示裝置具有用於對電荷進行控制的薄膜電晶體(TFT)、用於對文字或圖象進行著色的濾色器等。
圖12為表示液晶顯示裝置一例構造的斷面圖。
在該例中，位於光入射一側的玻璃基板11和位於光射出一側的玻璃基板1相向配置。
在玻璃基板1的一面形成有柵格狀或帶狀的黑底膜(以下稱為BM膜)2，在該BM膜2的柵格或帶上形成具有紅(R)、綠(G)、藍(B)各種顏色的濾色膜(以下稱為CF膜)3。由透明樹脂構成的保護膜(以下稱為OC膜)4形成於CF膜3上。BM膜2通常由金屬及/或金屬氧化物或合成樹脂構成，CF膜3由例如丙烯酸共聚物系彩色樹脂構成。作為透明電極的ITO膜(銦錫氧化物)5及作為使液晶分子群按一定方向配列的取向膜的聚醯亞胺膜(以下稱為PI膜)6順次形成於該OC膜4的表面上。偏光膜7形成於玻璃基板1的另一側。在以下本申請說明書中，將如該玻璃基板1那樣，順次形成有BM膜2、CF膜3、OC膜4、ITO膜5及PI膜6的一個或多個的玻璃基板稱為濾色器側玻璃基板。
TFT(薄膜電晶體)元件12以規定間隔形成於玻璃基板11的一面上。ITO膜15及PI膜16順次形成於TFT元件12的表面上。作為該TFT元件12，多採用反交錯a-SiTFT，反交錯a-SiTFT有通道保護型和通道邊緣型兩種。
偏光膜17形成於玻璃基板11的另一面上。
在以下本申請說明書中，將如該玻璃基板11那樣，順次形成有TFT元件12、ITO膜15及PI膜16的一個或多個的玻璃基板稱為TFT側玻璃基板。
液晶8被封入PI膜6和16間，為了調整及維持該PI膜6和16間的間隔，在PI膜6和16間配置有調距板9。
在液晶顯示裝置中，通常從該玻璃基板11的、液晶8一側的對側照射背照光，在該狀態下，通過在ITO膜5和15間外加對應於圖象的電壓，使液晶8的排列發生變化，控制光的透過/不透過，從而使畫像得以顯示。
上述濾色器側玻璃基板及TFT側玻璃基板，只有滿足規定品質基準的，才能用於液晶顯示裝置。該品質基準高，無法滿足品質基準，則不能用於液晶顯示裝置，大量產生被廢棄處理的基板。因此，從該被廢棄處理的基板，將玻璃基板上形成的各種膜等的全部或只是不滿足品質基準的一部分去除，使玻璃基板再生，將該再生的基板再次用於濾色器側玻璃基板及TFT側玻璃基板等的製造中。
此外，對於TFT側玻璃基板，為了製造裝置的維修等而使製造停止後，在再次開始連續製造前，首先進行使用成膜條件設定用玻璃基板(以下稱為虛設基板(dummy基板))的製造，對製造裝置的各設定條件進行確認。作為該虛設基板，所使用的是在玻璃基板的整個面上形成由金屬膜及合金膜(Ta、Mo、W、Ti、Cr、Al等及它們的合金)、氧化膜(SiOx、Ta2O5、Al2O3、ITO)、氮化膜(SiNx)等構成的單層膜或多層膜、PI膜等，並沿線路塗覆密封劑的虛設基板。通常，該虛設基板不能成為製品，常常是以同樣的目的，在使用一回或多回後被廢棄。因此，從該廢棄的虛設基板去除所形成的各種膜等的全部或一部分，從而使玻璃基板再生。
以往為了從玻璃基板上去除各種膜等，需要使用剝離液。例如，當從形成由Cr制的BM膜、CF膜及ITO膜這三個膜的濾色器側玻璃基板上，將這些膜的全部或一部分去除時，需將該濾色器側玻璃基板浸漬於裝有以下表1所示的剝離液的貯存槽中。
表1

但是，當採用該方法去除各種膜時，產生例如下述的問題。
(1)當只有ITO膜不滿足品質時，不能在不損傷CF膜的情況下只去除ITO膜。
(2)當同時去除CF膜和ITO膜時，不能使BM膜及玻璃基板的浸蝕量減少，例如不能使一次處理中玻璃基板的浸蝕量達到5nm(50)以下。
除了上述3個膜外，對於形成有OC膜及PI膜的濾色器側玻璃基板，也要求將不滿足品質基準的一部分膜或全部膜去除，從而使玻璃基板再生，但尚未找到在不損傷應殘存的膜、玻璃基板的情況下能使玻璃基板再生的剝離液。
