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底塗層形成用塗布液以及具有塗布該塗布液所形成的底塗層的電子照相感光體的製作方法

2023-06-21 14:12:56 2


專利名稱::底塗層形成用塗布液以及具有塗布該塗布液所形成的底塗層的電子照相感光體的製作方法
技術領域:
:本發明涉及經塗布、乾燥形成電子照相感光體的底塗層時所使用的底塗層形成用塗布液的製造方法、在通過塗布由該方法得到的塗布液而形成的底塗層上具有感光層的感光體、使用該感光體的圖像形成裝置以及使用該感光體的電子照相盒。在經塗布、乾燥利用本發明的製造方法得到的底塗層形成用塗布液所形成的底塗層上具有感光層的電子照相感光體能夠很好地用於電子照相方式的印表機、傳真機和複印機等。
背景技術:
:近年來,由於即時性、能獲得高品質的圖像等方面,電子照相技術不再僅局限在複印機領域而被廣泛應用於各種印表機領域。在作為電子照相技術中的核心的感光體方面,開發了使用與無機類光導電材料相比具有無公害、容易製造等優點的有機類光導電材料作為其光導電材料的有機感光體。通常,有機感光體通過在導電性支持體上形成感光層來得到,並且,已知有所謂的分散型感光體和所謂的層積型感光體等,所述分散型感光體具有單層的感光層,其在粘合劑樹脂中溶解或分散有光導電性材料;所述層積型感光體具有由至少兩層構成的感光層,並且其中層積了含有電荷產生物質的電荷產生層和含有傳輸電荷的物質的電荷輸送層。有機感光體有時會因感光體使用環境的變化或反覆使用引起的電特性等的變化而在通過使用該感光體而形成的圖像中出現種種缺陷,為了穩定以形成良好的圖像,已知的方法包括在導電性基板和感光層之間設置具有粘合劑樹脂和氧化鈦粒子的底塗層的方法(例如參見專利文獻1)。從其生產效率高的觀點出發,有機感光體所具有的層通常是通過塗布、乾燥在各種溶劑中溶解或分散了材料的塗布液來形成的,對於含有氧化鈦粒子和粘合劑樹脂的底塗層來說,由於氧化鈦粒子和粘合劑樹脂在底塗層中是以不相容的狀態存在的,所以,利用分散有氧化鈦粒子的塗布液作為底塗層形成用塗布液進行塗布。以往,這種塗布液通常利用球磨機、砂磨機、行星磨、輥磨等公知的機械粉碎裝置經長時間將氧化鈦粒子溼式分散到有機溶劑中來製造(例如參加專利文獻1)。進而公開了在使用分散介質來分散底塗層形成用塗布液中的氧化鈦粒子的情況下,通過使用氧化鈦或氧化鋯材質的分散介質,能夠提供即使在低溫低溼條件下反覆充電曝光特性也優異的電子照相感光體的技術(例如參見專利文獻2)。但是,現有技術中,在圖像方面和生產時塗布液的穩定性等各個方面對於形成更高品質的圖像的要求存在很多性能上尚不充分之處。專利文獻1:特開平11-202519號公報專利文獻2:特開平6-273962號公報
發明內容本發明是鑑於上述電子照相技術的背景提出的,其目的是提供具有高穩定性的底塗層形成用塗布液、在種種使用環境下也能形成高圖像品質的圖像且不易產生黑點或色點等圖像缺陷的高性能電子照相感光體、使用了該感光體的圖像形成裝置以及使用了上述感光體的電子照相盒。本發明的發明人等對上述課題進行了認真研究,結果發現,通過使用粒徑為與通常使用的分散介質的粒徑相比為特別小的粒徑的分散介質作為用於分散底塗層形成用塗布液中金屬氧化物粒子的分散介質,能夠得到使用時的穩定性優異的底塗層形成用塗布液,並且,具有通過塗布、乾燥該塗布液得到的底塗層的電子照相感光體在不同的使用環境中均有良好的電特性,而且使用了該感光體的圖像形成裝置能形成高品質的圖像且極難出現一般認為是由於絕緣破壞等而產生的黑點或色點等圖像缺陷,從而完成了本發明。具體地說,本發明具有下述要點。(1)一種電子照相感光體的底塗層形成用塗布液,該塗布液含有金屬氧化物粒子和粘合劑樹脂,其特徵在於,所述塗布液中的金屬氧化物凝聚體二次粒子的體積平均粒徑為O.lpm以下,並且累積90%粒徑為0.3pm以下。(2)—種電子照相感光體的底塗層形成用塗布液和該底塗層形成用塗布液的製造方法,其特徵在於,所述含有金屬氧化物粒子和粘合劑樹脂的電子照相感光體的底塗層形成用塗布液含有用溼式攪拌球磨機進行分散處理得到的金屬氧化物粒子;所述溼式攪拌球磨機包括圓筒形定子、設置在定子一端的漿料供給口、設置在定子另一端的漿料排出口、用於將填充到定子內的介質和從供給口供給的漿料攪拌混合的轉子和連結在排出口的分離器,所述分離器使用葉輪型分離器,該分離器與轉子一體旋轉或與轉子各自獨立地旋轉,通過離心力的作用將介質和漿料分離後將漿料從排出口排出,所述溼式攪拌球磨機的特徵為,將旋轉驅動該分離器的軸的軸心製成與上述排出口相通的中空排出路,或者所述溼式攪拌球磨機的特徵為,所述分離器包括相對向的兩片盤、葉片和支持單元,所述兩片盤在相對向的內側具有葉片的嵌合槽,所述葉片嵌合於嵌合槽並處於兩片盤之間,所述支持單元從兩側夾持其間存在有葉片的盤。(3)—種電子照相感光體的底塗層形成用塗布液和在導電性支持體上具有塗布該塗布液形成的底塗層的電子照相感光體,所述電子照相感光體的底塗層形成用塗布液含有粘合劑樹脂和金屬氧化物粒子,其特徵在於,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以上的情況下,將該塗布液用重量比為7:3的甲醇和1-丙醇的混合溶劑稀釋而得到的稀釋液對波長為400nm的光的吸光度和對波長為1000nm的光的吸光度的差為l.O(Abs)以下,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以下的情況下,上述差值為0.05(Abs)。(4)一種電子照相感光體的底塗層形成用塗布液的製造方法和具有通過塗布由該方法製造的底塗層形成用塗布液形成的底塗層的電子照相感光體,所述製造方法是含有金屬氧化物粒子和粘合劑樹脂的電子照相感光體的底塗層形成用塗布液的製造方法,該製造方法的特徵在於,作為所述金屬氧化物粒子使用以平均粒徑為5,200pm的分散介質進^f亍了分散的金屬氧化物粒子。(5)—種電子照相感光體,其在導電性支持體上具有底塗層和感光層,所述底塗層含有粘合劑樹脂和金屬氧化物粒子,所述感光層形成於戶萬述底塗層上,該電子照相感光體的特徵在於,在將所述底塗層用重量比為7:3的甲醇和1-丙醇的混合溶劑分散而得到的分散液中,金屬氧化物凝聚體二次粒子的體積平均粒徑為O.lpm以下,並且累積90%粒徑為0.3pm以下。(6)--種電子照相感光體,其在導電性支持體上具有底塗層和感光層,所述底塗層含有粘合劑樹脂和金屬氧化物粒子,所述感光層形成於所述底塗層上,該電子照相感光體的特徵在於,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以上的情況下,將該底塗層用重量比為7:3的甲醇和1-丙醇的混合溶劑分散而得到的分散液對波長為400nm的光的吸光度和對波長為1000nm的光的吸光度的差為0.3(Abs)以下,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以下的情況下,上述差值為0.02(Abs)以下。(7)—種電子照相感光體,其在導電性支持體上具有底塗層和感光層,所述底塗層含有粘合劑樹脂和金屬氧化物粒子,所述感光層形成於所述底塗層上,該電子照相感光體的特徵在於,使用光幹涉顯微鏡,利用組合高精度位相位移檢測法和幹涉條紋的次數計數進行檢測的表面凹凸測定裝置對所述底塗層表面進行測定,測定得到的面內均方根粗度(RMS)的值為10nm100nm、面內算術平均粗度(Ra)的值為10nm50nm、面內最大粗度(P-V)的值為100nm1000nm。(S)—種電子照相感光體,其在導電性支持體上具有底塗層和感光層,所述底塗層含有熱塑性樹脂和金屬氧化物粒子且膜厚為6pm以下,所述感光層形成於所述底塗層上,該電子照相感光體的特徵在於,所述金屬氧化物粒子與所述熱塑性樹脂的重量比例為2以上,並且所述電子照相感光體的絕緣破壞電壓為4kV以上。(9)一種電子照相感光體,其在導電性支持體上具有底塗層和感光層,所述底塗層含有粘合劑樹脂和金屬氧化物粒子,所述感光層形成於所述底塗層上,該電子照相感光體的特徵在於,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以上的情況下,換算成所述底塗層為2pm時,所述底塗層對波長為480nm的光的正反射與所述導電性支持體對波長為480nm的光的正反射的比為50%以上,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以下的情況下,換算成所述底塗層為2pm時,所述底塗層對波長為400nm的光的正反射與所述導電性支持體對波長為400nm的光的正反射的比為50%以上。(10)—種圖像形成裝置,其特徵在於,其具有本發明涉及的電子照相感光體、使所述感光體帶電的充電單元、對帶電的該感光體進行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、用調色劑對該靜電潛像進行顯影的顯影單元和將調色劑轉印到被轉印體的轉印單元;以及一種圖像形成裝置,其特徵還在於,所述充電單元與所述電子照相感光體接觸配置。(11)一種圖像形成裝置,其是以具有本發明涉及的電子照相感光體、對所述感光體帶電的充電單元、對帶電的該感光體進行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、用調色劑對該靜電潛像進行顯影的顯影單元和將調色劑轉印到被轉印體的轉印單元為特徵的圖像形成裝置,該圖像形成裝置的特徵在於,所述像曝光單元所用的光的波長為350nm600nm。(12)—種電子照相盒,其特徵在於,其具有本發明涉及的電子照相感光體、使所述感光體帶電的充電單元、對帶電的該感光體進行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、用調色劑對該靜電潛像進行顯影的顯影單元和將調色劑轉印到被轉印體的轉印單元中的至少一種單元;以及一種電子照相盒,其特徵還在於,所述充電單元與所述電子照相感光體接觸配置。通過本發明,底塗層形成用塗布液形成穩定的狀態,能夠長期保存和使用,不會出現凝膠化、分散的金屬氧化物粒子發生沉澱的現象。另外,該塗布液在使用時以粘性為主的物理性質的變化小,連續在支持體上塗布、乾燥形成感光層時,所製造的各感光層的膜厚均勻。並且,具有使用通過本發明的方法製造的塗布液形成的底塗層的電子照相感光體在低溫低溼條件下也具有穩定的電特性,感光體電特性優異。進而,根據使用了本發明的電子照相感光體的圖像形成裝置,能形成黑點和色點等圖像缺陷極少的良好圖像,特別是通過與該電子照相感光體接觸配置的充電單元進行充電的圖像形成裝置能形成黑點和色點等圖像缺陷極少的良好的圖像。另外,使用本發明的電子照相感光體,利用像曝光單元所使用的光的波長為350nm600nm的圖像形成裝置能因初期帶電電位和靈敏度高而得到高品質的圖像。圖1說明具有本發明的電子照相感光體的圖像形成裝置的一個實施方式的要素構成的簡圖。圖2說明實施例1024的電子照相感光體中,作為電荷產生物質所使用的氧鈦酞菁相對於CuK(x特性X射線的粉末X射線衍射光譜圖。圖3說明本發明涉及的溼式攪拌球磨機的縱剖面圖。符號說明1感光體2充電裝置(充電輥)3曝光裝置4顯影裝置5轉印裝置6清潔裝置7定影裝置41顯影槽42攪拌器43供給輥44顯影輥45制約部件(規制部材)71上部定影部件(定影輥)72下部定影部件(定影輥)73加熱裝置T調色劑P記錄紙(紙、介質)14分離器15軸16夾套17定子19排出路21轉子24滑輪25聯軸27篩網支點29產品漿料取出口32葉片26原料漿料的供給口28篩網(^夕"一>)31盤35閥體具體實施例方式下面對本發明的實施方式進行詳細說明,但下述描述的對構成要素的說明是本發明實施方式的代表例,實施時可在不超出本發明主旨的範圍內適當變化。本發明涉及電子照相感光體的底塗層形成用塗布液、該塗布液的製造方法、具有塗布該塗布液形成的底塗層的電子照相感光體、使用該電子照相感光體的圖像形成裝置以及使用了該電子照相感光體的電子照相盒。本發明涉及的電子照相感光體在導電性支持體上具有底塗層和感光層。本發明涉及的底塗層設置在導電性支持體和感光層之間,其具有下述功能改善導電性支持體與感光層的粘接性、掩蓋導電性支持體的汙損或損傷等、防止由於雜質或表面物理性質的不均勻化引起的載流子注入、改善電特性的不均勻性、防止由於反覆使用引起的表面電位下降、防止局部表面電位變動(產生圖像品質缺陷的原因)等,該底塗層不是表現出光電特性所必須的層。<底塗層形成用塗布液〉本發明的底塗層形成用塗布液用於形成底塗層,該塗布液含有體積平均粒徑為O.lpm以下且累積90%粒徑為0.3pm以下的金屬氧化物凝聚體二次粒子。本發明涉及的電子照相感光體的底塗層形成用塗布液中,金屬氧化物粒子的一次粒子發生凝聚而形成凝聚體二次粒子。本發明規定的金屬氧化物粒子的體積平均粒徑以及累積90%粒徑是該凝聚體二次粒子涉及的值,以粒子總體積為100%來計算累積曲線時,其累積曲線中累積到50%處的粒徑為體積平均粒徑(中心徑Median徑),累積曲線中累積到90%處的粒徑為累積90%粒徑。這些值可以通過重量沉降法、光透射粒度分布測定法等公知的方法進行測定。作為一個例子,可以通過粒度分析計(日機裝株式會社,商品名"7<夕a卜,'乂夕UPAU150(MODEL9340))等進行測定。本發明涉及的電子照相感光體的底塗層形成用塗布液的光透射率可以通過熟知的分光光度計(absorptionspectrophotometer)進行測定。測定光透射率時的比色皿尺寸、樣品濃度等條件根據所使用的金屬氧化物粒子的粒徑、折射率等物理性質進行改變,通常,調整適當的樣品濃度以保證要測定的波長範圍(本發明中為400nm1000nm)不超出檢測器的測定範圍。本發明中,調整樣品濃度使測試液中的金屬氧化物粒子的量在0.0075重量%0.012重量%。用於調整樣品濃度的溶劑通常使用作為底塗層形成用塗布液的溶劑而使用的溶劑,但是,如果與底塗層形成用塗布液的溶劑和粘合劑樹脂具有相容性、混合時不產生混濁,並且在400nm1000nm的波長範圍不具有大的吸光,則可以使用任意的溶劑。更具體地說,可以使用甲醇、乙醇、l-丙醇、2-丙醇等醇類;甲苯、二甲苯、四氫呋喃等烴類;丁酮、甲基異丁基酮等酮類。另外,測定時使用的比色皿的大小(光程長)為10mm。所使用的比色皿只要在400nm1000nm的範圍實質上是透明的,則可以使用任意的比色皿,優選使用石英比色皿,特別優選使用樣品比色皿和標準比色皿的透射率特性的差在特定範圍內的匹配比色皿(7'乂千卜"七A)。通常能用於電子照相感光體的任何金屬氧化物粒子也可用作本發明涉及的金屬氧化物粒子。作為金屬氧化物粒子,更具體可以舉出選自由氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯、氧化鋅、氧化鐵等組成的組的含有至少一種金屬元素的金屬氧化物粒子;鈦酸鈣、鈦酸鍶、鈦酸鋇等含有至少2種金屬元素的金屬氧化物粒子。這些當中,優選帶隙(bandgap)為2eV4eV的金屬氧化物粒子。金屬氧化物粒子可以僅使用一類粒子,也可以混合至少兩類粒子使用。這些金屬氧化物粒子中,優選氧化鈦、氧化鋁、氧化矽或氧化鋅,更優選氧化鈦或氧化鋁,特別優選氧化鈦。作為氧化鈦粒子的晶型,可以使用任形式,如金紅石型、銳鈦礦型、板鈦石(Brookite)、無定型。另外,還可以含有這些結晶狀態不同的至少兩種結晶狀態的氧化鈦粒子。還可以對金屬氧化物粒子表面進行種種表面處理。例如,可以利用氧化錫、氧化鋁、氧化銻、氧化鋯、氧化矽等無機物或硬脂酸、多元醇、有機矽化合物等有機物實施處理。特別是在使用氧化鈦粒子的情況下,優選利用有機矽化合物進行表面處理。作為有機矽化合物,通常是二甲基聚矽氧烷或甲基氫聚矽氧烷等矽油;甲基二甲氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷等有機矽垸;六甲基二矽氮烷等矽氮垸;乙烯基三甲氧基矽烷、"巰基丙基三甲氧基矽烷、"氨基丙基三乙氧基矽烷等矽烷偶聯劑等。特別是以下述通式(l)的結構表示的矽垸處理劑由於與金屬氧化物粒子的反應性也好而是最佳的處理劑。,1一式中,W和W各自獨立地表示垸基,更具體地說,表示甲基或乙基。R3是烷基或烷氧基,更具體地說,表示選自由甲基、乙基、甲氧基以及乙氧基組成的組中的基團。另外,這些經表面處理的粒子的外表面雖然是經這種處理劑處理過的狀態,但是該處理之前,還可以用氧化鋁、氧化矽或氧化鋯等處理劑進行處理。氧化鈦粒子可以僅使用一類粒子,也可以至少兩類粒子混合使用。所使用的金屬氧化物粒子通常使用平均一次粒徑為500nm以下的金屬氧化物粒子,優選使用lnm100nm的金屬氧化物粒子,更優選使用5nm50nm的金屬氧化物粒子。該平均一次粒徑可通過用透射型電子顯微鏡(Transmissionelectronmicloscope,以下有時稱作TEM)直接觀察到的粒子的徑的算術平均值來求得。另外,作為所使用的金屬氧化物粒子,可利用具有種種折射率的金屬氧化物粒子,可以使用通常能用於電子照相感光體的任意金屬氧化物粒子。優選使用折射率為1.43.0的金屬氧化物粒子。金屬氧化物粒子的折射率在各種出版物中有記載,例如,填料活用辭典(7<,一活用辭典(7<,一研究會編,大成社,1994))中的記載如下述表1。1tableseeoriginaldocumentpage12作為本發明涉及的金屬氧化物粒子中氧化鈦粒子的具體商品名,可以舉出未實施表面處理的超微粒氧化鈦"TTO-55(N)"、實施了A1203覆蓋處理的超微粒氧化鈦"TTO-55(A)"、"TTO-55(B)"、以硬脂酸實施了表面處理的超微粒氧化鈦"TTO-55(C)"、以Al203和有機矽氧烷實施了表面處理的超微粒氧化鈦"TTO-55(S)"、高純度氧化鈦"CR-EL"、硫酸法氧化鈦"R-550"、"R-580"、"R-630"、"R-670"、"R-680"、"R陽780"、"A畫100"、"A-220"、"W畫10"、氯法氧化鈦"CR-50"、"CR-58"、"CR畫60"、"CR畫60-2"、"CR-67"、導電性氧化鈦"SN-100P"、"SN-100D"、"ET-300W"(以上為石原產業株式會社生產)。另外,以"R-60"、"A-110"、"A-150"等氧化鈦為首,還可以舉出實施了Al203覆蓋處理的"SR-l"、"R-GL"、"R-5N"、"R國5N-2"、"R-52N"、"RK陽1"、"A-SP"、實施了Si02、八1203覆蓋處理的"R-GX"、"R畫7E"、實施了ZnO、Si02、八1203覆蓋處理的"R畫650"、實施了Zr02、Al203覆蓋處理的"R-61N"(以上為堺化學工業株式會社生產),另外,除了經Si02、八1203表面處理的"TR-700"、經ZnO、Si02、八1203表面處理的"TR-840"、"TA-500"之外,還可以舉出"TA畫畫"、"TA-200"、"TA-300"等未實施表面處理的氧化鈦、以A1203實施了表面處理的"TA-400"(以上為富士鈦工業株式會社生產)、未實施表面處理的"MT-150W"、"MT-500B"、經Si02、八1203表面處理的"MT-100SA"、"MT-500SA"、經Si02、八1203和有機矽氧烷表面處理的"MT-100SAS"、"MT-500SAS,,(亍<力株式會社生產)等。