此外，在TFT側玻璃基板及虛設基板中，一般是通過將它們浸漬於裝有剝離液的貯存槽中，去除TFT元件、規定膜或密封劑，但當使用已知的剝離液時，與濾色器側玻璃基板的情況相同，存在著對應殘存的薄膜造成損傷、玻璃基板被浸蝕等問題。

發明內容
針對上述情況，本發明的目的在於，提供一種通過使用規定的剝離液，能夠只將不滿足品質基準的一個或多個膜選擇性地去除，不產生損傷應殘存膜及玻璃基板被浸蝕等問題的液晶顯示用濾色器側玻璃基板、TFT側玻璃基板及虛設基板等玻璃基板的再生方法。
更具體說，本發明涉及一種玻璃基板的再生方法，其目的在於提供下述(1)～(7)等。
(1)一種濾色器側玻璃基板及TFT側玻璃基板的再生方法，其中，在位於玻璃基板表側的PI膜的下面形成有ITO膜時，通過使用含有中性有機溶劑或中性有機溶劑及多元醇類及/或水的溶液，能夠在不損傷ITO膜以下膜的情況下，只將PI膜去除。
(2)一種濾色器側玻璃基板的再生方法，其中，在位於玻璃基板表側的ITO膜的下面形成有OC膜及/或CF膜時，通過使用含有滷素系無機酸或有機酸、或它們與多元醇類的水溶液，能夠在不損傷OC膜以下膜的情況下，只將ITO膜去除。
(3)一種濾色器側玻璃基板的再生方法，其中，在位於玻璃基板表側的OC膜的下面形成有CF膜及BM膜時，通過使用含有無機酸的水溶液、有機或無機的鹼性水溶液，能夠在不損傷BM膜及玻璃基板的情況下，將OC膜及CF膜去除。
(4)一種濾色器側玻璃基板的再生方法，其中，在玻璃基板上形成有金屬及/或金屬化合物制的BM膜時，通過使用含有無機酸、有機酸或硝酸鈰銨的水溶液，能夠在玻璃基板不被浸蝕的情況下將BM膜去除。
(5)一種TFT側玻璃基板的再生方法，其中，在形成有ITO膜和TFT元件時，通過使用含有無機酸、有機酸或硝酸鈰銨的水溶液，能夠將形成的全部膜去除。
(6)一種在玻璃基板不被浸蝕的情況下，能夠將全部膜去除的虛設基板的再生方法，其特徵在於在玻璃基板上形成有PI膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜的一個或多個時，將玻璃基板浸漬於含有中性有機溶劑、或中性有機溶劑及多元醇類及/或水的溶液中，將PI膜去除，將玻璃基板浸漬於含有滷素系無機酸或有機酸、或它們與多元醇類的水溶液中，將ITO膜去除，將玻璃基板浸漬於含有無機酸、有機酸、或硝酸鈰銨的水溶液中，將PI膜及ITO膜以外的膜去除。
(7)一種虛設基板的再生方法，其中，在玻璃基板上形成有密封劑膜時，通過使用含有無機酸或有機酸的水溶液，能夠在玻璃基板不被浸蝕的情況下，只將密封劑去除。
本發明的第一點在於提供了一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於從順次形成有BM膜、CF膜、OC膜、ITO膜及PI膜的一個或多個的玻璃基板的膜形成側的外層側，使用規定的剝離液，選擇性地將該膜的一個或多個去除。在這裡，由於BM膜用於在各色的濾色器間遮光，因此通常形成柵格狀或帶狀，但並不限於此。CF膜由R、B、G各色的濾光器構成，形成於玻璃基板上，顯示規定的顏色，為了確保各色濾色器間的遮光，優選如圖12所示，搭架形成於BM膜上。OC膜被設計用來覆蓋該CF膜的表面，ITO膜被設計成透明電極，PI膜被設計成用於使液晶取向的取向膜。本發明第一點所涉及的玻璃基板，通常用作液晶顯示裝置用的濾色器側玻璃基板。作為本發明第一點所涉及的玻璃基板，可以只形成有從BM膜、CF膜、OC膜、ITO膜及PI膜中選取的一個膜，也可以依次形成有多個膜。此外，也可以依次形成有BM膜、CF膜、OC膜、ITO膜及PI膜的全部。
在本發明的第一點中，從如上所述形成的膜的外層側的膜，一個或多個膜被選擇性地去除。其結果是，能夠只將不滿足品質基準的一個或多個膜去除，在殘留有滿足品質基準的膜的狀態下，使玻璃基板再生，因此能夠有效地使其再次利用於液晶顯示裝置的玻璃基板的製造等。