另外,作為氧化鋁粒子的具體商品名,可以舉出"AluminiumOxideC"(日本7二a、y"L社生產)等。作為氧化矽粒子的具體商品名,可以舉出"200CF"、"R972"(日本7二a、y'A社生產)、"KEP-30"(日本觸媒株式會社生產)等。作為氧化錫粒子的具體商品名,可以舉出"SN-100P"(石原產業株式會社生產)等。進而,作為氧化鋅粒子的具體商品名,可以舉出"MZ-305S"(亍^力株式會社生產),但本發明中能夠使用的金屬氧化物粒子並不限定在這些金屬氧化物粒子。本發明涉及的電子照相感光體的底塗層形成用塗布液中,相對1重量份粘合劑樹脂,金屬氧化物粒子的用量優選為0.5重量份4重量份。金屬氧化物粒子的折射率為2.0以上的情況下,金屬氧化物粒子的用量優選為1重量份4重量份,特別優選為2重量份4重量份。另外,金屬氧化物粒子的折射率小於2.0的情況下,優選為0.5重量份3重量份,特別優選為0.5重量份2.5重量份。<粘合劑樹脂〉作為本發明涉及的電子照相感光體的底塗層形成用塗布液中使用的粘合劑樹脂,只要是可溶於電子照相感光體的底塗層形成用塗布液中通常所使用的有機溶劑且形成後的底塗層不溶於感光層形成用塗布液中所使用的有機溶劑或在其中的溶解度低而實質上不發生混合的物質就沒有特別限制。作為這種粘合劑樹脂,例如苯氧基樹脂、環氧樹脂、聚乙烯吡咯垸酮、聚乙烯醇、酪蛋白、聚丙烯酸、纖維素類、明膠、澱粉、聚氨酯、聚醯亞胺、聚醯胺等,這些物質可以單獨使用或以與固化劑一起固化後的形式使用。其中,醇可溶性共聚聚醯胺、改性聚醯胺等聚醯胺樹脂表現出了良好的分散性和塗布性,所以是優選的。作為聚醯胺樹脂,可以舉出例如6-尼龍、66-尼龍、610-尼龍、11-尼龍、12-尼龍等共聚合得到的所謂的共聚尼龍或N-烷氧基甲基改性尼龍、N-垸氧基乙基改性尼龍等將尼龍化學改性後的類型等的醇可溶性尼龍樹脂。作為具體的商品名,可以舉出例如"CM4000"、"CM8000"(以上為東麗生產)、"F-30K"、"MF-30"、"EF畫30T"(以上為f力'七少厶?、少夕株式會社生產)等。這些聚醯胺樹脂中,特別優選使用含有以下述通式(2)表示的二胺作為構成成分的共聚聚醯胺樹脂。通式(2)中,R"R"各自獨立地表示氫原子或有機取代基。m、n各自獨立地表示04的整數,至少有2個取代基的情況下,這些取代基相互間可以不同。作為WR卩表示的有機取代基,優選碳原子數為20以下的烴基(可含有雜原子),更優選是甲基、乙基、正丙基、異丙基等烷基;甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基等烷氧基;苯基、萘基、蒽基、芘基等芳基,更優選的是烷基或垸氧基。特別優選的是甲基、乙基。此外,含有以上述通式(2)表示的二胺作為構成成分的共聚聚醯胺樹脂可以舉出使例如,丁內醯胺、s-己內醯胺、月桂內醯胺等內醯胺類;1,4-丁二酸、1,12-十二烷二酸、1,20-二十烷二酸等二羧酸類;1,4-丁二胺、1,6-己二胺、1,8-辛二胺、1,12-十二垸二胺等二胺類;哌嗪類等組合而共聚成的二元共聚物、三元共聚物、四元共聚物等。對於其共聚比例沒有特別限定,通常上述通式(2)表示的二胺成分為5mol%40mol%,優選為5mol%30mol%。至於共聚聚醯胺的數均分子量,優選為1000050000,特別優選為1500035000。數均分子量過小或過大均容易變得不易保持膜的均勻性。對於共聚聚醯胺的製造方法沒有特別限制,適於應用通常的聚醯胺的縮聚方法,可以採用熔融聚合法、溶液聚合法、界面聚合法等。另外,聚合時加入乙酸或苯甲酸等一元酸或己胺、苯胺等一元鹼作為分子量調節劑也不會帶來任何不良影響。另外,還可以加入以亞磷酸鈉、次磷酸鈉、亞磷酸、次磷酸或位阻酚為代表的熱穩定劑或其他聚合添加劑。本發明中使用的共聚聚醯胺的具體例子如下所示。其中,具體例子中共聚比例表示單體的加料比例(摩爾比例)。聚醯胺的具體例子①②③⑤—NH"(cH2")^"^~|"NH~~CH2~<^)~NH"y"li~fcH2")j"{i"J^NH~fcH2")5"NH"j^|"{l"fcH2")^-NH~fcH2")^"j^NH~~CH2~<^)~NH"y"g~fcH2")j3"^yNH~fcH2~)jNH"J"^"E"fcH2lg-xJU二li_L^i卩■j^C—CH2tcj^NH-fCH2")jNH^j~C"("CH2"jg"C-Jl5LJ巧LJ5L"J35L」35L^~^」6LNHJeoLNH~H,CH2CH3*~^J29LJ12L」12作為本發明的底塗層形成用塗布液中所用的有機溶劑,只要是能溶解本發明涉及的底塗層用粘合劑樹脂的有機溶劑,可以使用任何的有機溶劑。具體可以舉出甲醇、乙醇、異丙醇或正丙醇等碳原子數為5以下的醇類;氯仿、1,2-二氯乙烷、二氯甲烷、三氯乙烯、四氯化碳、1,2-二氯丙烷等滷代烴類;二甲基甲醯胺等含氮有機溶劑類;甲苯、二甲苯等芳香烴類,並且可以這些物質任意的組合和任意的比例的混合溶劑的形式使用。另外,即使是本身不能溶解本發明涉及的底塗層的粘合劑樹脂的有機溶劑,只要與例如上述的有機溶劑製成混合溶劑從而能溶解該粘合劑樹脂,那麼這樣的有機溶劑也可以使用。通常,使用混合溶劑能減少塗布斑。本發明的底塗層形成用塗布液中使用的有機溶劑與粘合劑樹脂、氧化鈦粒子等固體成分的量的比例取決於底塗層形成用塗布液的塗布方法,使用中適當變更成在所應用的塗布方法中能形成均勻的塗膜的比例即可。本發明的底塗層形成用塗布液含有金屬氧化物粒子,並且該金屬氧化物粒子是被分散而存在於塗布液中的。為了使金屬氧化物粒子分散到塗布液中,可利用球磨機、砂磨機、行星磨、輥磨等公知的機械粉碎裝置以在有機溶劑中進行溼式分散來進行製造,並且優選利用分散介質進行分散。可以使用公知的任意的分散裝置作為利用分散介質進行分散的分散裝置進行分散,並可以舉出卵石球磨機、球磨機、砂磨機、網磨機(^夕U—>s;"、隙磨機(《x7s;"、振動磨、混漆器、磨碎機等。其中優選能夠循環分散塗布液的分散裝置,從分散效率、到達粒徑的細度、連續運轉的容易程度等方面出發,使用砂磨機、網磨機、隙磨機。砂磨機可以是立式的,也可以是臥式的,砂磨機的盤形狀可以是平板型、垂直細杆(t'^)型、水平細杆型等任意形式。優選使用液循環型的砂磨機,對於包括圓筒形定子、設置在定子一端的漿料供給口、設置在定子另一端的漿料排出口、將填充到定子內的介質和從供給口供給的漿料攪拌混合的細杆、盤或環形轉子和連結在排出口的葉輪型分離器的溼式攪拌球磨機,特別優選將旋轉驅動該分離器的軸的軸心製成與上述排出口相通的中空排出路。其中所述分離器與轉子一體旋轉或與轉子各自獨立地旋轉並通過離心力的作用將介質和漿料分離後將漿料從排出口排出。利用這種溼式攪拌球磨機,通過分離器而與介質分離的漿料被從軸的軸心排出,由於軸心沒有離心力的作用,所以漿料以沒有動能的狀態排出。因此,動能不會無故釋放掉,不會無故消耗動力。這種溼式攪拌球磨機可以是臥式的,但是,為了增大介質的填充率,優選立式的,並且排出口設置在磨的上端。另外,優選分離器也設置在介質填充水平面的上方。將排出口設置在磨上端的情況下,供給口設置在磨的底部。在優選的形式中,供給口由閥座和閥體構成,所述閥體為V形、梯形、或錐形並可升降地嵌合於閥座且能夠與閥座邊緣線接觸,通過在閥座的邊緣與V形、梯形或錐形的閥體之間形成介質不能通過的環狀縫隙,能夠防止介質的落入,但能夠供給原料漿料。另外,通過使閥體上升,擴大縫隙,能將介質排出,或者通過使閥體下降,關閉縫隙,能夠將磨密封。另外,縫隙是通過閥體和閥座的邊緣形成的,所以原料漿料中的粗粒子不易卡入,即使卡入了,也容易上下脫離,不易產生堵塞。另外,通過振動單元使閥體上下振動時,不僅能使卡入縫隙的粗粒子從縫隙中脫離,而且卡入這種現象本身變得不易發生。並且,通過閥體的振動,在原料漿料上施加了剪切力,能夠使粘度下降,增加原料漿料向該縫隙的通過量即增加供給量。作為使閥體振動的振動單元,除了振蕩器等機械單元之外,還可以使用用於改變作用在與閥體形成一體的活塞上的壓縮空氣的壓力的單元,例如往復動型壓縮機、切換壓縮空氣的吸氣排氣的電磁切換閥等。這種溼式攪拌球磨機中,還優選在底部設置分離介質的篩網和產品漿料的取出口,以使粉碎結束後,能取出磨內殘留的產品漿料。本發明涉及的溼式攪拌球磨機是立式溼式攪拌球磨機,其包括圓筒形的立式定子、設置在定子底部的產品漿料供給口、設置在定子上端的漿料排出口、由定子的上端樞軸支撐的軸(在馬達等驅動單元的驅動下旋轉)、固定於軸的細杆、盤或環形轉子(對填充到定子內的介質和由供給口供給的漿料進行攪拌混合)、設置在排出口附近的分離器(將漿料與介質分離)、設置在支撐定子上端的支承軸的軸承部的機械密封件,其中,在用於嵌合與機械密封件的接合環接觸的圓環的環狀槽的下側部形成向下方擴大的錐狀凹口。通過本發明涉及的溼式攪拌球磨機,由於機械密封件在介質和漿料基本不具有動能的軸心部,並且設置在這些物質的液面水平的上方的定子上端,所以能在接合環的密封環與圓環嵌合槽下側部之間大幅減少介質或漿料的進入。