本發明第二點涉及該玻璃基板的再生方法，其特徵在於將形成有PI膜及ITO膜的玻璃基板(其中PI膜為外層側)，浸漬於含有從碳數為4～10的環狀酯及碳數為3～10的羥基取代的脂肪醚中選取的至少一種的有機溶劑，或含有該有機溶劑及多元醇及/或水的溶劑中，選擇性地將該PI膜去除。根據本發明第二點所涉及的再生方法，在不對ITO膜產生造成電阻值變化的損傷及汙染的情況下，可以選擇性地只去除PI膜。作為本發明第二點所適用的玻璃基板，其實例舉出液晶顯示裝置用的濾色器側玻璃基板及TFT側玻璃基板，如果外層側為PI膜，可以具有PI膜、ITO膜以外的膜或元件等。
碳數為4～10的環狀酯及碳數為3～10的羥基取代的脂肪醚為中性有機溶劑，具體實例包括γ-丁內酯、甲基溶纖劑等。作為浸漬玻璃基板的溶劑，優選γ-丁內酯、甲基溶纖劑及它們的混合溶劑，特別優選含有50重量％以上γ-丁內酯的溶劑。
本發明的第三點涉及一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於將形成有ITO膜及OC膜及/或CF膜的玻璃基板(其中ITO膜為外層側)，浸漬於(1)含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的滷素系無機酸的水溶液、(2)含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種以上的有機酸的水溶液、或(3)含有該滷素系無機酸或該有機酸、及多元醇類的水溶液中，將該ITO膜選擇性去除。
根據本發明第三點所涉及的再生方法，能夠在不對CF膜造成透光率及色度變化等損害的情況下，選擇性地只將ITO膜去除。作為本發明第三點所適用的玻璃基板，其具體實例為液晶顯示裝置用濾色器側玻璃基板，如果外層側為ITO膜，其可以具有CF膜、ITO膜、OC膜以外的膜。
本發明的第四點涉及一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於將形成有OC膜、CF膜以及BM膜的玻璃基板(其中BM膜含有金屬及/或金屬氧化物，OC膜為外層側)，浸漬於(1)含有從鹽酸、硝酸、硫酸及磷酸中選取的一種以上的無機酸水溶液、或(2)含有從N一甲基-2-吡咯烷酮、氫氧化四甲基銨、氫氧化鉀、氫氧化鈉及肼中選取的一種以上的鹼性水溶液中，將該BM膜以外的膜，例如OC膜、CF膜去除。
根據本發明第四點所涉及的再生方法，在不損傷該BM膜及玻璃基板的情況下，能夠去除OC膜、CF膜等其他膜。作為本發明第四點所適用的玻璃基板，其實例舉出液晶顯示裝置用濾色器側玻璃基板。
本發明的第五點涉及一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於將只形成有BM膜的玻璃基板(其中BM膜含有金屬及/或金屬氧化物)，浸漬於(1)含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液、或(2)含有硝酸鈰銨液的水溶液中，將該BM膜去除。
根據本發明第五點所涉及的再生方法，能夠在玻璃基板不被浸蝕的情況下，只將BM膜去除。作為本發明第五點所適用的玻璃基板，其實例舉出液晶顯示裝置用濾色器側玻璃基板。
本發明第六點提供了一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於從順次形成有TFT元件、ITO膜及PI膜的一個或多個的玻璃基板的膜及元件形成側的外層側，用規定的剝離液，選擇性地將該膜或元件的一個或多個去除。在這裡，TFT元件可以為通常用於液晶顯示裝置等的薄膜電晶體，ITO膜及PI膜分別與上述本發明第一點中的ITO膜及PI膜相同。
本發明第六點所涉及的玻璃基板，其通常用作液晶顯示裝置用TFT側玻璃基板。
在本發明的第六點中，從上述形成的膜的外層側，選擇性地去除一個或多個膜。其結果是，能夠只將不滿足品質基準的一個或多個膜去除，在殘留有滿足品質基準的膜或元件的狀態下，使玻璃基板再生，因此可以有效地再次利用於液晶顯示裝置用玻璃基板的製造等。