並且,嵌合圓環的環狀槽的下側部向凹口下方擴大,間隙擴大,所以不易由於漿料或介質的進入而卡入、或因固化引起堵塞,接合環順利地進行對密封環的跟隨,維持機械密封件的功能。另外,嵌合圓環的嵌合槽的下側部形成截面V形,而不需要整體形成薄壁,所以不會損害強度,也無損於圓環的保持功能。另外,本發明涉及的溼式攪拌球磨機是下述的溼式攪拌球磨機,其包括圓筒形的定子、設置在定子的一端的漿料供給口、設置在定子的另一端的漿料的排出口、對填充在定子內的介質和由供給口供給的漿料進行攪拌混合的細杆、盤或環形轉子、連結在排出口的葉輪型分離器,所述分離器按照與轉子成為一體的方式旋轉或與轉子各自獨立地旋轉,利用離心力的作用分離成介質和漿料,然後將漿料從排出口排出,所述溼式攪拌球磨機中,所述分離器包括相對向的兩片盤、葉片和支持單元,所述兩片盤在相對向的內側具有葉片的嵌合槽,所述葉片嵌合於嵌合槽並處於兩片盤之間,所述支持單元從兩側夾持其間存在有葉片的盤,在其優選的形式中,支持單元由形成階梯軸(段付軸)的軸段和嵌合於軸而壓住盤的圓筒狀緊固單元構成,通過軸段和緊固單元而從兩側夾住其間存在葉片的盤以支持所述盤。圖3是本發明涉及的溼式攪拌球磨機的縱剖面圖。圖3中,原料漿料被供給到立式溼式攪拌球磨機,利用該球磨機將原料漿料與介質一同攪拌,原料漿料被粉碎後,利用分離器14分離介質,從軸15的軸心排出,漿料沿返迴路徑被循環粉碎。立式溼式攪拌球磨機的細節如圖3所示,其包括縱向圓筒形的定子17、軸15、細杆或盤狀的轉子21、滑輪24、聯軸25、分離器14、原料漿料供給口26和篩網28,其中,定子17具有使用於冷卻球磨機的冷卻水流通的夾套16;軸15位於定子17的軸心,在定子上部可旋轉地被樞軸支撐,同時在軸承部具有機械密封件,並且上側部的軸心形成中空的排出路19;轉子21在軸下端部徑向突出設置;滑輪24牢固地接在軸的上部,傳遞驅動力;聯軸25安裝在軸上端的開口端;分離器14在定子內靠近上部的位置牢固地接在軸15上,用於分離介質;原料漿料供給口26面對軸15的軸端設置在定子的底部;篩網28安裝于格子狀篩網支點27上,用於分離介質,篩網支點27設置在產品漿料取出口29,產品漿料取出口29設置在偏離定子底部的中心的位置。分離器14包括隔著一定的間隔牢固地設置在軸15上的一對盤31和連接兩個盤31的葉片32,由其構成葉輪,分離器14與軸15—同旋轉,向進入盤之間的介質和漿料施加離心力,利用其比重差使介質沿徑向向外飛散,另一方面,將漿料從軸15的軸心的排出路19排出。原料漿料供給口26包括倒梯形的閥體35和有底圓筒體36,閥體35可升降地嵌合於形成在定子底部的閥座上,有底圓筒體36從定子底部向下突出設置,通過原料漿料的供給將閥體35推高,在閥體35與閥座之間形成環狀的間隙,由此將原料漿料供給到球磨機內。供給原料時,閥體35抵抗送入圓筒體36內的原料漿料的供給壓產生的球磨機內的壓力而上升,在閥體35和閥座之間形成間隙。為了消除在間隙的堵塞,閥體35以短周期反覆進行上升到上限位置的上下運動,消除卡入。該閥體35可以一直進行振動,也可以在原料漿料中含有大量粗粒子時進行振動,另外,也可以在原料漿料的供給壓由於阻塞而升高時,與其聯動而進行振動。作為具有這種結構的溼式攪拌球磨機,具體可以舉出例如壽工業株式會社生產的超強磨(々A卜,7《'7夕7S》)。接著,對原料漿料的粉碎方法進行說明。將介質填充到球磨機的定子17內,通過外部動力驅動,轉子21和分離器14被旋轉驅動,另一方面,穩定量地向供給口26輸送原料漿料,並通過由此在閥座邊緣和閥體35之間形成的間隙將原料漿料供給到球磨機內。通過轉子21的旋轉,球磨機內的原料漿料與介質被攪拌混合,漿料得以粉碎,另外,通過分離器14的旋轉,進入分離器內的介質與漿料由於比重的不同而被分離,比重大的介質沿徑向方向飛出,而比重輕的漿料從在軸15的軸心形成的排出路19排出,並返回到原料罐。粉碎進行到某種程度時,適當測定漿料的粒度,如果達到了所需粒度,先停止原料泵,然後停止球磨機的運轉,完成粉碎。使用這種立式溼式攪拌球磨機對金屬氧化物粒子進行分散時,優選以填充到球磨機中的介質的填充率為50%100%進行粉碎,更優選填充率為70%95%,特別優選為80%90%。對於適合用於分散本發明涉及的底塗層形成用塗布液的溼式攪拌球磨機,分離器可以是篩網或間隙機構,但優選為葉輪型分離器,並優選為立式分離器。溼式攪拌球磨機中優選分離器設置在縱向的球磨機的上部,這樣,特別是當介質的填充率設定為80%90%時能最有效進行粉碎並能使分離器位於介質填充水平面的上方,還具有能防止介質被分離器排出的效果。適於分散本發明涉及的底塗層形成用塗布液的溼式攪拌球磨機的運轉條件影響底塗層形成用塗布液中的金屬氧化物凝聚體二次粒子的體積平均粒徑、底塗層形成用塗布液的穩定性、塗布該塗布液而形成的底塗層的表面形狀、具有塗布該塗布液形成的底塗層的電子照相感光體的特性,特別是可以舉出底塗層形成用塗布液的供給速度和轉子的旋轉速度產生的影響大。底塗層形成用塗布液的供給速度關係到球磨機中底塗層形成用塗布液的滯留時間,所以供給速度受球磨機的容積和其形狀的影響,對於常用的定子來說,優選相對球磨機每1升(以下有時簡記作L)的容積供給20kg/小時80kg/小時塗布液,更優選相對球磨機每1L容積供給30kg/小時70kg/小時。另外,轉子的旋轉速度受轉子的形狀和轉子與定子的間隙等參數的影響,對於通常所用的定子和轉子,優選轉子前端部的圓周速度在5m/秒20m/秒的範圍,更優選在8m/秒15m/秒的範圍,特別優選為10m/秒12m/秒。所用的分散介質與底塗層形成用塗布液的容積比通常為0.55倍。除了分散介質以外,實施時還可以合用能夠在分散後容易被除去的分散助劑。作為分散助劑的粒子,可以舉出食鹽和芒硝等。優選在分散溶劑的共存下進行金屬氧化物的溼式分散,也可以同時混合粘合劑樹脂或各種添加劑。對於該溶劑沒有特別限制,如果使用上述底塗層形成用塗布液中所使用的有機溶劑,分散後無需進行溶劑交換等工序,因此優選使用這種有機溶劑。這些溶劑可以任一種單獨使用,也可兩種以上組合製成混合溶劑使用。從生產效率的觀點出發,相對1重量份作為分散對象的金屬氧化物,溶劑的使用量通常為0.1重量份以上,優選為1重量份以上,另外,通常為500重量份以下,優選為100重量份以下。進行分散時,機械分散時的溫度可以為溶劑(或混合溶劑)的凝固點以上沸點以下,從製造時的安全性方面出發,通常在1(TC20(TC的範圍進行分散。使用分散介質進行分散處理後,優選分離除去該分散介質後進一步進行超聲處理。超聲處理是對底塗層形成用塗布液施加超聲振蕩,但對振動頻率等沒有特別限制,通常,利用頻率為10kHz40kHz、優選15kHz35kHz的振蕩器施加超聲振蕩。對於超聲振蕩器的功率沒有特別限制,通常使用100W5kW的超聲振蕩器。通常通過小功率的超聲振蕩器對少量的塗布液進行超聲處理比用大功率超聲振蕩器對大量塗布液進行超聲處理的分散效率好,所以,一次處理的底塗層形成用塗布液的量優選為1L50L,更優選為5L30L,特別優選為10L20L。另外,這種情況下的超聲振蕩器的功率優選為200W3kW,更優選為300W2kW,特別優選為500W1.5kW。對於對底塗層形成用塗布液施加超聲振蕩的方法沒有特別限制,可以舉出將超聲振蕩器直接浸泡在容納底塗層形成用塗布液的容器中的方法;使超聲振蕩器接觸容納底塗層形成用塗布液的容器的外壁的方法;將容納底塗層形成用塗布液的容器浸泡在通過超聲振蕩器施加了振蕩的液體中的方法等。這些方法中,優選採用將容納底塗層形成用塗布液的容器浸泡在通過超聲振蕩器施加了振蕩的液體中的方法。這種情況下,作為通過超聲振蕩器施加振蕩的液體,可以舉出水;甲醇等醇類;甲苯等芳香烴類;矽油等油脂類,從製造上的安全性、成本、清洗性等考慮,優選使用水。將容納底塗層形成用塗布液的容器浸泡在通過超聲振蕩器施加了振蕩的液體中的方法中,超聲處理的效率根據該液體的溫度而變化,所以優選保持該液體的溫度恆定。通過外加的超聲振蕩而施加振蕩的液體的溫度有時升高,該液體的溫度通常為5。C6(TC,優選為10°C50°C,更優選為15°C40°C,優選在這樣的溫度範圍進行超聲處理。作為超聲處理時容納底塗層形成用塗布液的容器,只要是通常用於裝入用於形成電子照相感光體的感光層的底塗層形成用塗布液的容器,可以是任意的容器,可以舉出聚乙烯、聚丙烯等樹脂制容器;玻璃制容器;金屬制罐。這些之中,優選金屬制罐,特別優選使用JISZ1602規定的18升金屬制罐。這是因為,這樣的罐不易被有機溶劑腐蝕,抗衝擊性強。對於底塗層形成用塗布液,為了除去粗大粒子,根據需要底塗層形成用塗布液經過濾後使用。作為這種情況下的過濾介質,可以使用通常用於過濾的纖維素纖維、樹脂纖維、玻璃纖維等任何的過濾材料。作為過濾介質的形式,基於過濾面積大則效果好等理由,優選在芯材上纏繞了各種纖維的所謂纏繞過濾器(74>卜"7<》夕一)。作為芯材,可以使用現有公知的任意的芯材,並且可以舉出不鏽鋼芯材、聚丙烯等不溶解於底塗層形成用塗布液的樹脂制芯材等。如此製造的底塗層形成用塗布液根據需要在進一步添加粘結劑或種種助劑等後用於形成底塗層。3生產的LUZEX50等為代表的圖像解析裝置能測定平均粒徑和正球度。作為所用的分散介質的平均粒徑,通常為5jim200^im,特別優選為10^im100(xm。通常存在小粒徑的分散介質在短時間提供均勻的分散液的傾向,但粒徑過小時,分散介質的質量變得過小,不能高效地進行分散。所使用的分散介質的密度通常為5.5g/cri^以上,優選為5.9g/cr^以上,更優選為6.0g/cm3以上。