本發明第七點涉及一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於將形成有ITO膜及TFT元件的玻璃基板(其中ITO膜為外層側)，或形成有ITO膜、TFT元件和從金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜中選取的一種以上的玻璃基板(其中ITO膜為外層側)，浸漬於(1)含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或(2)含有硝酸鈰銨的水溶液中。
根據本發明第七點所涉及的再生方法，能夠在玻璃基板不被浸蝕的情況下，將上述的全部膜去除。作為本發明第七點所適用的玻璃基板，其實例舉出液晶顯示裝置用TFT側玻璃基板。
本發明的第八點提供了一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於從順次形成有PI膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封劑膜中的一個或多個的玻璃基板的膜形成側的外層側，用規定的剝離液，選擇性地將該膜的一個或多個去除。在這裡，ITO膜及PI膜分別與上述本發明第一點中的ITO膜及PI膜相同。
本發明第八點所涉及的玻璃基板，其通常被用作液晶顯示裝置製造用的虛設基板。
在本發明第八點中，從上述形成的膜的外層側，將一個或多個膜選擇性地去除。其結果是，能夠只將不滿足品質基準的一個或多個膜去除，在殘留有滿足品質基準的膜的狀態下，能夠使虛設基板再生，因此可以有效地再次利用虛設基板。
本發明第九點涉及一種玻璃基板的再生方法，其為形成有PI膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜中的一個或多個的玻璃基板的再生方法，其特徵在於包括(1)工序、(2)工序和(3)工序的至少一個工序(1)通過將該玻璃基板浸漬於含有從碳數為4～10的環狀酯及碳數為3～10的羥基取代的脂肪醚中選取的至少一種的有機溶劑、或含有該有機溶劑及多元醇及/或水的溶劑中，去除PI膜；(2)通過將該玻璃基板浸漬於含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的滷素系無機酸的水溶液、含有選自草酸、乙酸和甲酸的一種以上的有機酸的水溶液或含有該滷素系無機酸或該有機酸、及多元醇類的水溶液中，將ITO膜去除；及(3)將該玻璃基板浸漬於含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或含有硝酸鈰銨液的水溶液中，將PI膜及ITO膜以外的膜去除。
本發明第九點所涉及的玻璃基板，其通常被用作液晶顯示裝置製造用的虛設基板。
在本發明第九點中，在玻璃基板不被浸蝕的情況下，可以將不滿足品質基準的全部膜去除。
本發明第十點涉及一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於將只形成有密封劑的玻璃基板浸漬於含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液中，將該密封劑去除。
本發明第十點所涉及的玻璃基板，其通常被用作液晶顯示裝置製造用的虛設基板。
在本發明第十點中，在玻璃基板不被浸蝕的情況下，可以只將密封劑去除。


圖1為表示本發明實施例1中的再生處理前的濾色器側玻璃基板的斷面圖。
圖2為表示本發明實施例1中的再生處理後的濾色器側玻璃基板的斷面圖。
圖3為表示本發明實施例2中的再生處理前的濾色器側玻璃基板的斷面圖。
圖4為表示本發明實施例2中的再生處理後的濾色器側玻璃基板的斷面圖。
圖5為表示本發明實施例3中的再生處理前的濾色器側玻璃基板的斷面圖。
圖6為表示本發明實施例3中的再生處理後的濾色器側玻璃基板的斷面圖。
圖7為表示BM膜的厚度與處理次數關係的圖。
圖8為表示BM膜的OD值與處理次數關係的圖。
圖9為表示本發明實施例4中的再生處理前的TFT側玻璃基板的斷面圖。
圖10為表示本發明實施例5中的虛設基板的斷面圖。
圖11為表示本發明實施例6中的虛設基板的斷面圖。
圖12為表示液晶顯示裝置一例構造的斷面圖。
符號說明1，11，21 玻璃基板2 BM膜3 CF膜4 OC膜5，15 ITO膜6，16 PI膜7 偏光膜8 液晶9 調距板10 光12 TFT元件18 金屬膜19 密封劑具體實施方式
以下根據實施例及附圖對本發明進行具體說明。但實施例並不限定本發明的範圍。
圖1及圖2為表示液晶顯示裝置的濾色器側玻璃基板的一例的斷面圖。圖1為表示在進行該實施例的再生處理前的濾色器側玻璃基板的斷面圖。圖1及圖2為以顯微鏡照片所確認的為基準圖示的模式圖。在這方面，在圖3～圖6及圖9～圖11中也相同。
如圖1所示，在處理前的玻璃基板1上，依次形成有BM膜2、CF膜3、OC膜4、ITO膜5及厚度2μ的PI膜6。
將該玻璃基板1浸漬於裝有由γ-丁內酯(100％)構成的剝離液的存儲槽中，在60℃下浸漬2小時，取出並水洗。其後，投入到枚葉(扇片)式洗滌機中，進行純水洗滌和氣刀乾燥。
圖2為表示進行了以上處理後的濾色器側玻璃基板的斷面圖。在圖1中，有PI膜6，在圖2中不存在PI膜6，表示只有PI膜6被選擇性地去除。此外，確認對ITO膜5沒有產生電阻值變化及汙染等損傷。而且也確認玻璃基板1沒有被浸蝕。
如圖3所示，在處理前的玻璃基板1上，依次形成有BM膜2、CF膜3、OC膜4及厚度1000的ITO膜5。
將該玻璃基板1浸漬於裝有剝離液的存儲槽中，該剝離液由氫碘酸、乙二醇及水以重量比30/30/40組成的混合溶劑構成，在40℃下浸漬2小時，取出並水洗。其後，投入到扇片式洗滌機中，進行純水洗滌和氣刀乾燥。
圖4為表示進行了以上處理後的濾色器側玻璃基板的斷面圖及表示其表面狀態的照片。在圖3中有ITO膜5，在圖4中不存在ITO膜5，表示只有ITO膜5被選擇性地去除。此外，確認對CF膜3沒有造成透過率及色度變化等損傷。進而，也確認玻璃基板1沒有被浸蝕。
作為本實施例的剝離液，代替上述剝離液，還可以使用含有草酸、乙酸及甲酸的一種或多種與多元醇的水溶液。實施例3圖5及圖6為表示液晶顯示裝置的濾色器側玻璃基板的一例的斷面圖。圖5為表示進行該實施例的再生處理前的濾色器側玻璃基板的斷面圖。
如圖5所示，在處理前的玻璃基板1上，依次形成有厚度為2000的Cr制BM膜2、厚度為1.5μ的CF膜3、以及厚度為1μ的OC膜4。
將該玻璃基板1浸漬於裝有由N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、氫氧化四甲基銨(TMAH)及水以重量比30/30/40的混合溶劑構成的剝離液的存儲槽中，在60℃下浸漬2小時，取出並水洗。其後，投入到扇片式洗滌機中，進行純水洗滌和氣刀乾燥。
圖6為表示進行了以上處理後的濾色器側玻璃基板的斷面圖。在圖5中確認有BM膜2、CF膜3和OC膜4。在圖6中只有BM膜2，表示CF膜3及OC膜4被選擇性地去除。此外，玻璃基板1沒有被浸蝕也得到確認。
圖7表示以三種厚度的BM膜2為基礎，分別反覆多次進行實施例3的再生處理(實施例3中採用剝離液的處理)時，BM膜2的厚度與處理次數之間的關係。厚度為採用觸針式表面粗度計所測定的BM膜2的規定位置的厚度，表示離玻璃基板1的厚度。
圖8表示反覆進行實施例3的再生處理時，BM膜2的OD值(光學濃度)與處理次數之間關係。OD值使用光透過濃度計進行測定。
從圖7及圖8可以判定，即使處理次數增加，BM膜2的厚度及OD值也基本上保持一定。由於OD值保持一定，因此可以判定BM膜2沒有被浸蝕，由於BM膜2離玻璃基板1的厚度保持一定，因此可以判定玻璃基板1沒有被浸蝕。