通常存在使用更高密度的分散介質進行分散能在短時間提供均勻的分散液的傾向。使用分散介質的正球度優選為1.08以下、更優選為1.07以下的分散介質。在分散介質的材質方面,只要不溶於底塗層形成用塗布液,並且比重比底塗層形成用塗布液大,不與底塗層形成用塗布液反應、不使底塗層形成用塗布液變質,可以使用公知的任何分散介質。作為其例子,可以舉出鉻球(球軸承用鋼球)、碳球(碳鋼球)等鋼球;不鏽鋼球;氮化矽球、碳化矽球、氧化鋯、氧化鋁等陶瓷球;經氮化鈦、碳氮化鈦等的膜塗覆的球等。這些當中,優選陶瓷球,特別優選氧化鋯燒制球。更具體地說,特別優選特許第3400836號公報記載的氧化鋯燒制球。<底塗層形成方法〉利用浸漬塗布、噴霧塗布、噴嘴塗布、螺旋塗布、環式塗布、條形(barcoat)塗布、輥式塗布、刮刀塗布等公知的塗布方法將底塗層形成用塗布液塗布在支持體上,通過乾燥形成本發明涉及的底塗層。作為噴霧塗布法,包括空氣噴霧、無空氣噴霧、靜電空氣噴霧、靜電無空氣噴霧、旋轉霧化式靜電噴霧、熱噴塗、無空氣熱噴塗等。考慮到得到均勻膜厚的微粒化度、附著效率等,在利用旋轉霧化式靜電噴霧時可通過再公表平1-805198號公報公開的輸送方法即在旋轉圓筒狀工件的同時無間隔地連續輸送的方法來得到電子照相感光體,該電子照相感光體總體上附著效率高,膜厚均勻性優異。作為螺旋塗布法,包括使用特開昭52-119651號公報公開的注液塗布機或簾式塗布機的方法;特開平1-231966號公報公開的從微小開口部使塗料成條狀連續飛行的方法;使用特開平3-193161號公報公開的多噴嘴體的方法等。採用浸漬塗布法的情況下,一般說來,底塗層形成用塗布液的總固體成分濃度通常為1重量%以上、優選為10重量%以上,並且通常為50重量%以下、優選為35重量%以下,將粘度優選控制在0.1cps以上並優選在100cps以下。其後將塗布膜乾燥,調整乾燥溫度和時間進行必要且充分的乾燥。乾燥溫度通常在100。C250。C、優選在110。C170。C、進一步優選在115°C14(TC的範圍。作為乾燥方法,可以使用熱風乾燥機、蒸汽乾燥機、紅外乾燥機以及遠紅外乾燥機。<電子照相感光體〉對於本發明涉及的電子照相感光體所具有的感光層,在導電性支持體上具有底塗層和感光層,底塗層設置在導電性支持體和感光層之間。感光層的結構可以採用公知能適合電子照相感光體的任何結構。具體地說,可以舉出例如單層型感光體、層積型感光體等,所謂單層型感光體具有在粘合劑樹脂中溶解或分散了光導電性材料的單層感光層,所述層積型感光體具有至少兩層,其中層積了含有電荷產生物質的電荷產生層和含有電荷輸送物質的電荷輸送層。通常光導電性材料無論是單層型還是層積型,在功能方面表現出同等的性能。本發明涉及的電子照相感光體所具有的感光層可以是公知的任意形式,綜合考慮感光體的機械物理性質、電特性、製造穩定性等,優選層積型感光體,更優選依次在導電性支持體上層積電荷產生層和電荷輸送層的層積型感光體。作為導電性支持體,主要使用例如鋁、鋁合金、不鏽鋼、銅、鎳等金屬材料;添加金屬、碳、氧化錫等導電性粉末而賦予了導電性的樹脂材料;在表面蒸發沉積或塗布有鋁、鎳、ITO(銦錫氧化物)等導電性材料的樹脂、玻璃或紙等。作為導電性支持體的形態,可以舉出例如鼓狀、片狀、帶狀等。此外,為了控制導電性和表面特性等或覆蓋缺陷,該導電性支持體也可以為在使用了金屬材料的導電性支持體上塗布具有適當電阻值的導電性材料而得到的導電性支持體。使用鋁合金等金屬材料作為導電性支持體時,可以預先實施陽極氧化處理。而且,實施陽極氧化處理時,優選通過公知的方法來實施封孔處理。例如,在鉻酸、硫酸、草酸、硼酸或氨基磺酸等酸性浴中進行的陽極氧化處理可以形成陽極氧化覆蓋膜,並且在硫酸中的陽極氧化處理可以提供更有利的結果。當在硫酸中進行陽極氧化處理時,優選硫酸濃度為100g/L300g/L,所溶解的鋁的濃度為2g/L15g/L,液#^度為15°C30°C,電解電壓為10V20V,電流密度為0.5A/dm22A/dm2。然而,所述條件並不限於上述條件。優選對如此形成的陽極氧化覆蓋膜進行封孔處理。可以通過己知方法進行封孔處理,例如優選進行將膜浸於含有氟化鎳作為主要成分的水溶液中的低溫封孔處理,或將膜浸於含有乙酸鎳作為主要成分的水溶液中的高溫封孔處理。在上述低溫封孔處理的情況中,可以任意選擇所用的氟化鎳水溶液的濃度,並且當其在3g/L6g/L的範圍內時可以得到更優選的結果。此外,為了平穩地進行封孔處理,可以在下述條件進行處理處理溫度通常為25。C以上,優選為3(TC以上,並且通常為40。C以下,優選35。C以下;處理時,氟化鎳水溶液的pH通常為4.5以上,優選為5.5以上,並且通常為6.5以下,優選為6.0以下。作為pH調節劑,可以使用草酸、硼酸、甲酸、乙酸、氫氧化鈉、乙酸鈉或氨水等。關於處理時間,優選為每1pm膜厚處理1分鐘3分鐘。此外,為了進一步改善覆蓋膜的物理特性,可以將氟化鈷、乙酸鈷、硫酸鎳或表面活性劑等預先添加至氟化鎳水溶液中。然後,進行水洗和乾燥以完成低溫封孔處理。作為上述高溫封孔處理的情況下的封孔劑,可以使用諸如乙酸鎳、乙酸鈷、乙酸鉛、乙酸鎳鈷或硝酸鋇等金屬鹽的水溶液,特別優選使用乙酸鎳。在使用乙酸鎳水溶液的情況中,濃度優選為5g/L20g/L。優選的處理溫度通常為8(TC以上,優選90。C以上,並且通常為IO(TC以下,優選98。C以下。優選在乙酸鎳水溶液的pH為5.06.0下進行處理。此處,作為pH調節劑,可以使用氨水或乙酸鈉等。處理時間為IO分鐘以上,優選為15分鐘以上。並且在該情況中,為了改善覆蓋膜的物理特性,還可以將乙酸鈉、有機羧酸、陰離子或非離子表面活性劑等添加至乙酸鎳水溶液中。還可以進一步通過實質上不含鹽類的高溫水或高溫水蒸汽進行處理。然後,進行水洗和乾燥以完成高溫封孔處理。在陽極氧化覆蓋膜的平均膜厚厚的情況中,需要更強的封孔條件,如更高濃度的封孔液體和更高溫度更長時間的處理。因而,不僅生產性變差而且在覆蓋膜表面易於出現諸如汙點、汙物或粉塵附著等表面缺陷。從該角度考慮,優選以陽極氧化覆蓋膜的平均膜厚通常為20拜以下、特別是7,以下來形成陽極氧化覆蓋膜。支持體表面可以是光滑的,或者通過使用特定的削切方法或進行拋光處理而進行粗面化。此外,也可以是通過在構成支持體的材料中混合具有適宜徑粒的粒子而進行粗面化的支持體。另外,為了降低成本,也可以不實施削切處理直接使用拉制管。特別是使用拉制加工、碰撞加工、衝薄加工等非切削鋁支持體的情況下,通過處理得到的支持體消除了存在於表面的汙漬或異物等附著物、小的損傷等,支持體均一清潔,所以這種情況是優選的。<底塗層〉可以任意選擇底塗層的膜厚,從提高感光體特性和塗布性方面考慮,通常優選該膜厚為0.1pm2(^m。另外,可以在底塗層中添加公知的抗氧化劑等。本發明涉及的底塗層的表面形狀在面內均方根粗度(RMS)、面內算術平均粗度(Ra)、面內最大粗度(P-V)方面具有特徵,這些數值是將JISB0601:2001標準中的均方根高度、算術平均高度、最大高度的基準長度在基準面擴張的數值。於是,使用基準面中的高度方向的值Z(x),面內均方根粗度(RMS)表示Z(x)的均方根,面內算術平均粗度(Ra)表示Z(X)的絕對值的平均值,面內最大粗度(P-V)表示Z(x)的峰頂的最大值和峰谷的最大值的和。本發明涉及的底塗層的面內均方根粗度(RMS)通常在10nm100nm的範圍,優選在20nm50nm的範圍。本發明涉及的底塗層的面內算術平均粗度(Ra)通常在1050nm的範圍,優選在1050nm的範圍。另外,本發明涉及的底塗層的面內最大粗度(P-V)通常在100nm1000nm的範圍,優選在300nm800nm的範圍。這些表面形狀的數值可通過能高精度測定基準面內的凹凸的表面形狀分析裝置測定,至於通過什麼樣的表面形狀分析裝置進行測定則沒有限制。其中,優選通過使用光幹涉顯微鏡組合高精度位相位移檢測法和幹涉條紋次數計數來檢測樣品表面的凹凸的方法來進行測定,更具體地說,優選使用株式會社菱化)^於^的Micromap,通過幹涉條紋尋址方式以波動模式進行測定。另外,本發明涉及的電子照相感光體的底塗層在分散於能溶解用於粘結該底塗層的粘合劑樹脂的溶劑中製成分散液的情況下,該分散液的透光率表現出特定的物理性質。這種情況下的透光率也可與測定本發明涉及的電子照相感光體的底塗層用塗布液的透光率的情況同樣地進行測定。分散本發明涉及的底塗層而形成分散液時可以如下進行利用實質上不溶解用於粘結底塗層的粘合劑樹脂但能溶解在底塗層上形成的感光層等的溶劑,溶解除去底塗層上的層後,通過將粘結底塗層的粘合劑樹脂溶解到溶劑中來形成分散液,作為此時的溶劑,使用在400nm1000nm的波長範圍沒有大的吸光的溶劑即可。更具體地說,使用甲醇、乙醇、l-丙醇、2-丙醇等醇類溶劑,特別是使用甲醇、乙醇和/或l-丙醇。金屬氧化物粒子的折射率為2.0以上的情況下,將本發明涉及的底塗層用重量比為7:3的甲醇和1-丙醇的混合溶劑進行分散而得到的分散液對波長400nm的光的吸光度和對波長1000nm的光的吸光度的差為0.3(Abs)以下,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以下的情況下,上述差值為0.02(Abs)以下。更優選的是,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以上的情況下,上述差值為0.2(Abs)以下,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以下的情況下,上述差值為O.Ol(Abs)以下。