作為本實施例的剝離液，代替上述剝離液，還可以使用含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸及氯磺酸中選取的一種或多種的水溶液，或含有從氫氧化鉀、氫氧化鈉及肼中選取的一種或多種的水溶液。
此外，當BM膜2不為Cr制，而為樹脂制時，通過上述本實施例的處理，BM膜2、CF膜3及OC膜4都被去除。此時，可以將玻璃基板1作為純玻璃進行再利用。
通過將該玻璃基板1浸漬於含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的一種或多種的水溶液，或含有硝酸鈰銨的水溶液中，玻璃基板1上形成的Cr制BM膜被去除。
如上所示，通過進行實施例1～3的全部處理，可以將圖1所示的濾色器側玻璃基板的全部膜徹底地去除。而且，由於BM膜2及玻璃基板1幾乎沒有被浸蝕，因此可以有效地將該玻璃基板1進行再利用。
如圖9所示，在處理前的玻璃基板11上依次形成有TFT元件12、厚度為1000的ITO膜15及厚度為2μ的PI膜16。
與實施例1相同，選擇性地去除PI膜16(此時沒有發現ITO膜損傷)，與實施例2相同，選擇性地去除ITO膜15後，通過在80℃的硫酸中浸漬2小時，然後在80℃的磷酸中浸漬2小時，TFT元件12剝離。通過該處理，TFT元件12、ITO膜15及PI膜16從玻璃基板11被完全去除。也確認玻璃基板11沒有被浸蝕。
即，如從該實施例所看到的那樣，可以從TFT側玻璃基板將TFT元件12、ITO膜15及PI膜16全部去除，而且玻璃基板11幾乎沒有被浸蝕，因此可以有效地將該玻璃基板11進行再利用。
將該虛設基板在80℃的硫酸中浸漬2小時，然後在80℃的磷酸中浸漬2小時，將金屬膜18完全去除。也確認玻璃基板21沒有被浸蝕。
作為本實施例的剝離液，代替上述剝離液，還可以使用含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種或多種的水溶液，或硝酸鈰銨。實施例6圖11為虛設基板的一例，在玻璃基板21上面塗有圖案化的密封劑19。
將該虛設基板在80℃的硫酸中浸漬2小時，然後在80℃的磷酸中浸漬2小時，將密封劑19完全去除。玻璃基板21沒有被浸蝕也得以確認。
作為本實施例的剝離液，代替上述剝離液，還可以使用含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種或多種的水溶液。
根據上述本發明第九點的說明可以看到，在虛設基板中形成有PI膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜的一個或多個時，例如，通過將該玻璃基板浸漬於含有γ-丁內酯及/或甲基溶纖劑的中性有機溶劑、或該有機溶劑與水的混合溶劑中，除去PI膜，將玻璃基板浸漬於含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的滷素系無機酸的水溶液、或從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種以上的有機酸的水溶液中，除去ITO膜，將玻璃基板浸漬於含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液、或含有硝酸鈰銨液的水溶液中，除去PI膜及ITO膜以外的膜，可以從該玻璃基板將全部膜去除。
即，如從上述實施例等中可以看到的那樣，由於可以將虛設基板中的金屬膜18、合金膜、氧化膜、氮化膜、ITO膜、聚醯亞胺膜及密封劑19全部去除，並且玻璃基板21幾乎不被浸蝕，因此可以將該玻璃基板21有效地再利用。
如上所述，根據本發明，可以將形成於液晶顯示裝置用的濾色器側玻璃基板、TFT側玻璃基板及虛設基板上的全部膜或元件去除。而且，由於可以在製造工序中選擇性地只將不滿足品質基準的膜及形成的膜去除，同時殘留滿足品質的膜，因此可以有效地使液晶顯示裝置用的濾色器側玻璃基板、TFT側玻璃基板及虛設基板再生。