吸光度的值依賴於所測定的液體的固體成分濃度,所以本發明中優選分散成液體中金屬氧化物濃度達到0.003wt。/o0.0075wt。/o的範圍。另外,本發明涉及的電子照相感光體具有的底塗層的正反射率在本發明中顯示為特定的值。本發明中的底塗層的正反射率表示導電性支持體上的底塗層相對導電性支持體的正反射率,該反射率根據該底塗層的膜厚的不同而變化,所以本發明中規定正反射率是該底塗層為2pm時的反射率。本發明涉及的電子照相感光體的底塗層含有的金屬氧化物粒子的折射率為2.0以上的情況下,換算成所述底塗層為2pm時,所述底塗層對波長為480nm的光的正反射與所述導電性支持體對波長為480nm的光的正反射的比為50%以上,金屬氧化物粒子的折射率為2.0以下的情況下,換算成所述底塗層為2pm時,所述底塗層對波長為400nm的光的正反射與所述導電性支持體對波長為400nm的光的正反射的比為50%以上。此處,在該底塗層含有至少兩種折射率為2.0以上的金屬氧化物粒子的情況下或者在該底塗層含有至少兩種折射率為2.0以下的金屬氧化物粒子的情況下,也優選正反射與上述相同。該底塗層同時含有折射率為2.0以上的金屬氧化物粒子和折射率為2.0以下的金屬氧化物粒子的情況下,與含有折射率為2.0以上的金屬氧化物粒子的情況相同,優選換算成所述底塗層為2jim時,所述底塗層對波長為480nm的光的正反射與所述導電性支持體對波長為480nm的光的正反射的比為50%以上。另一方面,本發明涉及的電子照相感光體中,底塗層的膜厚並不限定為2pm,可以是任意的膜厚。底塗層的膜厚為2pm以外的厚度的情況下,使用形成該電子照相感光體的底塗層時所使用的底塗層用塗布液,在與該電子照相感光體同等的導電性支持體上進行塗布,形成膜厚為2pm的底塗層後,測定該底塗層的正反射率。另外,作為其他方法,包括測定該電子照相感光體的底塗層的正反射率後,將其換算成膜厚為2(im的情況的方法。下面對其換算方法進行說明。本發明中,特定的單色光通過底塗層,在導電性支持體上發生正反射後再次通過底塗層而被檢測到的情況下,假想所述底塗層為對光的垂直厚度為dL的薄層。據認為,通過dL後的光的強度減少量-dl與通過層前的光的強度I和dL成比例,其關係可用下式表達(k為常數)。-dI二kIdL............(1)將式(1)變換一下則得到下式(2)。-dl/I二kdL............(2)將式(2)兩邊分別從I。到I進行積分和從0到L進行積分,則得到下log(I0/I)=kL.........(3)這與溶液體系中被稱作Lambert法則的關係相同,並且也可以應用於本發明中關於反射率的測定。變換式(3)則得到I=IGeXp(-kL).........(4),式(4)體現了入射光到達導電性基體表面之前的變化情況。另一方面,本發明中的正反射率以入射光對導電性基體的反射光為分母,所以認為管坯表面的反射率R二VIo。於是,根據式(4),到達導電性基體表面的光以反射率R正反射,再次通過光程長L後在底塗層表面射出。換而言之,式(4)變為式(5),I二Ioexp(畫kL)R'exp(畫kL)".(5)將R-I,/I。帶入式(5)後進一步變換,可以得到式(6)的關係式。1/I產exp(-2kL)........(6)其是光對底塗層的反射率相對於光對導電性基體的反射率的值,將其定義為正反射率。如上所述,在2iam的底塗層中,來回的光程長為4pm,任意的導電性支持體上的底塗層的反射率T是底塗層膜厚L(此時的光程長為2L)的函數,以T(L)表示。根據式(6),得到式(7),T(L)二I/I丄二exp(-2kL)…(7)另一方面,要求的值是T(2),將L二2帶入式(4),得到式(8)T(2)=I/11二exp(-4k)…(8)聯立式(4)和式(5),消去k,則得到T(2)=T(L)2/L.........(9)。也就是說,底塗層的膜厚為!4im)時,通過測定該底塗層的反射率T(L),能夠相當準確地推算底塗層為2iam時的反射率T(2)。底塗層的膜厚L值可以通過粗度計等任意的膜厚測量裝置進行測量。卜7>卜a^)類顏料、喹吖酮類顏料、花青類顏料、吡喃鑰類顏料、硫代吡喃鑰類顏料、靛藍類顏料、多環苯醌類顏料、方酸類顏料等。特別優選酞菁顏料或偶氮顏料。從能得到對波長較長的雷射靈敏度高的感光體的觀點出發,酞菁顏料優異,從對白色光和波長較短的雷射具有充分的靈敏度的觀點出發,偶氮顏料優異。本發明中,使用酞菁類化合物作為電荷產生物質時表現出較髙的效果,因此優選使用酞菁類化合物作為電荷產生物質。作為酞菁類化合物,具體可以舉出無金屬酞菁、絡合了銅、銦、鎵、錫、鈦、鋅、釩、矽、鍺等金屬或其氧化物、其滷化物、其氫氧化物、其醇鹽等的酞菁、以及這些酞菁所具有的各種結晶形式。特別優選作為靈敏度高的結晶型的X型、t型無金屬酞菁、A型(也稱p型)、B型(也稱a型)、D型(也稱Y型)等氧鈦酞菁(也稱酞菁氧鈦)、氧釩酞菁、氯銦酞菁、II型等氯鎵酞菁、V型等羥基鎵酞菁、G型、I型等^氧代鎵酞菁二倍體、II型等p-氧代鋁酞菁二倍體。另外,這些酞菁中,特別優選A型(p型)、B型(a型)和D型(Y型)氧鈦酞菁、II型氯鎵酞菁、V型羥基鎵酞菁、G型ia-氧代鎵酞菁二倍體等。這些酞菁類化合物中,進一步優選相對於CuKa特性X射線的X射線衍射光譜中在27.3°的布拉格角(20±0.2°)顯示主要的衍射峰的氧鈦酞菁;相對於CuKa特性X射線的X射線衍射光譜中在9.3°、13.2°、26.2°和27.1。的布拉格角(2e士0.2。)顯示主要的衍射峰的氧鈦酞菁;相對於CuKa特性X射線的X射線衍射光譜中在9.2。、14.1。、15.3。、19.7。、27.1。的布拉格角(2e士0.2。)顯示主要的衍射峰的二羥基矽酞菁;相對於CuKa特性X射線的X射線衍射光譜中在8.5。、12.2°、13.8°、16.9°、22.4°、28.4°和30.1。的布拉格角(2e士0.2。)顯示主要的衍射峰的二氯錫酞菁;相對於CuKa特性X射線的X射線衍射光譜中在7.5。、9.9°、12.5°、16.3°、18.6。、25.1°和28.3。的布拉格角(20士O.2。)顯示主要的衍射峰的羥基鉀酞菁;以及相對於CuKa特性X射線的X射線衍射光譜中在7.4°、16.6°、25.5°和28.3°的布拉格角(20±0.2°)顯示衍射峰的氯鎵酞菁。這些當中,特別優選在27.3°顯示主要的衍射峰的氧鈦酞菁,這種情況下,在9.5°、24.1°和27.3。顯示主要的衍射峰的氧鈦酞菁是特別優選的。酞菁類化合物可以使用僅一種化合物,也可以幾種混合或以混晶的3的酞菁類化合物的混合物或混晶狀態,可以將各構成要素在以後的使用中混合,也可以在合成、顏料化、結晶化等酞菁類化合物的製造/處理步驟中形成混合狀態。作為這種處理,已知有酸糊處理/磨碎處理/溶劑處理等。為了形成混晶狀態,可以舉出特開平10-48859號公報記載的方法,將兩種結晶混合後,進行機械磨碎、形成無定形狀態,然後通過溶劑處理來轉換為特定的結晶狀態。另外,使用酞菁類化合物的情況下,使用酞菁類化合物以外的電荷產生物質也是可以的。例如可以混合偶氮顏料、二萘嵌苯顏料、喹吖酮顏料、多環苯醌顏料、靛藍顏料、苯並咪唑顏料、吡喃総鹽、硫代吡喃鐵顏料、方酸鹽等使用。電荷產生物質被分散在感光層形成用塗布液中,在分散到該塗布液中之前,可以預先進行前粉碎。前粉碎可以用多種裝置進行,但通常使用球磨機、砂磨機等進行前粉碎。作為投入到這些粉碎裝置的粉碎介質,只要在粉碎處理時粉碎介質不發生粉化,並且分散處理後能夠容易地分離,可以使用任意的粉碎介質,可以舉出玻璃、氧化鋁、氧化鋯、不鏽鋼、陶瓷等的珠或球。前粉碎中,優選粉碎到體積平均粒徑為50(Him以下,更優選粉碎到體積平均粒徑為250^im以下。體積平均粒徑可以用本領域技術人員常用的任意方法進行測定,但通常利用沉降法或離心沉降法進行測定。<電荷輸送物質〉作為電荷輸送物質,可以舉出例如聚乙烯咔唑、聚乙烯芘、聚縮水甘油基咔唑、聚苊烯等高分子化合物;芘、蒽等多環芳香族化合物;吲哚衍生物、咪唑衍生物、咔唑衍生物、吡唑衍生物、吡唑啉衍生物、噁二唑衍生物、噁唑衍生物、噻二唑衍生物等雜環化合物;對二乙氨基苯甲醛-N,N-二苯腙、N-甲基咔唑-3-卡巴醛-N,N-二苯腙等腙類化合物;5-(4-(二對甲苯氨基)苯亞甲基)-5H-二苯並(a,d)環庚烯等苯乙烯類化合物;對三甲苯基胺等三芳基胺類化合物;N,N,N',N,-四苯基聯苯胺等聯苯胺類化合物;丁二烯類化合物;二-(對二甲苯氨基苯基)甲烷等三苯基甲烷類化合物等。其中,優選使用腙衍生物、咔唑衍生物、苯乙烯類化合物、丁二烯類化合物、三芳基胺類化合物、聯苯胺類化合物或至少2種這些化合物結合得到的物質。這些電荷輸送物質可以單獨使用,也可以幾種混合使用。本發明的電子照相感光體涉及的感光層以導電性材料由各種粘合劑樹脂粘結的形式形成。作為粘合劑樹脂,可以使用任何公知能用於電子照相感光體的粘合劑樹脂,具體可以舉出例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酯、多芳基化合物、聚碳酸酯、聚酯聚碳酸酯、聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮乙醛、聚乙烯醇縮丙醛、聚乙烯醇縮丁醛、聚碸、聚醯亞胺、苯氧基樹脂、環氧樹脂、聚氨酯樹脂、矽酮樹脂、纖維素酯、纖維素醚、氯乙烯乙酸乙烯酯共聚物、聚氯乙烯等乙烯基聚合物以及其共聚物等。另外,還可以使用這些物質的部分交聯固化物。層積型感光體感光體是所謂層積型感光體時,含有電荷產生物質的層通常是電荷產生層,但也可以包含在電荷輸送層中。含有電荷產生物質的層是電荷產生層的情況下,電荷產生物質的使用比例如下相對於電荷產生層中所含有的IOO重量份粘合劑樹脂,所使用的電荷產生物質通常在30500重量份,更優選在50300重量份。若使用量過少,則電子照相感光體的電特性不充分,並且使用量過少有損塗布液的穩定性。含有電荷產生物質的層中電荷產生物質的體積平均粒徑優選為1(im以下,更優選為0.5|im以下。電荷產生層的膜厚通常為0.1pm2^im,優選為0.15pm0.8pm。電荷產生層中可以含有用於改善成膜性、撓性、機械強度等的公知的增塑劑;用於抑制殘留電位的添加劑;用於提高分散穩定性的分散助劑;用於改善塗布性的均塗劑;如表面活性劑、矽油、氟系油的其他添加劑。單層型感光體感光體是所謂單層型感光體的情況下,上述電荷產生物質被分散在以與後述的電荷輸送層同樣配比的粘合劑樹脂和電荷輸送物質為主成分的基體中。這種情況下電荷產生物質的粒徑必需足夠小,並且體積平均粒徑優選為lpm以下,更優選為0.5pm以下。被分散到感光層內的電荷產生物質的量過少時,不能得到足夠的靈敏度,而其量過多時,存在充電性下降、靈敏度下降等缺陷,所以其用量例如優選為0.5重量%50重量%,更優選為10重量%45重量%。感光層的膜厚通常為5^im50nm,更優選為10^im45pm。另夕卜,單層型感光體的感光層也可以含有用於改善成膜性、撓性、機械強度等的公知的增塑劑;用於抑制殘留電位的添加劑;用於提高分散穩定性的分散助劑;用於改善塗布性的均塗劑;其他添加劑表面活性劑、矽油、氟系油。<含有電荷輸送物質的層〉層積型感光體的情況下,電荷輸送層可以由具有電荷輸送功能的樹脂單獨形成,但是優選上述電荷輸送物質被分散或溶解在粘合劑樹脂中的構成。另外,單層型感光體的情況下,作為分散電荷產生物質的基體,使用上述電荷輸送物質被分散或溶解在粘合劑樹脂中的構成。作為在含有電荷輸送物質的層中使用的粘合劑樹脂,可以舉出例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯等乙烯基聚合物以及其共聚物;聚碳酸酯、多芳基化合物、聚酯、聚酯碳酸酯、聚碸、聚醯亞胺、苯氧基樹脂、環氧樹脂、矽酮樹脂等,另外,還可以使用這些物質的部分交聯固化物。另外,在含有電荷輸送物質的層中還可以根據需要含有位阻酚、位阻胺等抗氧化劑;紫外線吸收劑;敏感劑;均塗劑;吸電性物質等各種添加劑。含有電荷輸送物質的層的膜厚通常為5pm60^im,優選為10(im45|im,更優選為15|xm27pm。所述粘合劑樹脂與電荷輸送物質的比例如下相對於IOO重量份粘合劑樹脂,所使用的電荷輸送物質通常為20200重量份,優選為30150重量份,更優選為40120重量份。<表面層〉設置現有公知的以例如熱塑性或熱固性聚合物為主體的表面保護層或外塗層作為外表面層。<形成層的方法〉感光體的各層如下形成,如本發明的底塗層用塗布液那樣將層中含有的物質溶解或分散到溶劑中,將由此得到的塗布液,用例如浸漬塗布方法、噴霧塗布方法、環狀塗布方法等公知的方法依次進行塗布,形成感光體的各層。這種情況下,塗布液中可以根據需要含有用於改善塗布性的均塗劑或抗氧化劑、敏感劑等各種添加劑。<有機溶劑〉作為塗布液中使用的有機溶劑,可以使用上述能夠用於溼式機械分散的溶劑。作為優選的例子,可以舉出甲醇、乙醇、丙醇、環己酮、1-己醇、1,3-丁二醇等醇類;丙酮、丁酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類;二氧六環、四氫呋喃、乙二醇單甲基醚等醚類;4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮等醚酮類;苯、甲苯、二甲苯、氯苯等(滷代)芳香烴類;乙酸甲酯、乙酸乙酯等酯類;N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺等醯胺類;二甲基亞碸等亞碸類。另外,這些溶劑中,特別優選使用醇類、芳香烴類、醚酮類。作為更優選的例子,可以舉出甲苯、二甲苯、l-己醇、1,3-丁二醇、4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮等。這些當中至少使用一種溶劑,也可以從這些溶劑中選擇兩種以上混合使用。作為混合的溶劑,優選醚類溶劑、醇類溶劑、醯胺類溶劑、亞碸類溶劑、醚酮類醯胺類溶劑、亞碸類溶劑、醚酮類溶劑,其中,優選1,2-二甲氧基乙烷等醚類溶劑、1-丙醇等醇類溶劑。特別優選混合醚類溶劑。這是在尤其當以氧鈦酞菁作為電荷產生物質製造塗布液時,從該酞菁的結晶型穩定化能、分散穩定性等方面考慮的結果。接著,使用表示裝置要件構成的圖1來說明使用了本發明的電子照相感光體的圖像形成裝置的實施方式。但是,實施方式並不限定於下述說明,只要不超出本發明的宗旨,實施時可以任意改變。如圖1所示,圖像形成裝置的結構中包括電子照相感光體1、充電裝置2、曝光裝置3和顯影裝置4,並進一步根據需要設置有轉印裝置5、清潔裝置6和定影裝置7。電子照相感光體1隻要是上述的本發明的電子照相感光體則沒有特別限制,圖1中作為一例,給出了在圓筒狀的導電性支持體的表面形成有上述感光層的鼓狀感光體。沿該電子照相感光體1的外周面,分別配置有充電裝置2、曝光裝置3、顯影裝置4、轉印裝置5和清潔裝置6。充電裝置2使電子照相感光體1帶電,並使電子照相感光體1的表面均勻充電到規定電位。圖1中,作為充電裝置2的一例,給出了輥式充電裝置(充電輥),但此外也可以使用corotron或scorotron等電暈充電裝置、充電刷等接觸型充電裝置等。另外,大多數情況下,具備電子照相感光體1和充電裝置2的盒(方便起見,下面稱作感光體盒)被設計成能從圖像形成裝置的主體上卸下。所以,例如當電子照相感光體1或充電裝置2發生了老化的情況下,可以將該感光體盒從圖像形成裝置主體上卸下,在圖像形成裝置主體上安裝其他新的感光體盒。另外。大多數情況下,後述的調色劑存放在調色劑盒中,並被設計成能從圖像形成裝置的主體上卸下,所使用的調色劑盒中的調色劑用盡的情況下,可以從圖像形成裝置主體上卸下該調色劑盒,裝上其他新的調色劑盒。另外,有時也使用同時具備電子照相感光體l、充電裝置2、調色劑的盒。曝光裝置3隻要能對電子照相感光體1進行曝光並在電子照相感光體1的感光面形成靜電潛像,對其種類沒有特別限制。作為具體例子,可以舉出卣燈、螢光燈、半導體雷射器或He-Ne雷射器等雷射器、LED等。另外,也可通過感光體內部曝光方式進行曝光。進行曝光時的光是任意的,例如可以利用波長為780nm的單色光、波長為600nm700nm的稍靠近短波長的單色光、波長為380nm600nm的短波長單色光等進行曝光。這些當中,優選利用波長為380nm600nm的短波長單色光等進行曝光,更優選利用波長為380nm500nm的單色光進行曝光。對顯影裝置4的種類沒有特別限制,可以使用串聯顯影、單成分導電調色劑顯影、雙成分磁刷顯影等乾式顯影方式或溼式顯影方式的任意裝置。圖1中,顯影裝置4包括顯影槽41、攪拌器42、供給輥43、顯影輥44和制約部件45,並且顯影槽41的內部存放調色劑T。另外,根據需要,可以讓顯影裝置4帶有補充調色劑T的補充裝置(未圖示)。該補充裝置被構成為能從瓶、盒等容器補充調色劑T。供給輥43由導電性海綿等形成。顯影輥44由鐵、不鏽鋼、鋁、鎳等金屬輥或在這些金屬輥上覆蓋了矽酮樹脂、聚氨酯樹脂、氟樹脂等的樹脂輥等構成。根據需要可以對該顯影輥44的表面實施平滑加工或粗面加工。顯影輥44被配置在電子照相感光體1和供給輥43之間,分別與電子照相感光體1和供給輥43抵接。供給輥43和顯影輥44在旋轉驅動機構(未圖示)的驅動下旋轉。供給輥43擔載被存放的調色劑T並將其供給到顯影輥44。顯影輥44擔載由供給輥43供給的調色劑T,並使其與電子照相感光體1的表面接觸。制約部件45由矽酮樹脂或聚氨酯樹脂等樹脂葉片形成;由不鏽鋼、鋁、銅、黃銅、磷青銅等金屬葉片形成;或由這些金屬葉片上覆蓋了樹脂的葉片等形成。該制約部件45抵接顯影輥44,被彈簧等以規定的力(通常葉片線壓為5g/cm500g/cm)按壓到顯影輥44側。根據需要,還可以使該制約部件45具有通過與調色劑T的摩擦帶電而使調色劑T帶電的功能。攪拌器42在旋轉驅動機構的驅動下各自旋轉,在攪拌調色劑T的同時,將調色劑T運送到供給輥43側。可設置槳葉形狀、大小等不同的至少2個攪拌器42。調色劑T的種類是任意的,除了粉狀調色劑之外,還可以使用以懸浮聚合法或乳液聚合法等得到的聚合調色劑等。特別是使用聚合調色劑的情況下,優選粒徑為4pm8nm左右的小粒徑調色劑。另外,調色劑粒子的形狀也可以是從近球狀到形態上不屬於球形的各種形狀。聚合調色劑在充電均勻性、轉印性方面優異,適合用於達到高圖像品質。對轉印裝置5的種類沒有特別限制,可以使用採用了電暈轉印、輥式轉印、帶式轉印等靜電轉印法;壓力轉印法;粘附轉印法等任意方式的裝置。此處,轉印裝置5由與電子照相感光體1相對配置的轉印充電裝置、轉印輥、轉印帶等構成。該轉印裝置5以與調色劑T的充電電位反極性施加規定電壓值(轉印電壓),將在電子照相感光體1上形成的調色劑圖像轉印到記錄紙(紙、介質)P上。對於清潔裝置6沒有特別限制,可以使用刷式清潔器、磁刷清潔器、靜電刷清潔器、磁輥清潔器、刮刀清潔器等任意的清潔裝置。