即，通過使用本發明的再生方法，可以從製造中不良的濾色器側玻璃基板、TFT側玻璃基板及虛設基板中，只將不滿足品質基準的膜或元件去除，從而使其能再利用。進而，可以從成為廢品的上述玻璃基板中將全部膜去除，從而使其能夠再利用。
列舉更為具體的例子進行說明，根據本發明第一點、本發明第六點及本發明第八點，可以選擇性地只將不滿足品質基準的一個或多個膜去除，在殘留有滿足品質基準的膜等的狀態下，能夠有效地將玻璃基板進行再利用。
根據本發明第二點，在對ITO膜不產生電阻值變化等損傷及汙染的情況下，可以選擇性地只去除PI膜，而玻璃基板也不被浸蝕。
根據本發明第三點，在對濾色器側玻璃基板等中的CF膜不產生透過率及色度變化等損傷的情況下，可以選擇性地只去除ITO膜，而玻璃基板也幾乎不被浸蝕。
根據本發明第四點，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，將不滿足品質基準的BM膜以外的膜去除。
根據本發明第五點，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，只將BM膜去除。
根據本發明第七點，在TFT側玻璃基板中，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，從TFT側玻璃基板將不滿足品質基準的全部膜去除。
根據本發明第九點，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，從虛設基板將不滿足品質基準的全部膜去除。
根據本發明第十點，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，只將密封材料去除。
權利要求
1.一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於，從順次形成有黑底膜、濾色器膜、保護膜、ITO膜及聚醯亞胺膜中的1個或多個的玻璃基板的、膜形成側的外層側，用規定的剝離液，將該膜的1個或多個選擇性地去除。
2.根據權利要求1記載的玻璃基板的再生方法，其特徵在於，在玻璃基板上至少形成有聚醯亞胺膜及ITO膜，使聚醯亞胺膜成為外層側，規定的剝離液為含有從碳數4～10的環狀酯及碳數3～10的羥基取代的脂肪醚中選取的至少一種的有機溶劑，或含有該有機溶劑及多元醇及/或水的溶劑，將該玻璃基板浸漬於該剝離液中，選擇性地將該聚醯亞胺膜去除。
3.根據權利要求2記載的玻璃基板的再生方法，其特徵在於，碳數4～10的環狀酯及碳數3～10的羥基取代的脂肪醚為從γ-丁內酯及甲基溶纖劑中選取的1種以上。
4.根據權利要求1記載的玻璃基板的再生方法，其特徵在於，在玻璃基板上至少形成有ITO膜及保護膜及/或濾色器膜，使得ITO膜成為外層側，規定的剝離液為(1)含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的滷素系無機酸的水溶液，(2)含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種以上的有機酸的水溶液，或(3)含有該滷素系無機酸或該有機酸及多元醇類的水溶液，將該玻璃基板浸漬於該剝離液中，選擇性地將該ITO膜去除。
5.根據權利要求1記載的玻璃基板的再生方法，其特徵在於，在玻璃基板上至少形成有保護膜、濾色器膜和含有金屬及/或金屬氧化物的黑底膜，使得保護膜成為外層側，規定的剝離液為(1)含有從鹽酸、硝酸、硫酸及磷酸中選取的一種以上的無機酸水溶液，或(2)含有從N-甲基-2-吡咯烷酮、氫氧化四甲基銨、氫氧化鉀、氫氧化鈉及肼中選取的一種以上的鹼性水溶液，將該玻璃基板浸漬於該剝離液中，將該黑底膜以外的膜去除。
6.根據權利要求1記載的玻璃基板的再生方法，其特徵在於，在玻璃基板上只形成含有金屬及/或金屬氧化物的黑底膜，規定的剝離液為(1)含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或(2)含有硝酸鈰銨液的水溶液，將該玻璃基板浸漬於該剝離液中，將該黑底膜去除。
7.一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於，從順次形成有TFT元件、ITO膜及聚醯亞胺膜的1個或多個的玻璃基板的、膜及元件形成側的外層側，用規定的剝離液，將該膜或元件的1個或多個選擇性地去除。
8.根據權利要求7記載的玻璃基板的再生方法，其特徵在於。在玻璃基板上至少形成有ITO膜及TFT元件，使得ITO膜成為外層側，或在玻璃基板上形成有ITO膜、TFT元件和從金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜中選取的一個以上，使得ITO膜成為外層側，規定的剝離液為(1)含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或(2)含有硝酸鈰銨的水溶液，將該玻璃基板浸漬於該剝離液中。
9.一種玻璃基板的再生方法，其特徵在於，從順次形成有聚醯亞胺膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封劑膜的一個或多個的玻璃基板的、膜形成側的外層側，用規定的剝離液，將該膜的一個或多個選擇性地去除。
10.根據權利要求9記載的玻璃基板的再生方法，其特徵在於，包括(1)工序、(2)工序和(3)工序中的至少一個工序(1)通過將該玻璃基板浸漬於含有從碳數4～10的環狀酯及碳數3～10的羥基取代的脂肪醚中選取的至少一種的有機系溶劑，或含有該有機系溶劑及多元醇及/或水的溶劑中，從而將聚醯亞胺膜去除；(2)通過將玻璃基板浸漬於含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的滷素系無機酸的水溶液，含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種以上的有機酸的水溶液，或含有該滷素系無機酸或該有機酸及多元醇類的水溶液中，從而將ITO膜去除；及(3)通過將該玻璃基板浸漬於含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或含有硝酸鈰銨液的水溶液中，從而將聚醯亞胺膜及ITO膜以外的膜去除。
11.根據權利要求10記載的玻璃基板的再生方法，其特徵在於，碳數4～10的環狀酯及碳數3～10的羥基取代的脂肪醚為從γ-丁內酯及甲基溶纖劑中選取的一種以上。
12.根據權利要求9記載的玻璃基板的再生方法，其特徵在於，在玻璃基板上只形成有密封劑膜，規定的剝離液為含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，將該玻璃基板浸漬於該剝離液中，從而將該密封劑膜除去。
全文摘要
提供一種能發揮出色效果的液晶顯示用濾色器側玻璃基板、TFT側玻璃基板及虛設基板等玻璃基板的再生方法，包括從順次形成有黑底膜、濾色器膜、保護膜、ITO膜及聚醯亞胺膜中的一個或多個的玻璃基板，順次形成有TFT元件、ITO膜及聚醯亞胺膜中的一個或多個的玻璃基板，或順次形成有聚醯亞胺膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封劑膜中的一個或多個的玻璃基板的外層側，用規定的剝離液，選擇性地將這些膜的一個或多個去除。
文檔編號H01L21/02GK1432849SQ03101680
公開日2003年7月30日 申請日期2003年1月14日 優先權日2002年1月16日
發明者西山智弘, 出口乾郎, 糸川勝博, 溝口幸一 申請人:西山不鏽化學股份有限公司