清潔裝置6利用清潔部件將附著在電子照相感光體1上的殘留調色劑刮下,並回收殘留調色劑。但是,感光體表面上殘留的調色劑少或者基本上沒有的情況下,也可以沒有清潔裝置6。定影裝置7由上部定影部件(定影輥)71和下部定影部件(定影輥)72構成,定影部件71或72的內部配有加熱裝置73。另外,圖l中給出了在上部定影部件71內部配有加熱裝置73的例子。上部和下部的各定影部件71、72可以使用不鏽鋼、鋁等金屬管上覆蓋了矽橡膠的定影輥以及進一步用氟樹脂覆蓋了的定影輥、定影片等公知的熱定影部件。另外,為了提高防粘性,各定影部件71、72可以製成供給矽油等防粘劑的結構,也可以製成通過彈簧等相互強制性施加壓力的結構。被轉印到記錄紙P上的調色劑通過加熱到規定溫度的上部定影部件71和下部定影部件72之間時,調色劑被加熱到熔融狀態,通過後,調色劑被冷卻而被定影在記錄紙P上。另外,對於定影裝置的種類沒有特別限制,以此處使用的定影裝置為例,可以設置採用熱輥定影、瞬間定影(7,7^-定著)、烘箱定影、壓力定影等任意的方式的定影裝置。如上構成的電子照相裝置中,如下進行圖像的記錄。即,首先感光體1的表面(感光面)被充電裝置2充電到規定的電位(例如-600V)。此時,可以通過直流電壓進行充電,也可以交迭直流電壓和交流電壓進行充電。接著,將帶電的感光體1的感光面通過曝光裝置3對應要記錄的圖像進行曝光,在感光面形成靜電潛像。然後,利用顯影裝置4進行在該感光體1的感光面形成的靜電潛像的顯影。顯影裝置4中,由供給輥43供給的調色劑T在制約部件(顯影葉片)45的作用下形成薄層,同時使調色劑摩擦帶有規定極性(此處與感光體1的帶電電位的極性相同,為負極性)的靜電,並在顯影輥44擔載下進行輸送,使調色劑接觸感光體1的表面。由顯影輥44擔載的帶電調色劑T與感光體1的表面接觸後,在感光體1的感光面形成對應靜電潛像的調色劑圖像。然後,該調色劑圖像被轉印裝置5轉印到記錄紙P。此後,未被轉印而殘留在感光體1的感光面的調色劑被清潔裝置6除去。調色劑圖像轉印到記錄紙P上後,使其通過定影裝置7,調色劑圖像被熱定影在記錄紙P上,由此得到最終的圖像。另外,圖像形成裝置在上述的結構的基礎上,還可以製成能夠進行例如除電步驟的結構。除電步驟是通過對電子照相感光體進行曝光來除去電子照相感光體的帶電的步驟。使用螢光燈、LED等作為除電裝置。另外,除電步驟中使用的光大多數情況下是強度方面具有曝光光3倍以上的曝光能量的光。另外,圖像形成裝置的結構還可以進一步改變,例如製成能夠進行前曝光步驟、輔助充電步驟等的結構;製成進行膠版印刷的結構,以及製成使用了至少兩種調色劑的全色串聯方式的結構。實施例下面通過本發明的實施例、比較例來更詳細地進行說明,但只要不超出本發明的宗旨,並不受這些例子的限制。另外,沒有特別說明的話,實施例中使用的"份"表示"重量份"。亍'7夕生產的7<於7夕7LC)進行過濾。由此得到底塗層形成用塗布液A,其中經表面處理的氧化鈦/共聚聚醯胺的重量比為3/1,甲醇/l-丙醇/甲苯的混合溶劑的重量比為7/1/2,所含的固體成分濃度為18.0重量%。測定該底塗層形成用塗布液A在製成時與在室溫保存120天後的粘度的變化率(保存120天後的粘度與製成時的粘度的差除以製成時的粘度而得到的值)和製成時氧化鈦的粒度分布。粘度使用E型粘度計(卜*乂'乂夕社生產的產品名ED)以基於JISZ8803的方法進行測定,粒度分布使用粒度分析計(日機裝社生產,商品名7<夕o卜,7夕UPA(MODEL9340))進行測定,測定時,樣品用7/3的甲醇/l-丙醇混合溶劑稀釋到樣品濃度指數(SIGNALLEVEL)為0.60.8,在25。C進行測定。另外,粒徑方面,以氧化鈦粒子的總體積為100%計算累積曲線時,將該累積曲線中累積到50%處的粒徑記作體積平均粒徑(中心徑Median徑),累積曲線中累積到90%處的粒徑記作累積90%粒徑。其結果見表2。使用直徑為約50pm的氧化鋯珠(株式會社二'乂力卜一生產的YTZ)作為用超強磨進行分散時的分散介質,除此以外,與實施例1同樣地製作底塗層形成用塗布液B,與實施例1同樣地測定物理性質。結果見表2。另外,用重量比為7/3的甲醇/l-丙醇的混合溶劑將該底塗層形成用塗布液B稀釋成固體成分濃度為0.015重量%(金屬氧化物粒子濃度為0.011重量%)的分散液,測定該稀釋液對波長400nm的光的吸光度與對波長1000nm的光的吸光度的差。結果見表3。<實施例3〉將用超強磨進行分散時的轉子圓周速度設定為12m/秒,除此以外與實施例2同樣地製作底塗層形成用塗布液C,與實施例1同樣地測定物理性質。結果見表2。<實施例4〉使用直徑為約30pm的氧化鋯珠(株式會社二'乂力卜一生產的YTZ)作為以超強磨進行分散時的分散介質,除此以外與實施例3同樣地製作底塗層形成用塗布液D,與實施例1同樣地測定物理性質。結果見表2。<實施例5〉將實施例2中所用的經表面處理的氧化鈦/共聚聚醯胺的重量比設定為2/1,除此以外與實施例2同樣地製作底塗層形成用塗布液E,並使其固體成分濃度為0.015重量%(金屬氧化物粒子濃度為0.01重量%),除此以外與實施例2同樣地測定對波長400nm的光的吸光度與對波長1000nm的光的吸光度的差。結果見表3。將經表面處理的氧化鈦/共聚聚醯胺的重量比設定為4/1,除此以外與實施例2同樣地製作底塗層形成用塗布液F,並使其固體成分濃度為0.015重量%(金屬氧化物粒子濃度為0.012重量%),除此以外與實施例2同樣地測定對波長400nm的光的吸光度與對波長1000nm的光的吸光度的差。結果見表3。<實施例7〉如實施例1,但是,使用平均一次粒徑13nm的氧化鋁粒子(日本7二口^^社生產的AluminumOxideC)代替其中所使用的經表面處理的氧化鈦,所含有的固體成分濃度為8.0重量%,該氧化鋁粒子/共聚聚醯胺的重量比設定為1/1,除此以外與實施例2同樣地製作底塗層形成用塗布液G,並將其稀釋成固體成分濃度為0.015重量%(金屬氧化物粒子濃度為0.0075重量%),除此以外,與實施例2同樣地測定對波長400nm的光的吸光度與對波長1000nm的光的吸光度的差。結果見表3。<比較例1〉將50份經表面處理的氧化鈦和120份甲醇混合,使用直徑為約5mm的氧化鋁球(株式會社二7力卜一生產的HD),用球磨機分散5小時,得到分散漿液,直接使用該分散漿液而不用超強磨進行分散,除此以外與實施例1同樣地製作底塗層形成用塗布液H,並使其固體成分濃度為0.015重量%(金屬氧化物粒子濃度為0.011重量%),除此以外與實施例2同樣地測定物理性質。結果見表2和表3。比較例1中球磨機分散使用的球換作直徑約5mm的氧化鋯球(株式會社二'7力卜一生產的YTZ),除此以外與比較例1同樣地製作底塗層形成用塗布液I,與實施例1同樣地測定物理性質。結果見表2。<比較例3〉將比較例1中所用的經表面處理的氧化鈦/共聚聚醯胺的重量比設定為2/1,除此以外與比較例1同樣地製作底塗層形成用塗布液J,並使其固體成分濃度為0.015重量%(金屬氧化物粒子濃度為0.01重量%),除此以外與實施例2同樣地測定對波長400nm的光的吸光度與對波長1000nm的光的吸光度的差。結果見表3。將比較例1所用的經表面處理的氧化鈦/共聚聚醯胺的重量比設定為4/1,除此以外與比較例1同樣地製作底塗層形成用塗布液K,並使其固體成分濃度為0.015重量%(金屬氧化物粒子濃度為0.012重量%),除此以外與實施例2同樣地測定對波長400nm的光的吸光度與對波長1000nm的光的吸光度的差。結果見表3。<實施例8〉如實施例2,但是,使用磨容積約1L的壽工業株式會社生產的超強磨(UAM-1型)代替實施例2中使用的分散裝置即壽工業株式會社生產的超強磨(UAM-015型),將底塗層形成用塗布液的液體流量設定為30kg/小時,除此以外與實施例2同樣地製作底塗層形成用塗布液L,與實施例l同樣地測定物理性質。結果見表2。<實施例9〉如實施例2,但是,使用磨容積約1L的壽工業株式會社生產的超強磨(UAM-1型)代替實施例2中使用的分散裝置即壽工業株式會社生產的超強磨(UAM-015型),使用直徑為約30pm的氧化鋯珠(株式會社二'7力卜一生產的YTZ)作為分散介質,轉子圓周速度設定為12m/秒,將底塗層形成用塗布液的液體流量設定為30kg/小時,除此以外與實施例2同樣地製作底塗層形成用塗布液M,與實施例1同樣地測定物理性質。結果見表2。如比較例1,但是,使用平均一次粒徑為13nm的日本7二ay';14土生產的AluminumOxideC(氧化鋁粒子)代替比較例1中使用的經表面處理的氧化鈦,所含有的固體成分濃度為8.0重量%,該氧化鋁粒子/共聚聚醯胺的重量比設定為1/1,使用功率為600w的超聲振蕩器進行6小時的分散代替用球磨機進行的分散,除此以外與比較例1同樣地製作底塗層形成用塗布液N,並使其固體成分濃度為0.015重量%(金屬氧化物粒子濃度為0.0075重量%),除此以外與實施例2同樣地測定對波長400nm的光的吸光度與對波長1000nm的光的吸光度的差。結果見表3。如下對使用實施例2、57以及比較例1、35製作的底塗層形成用塗布液在導電性支持體上形成的底塗層的正反射的比進行評價。結果見表4。在表4所示的外徑30mm、長250mm、壁厚0.8mm的鋁管(拉制鏡面管和削切管)上塗布表4所示的底塗層形成用塗布液,使乾燥後的膜厚為2)im,乾燥後形成底塗層。使用多波長分光光度計(大塚電子生產的MCPD-3000)測定該底塗層在400nm的光或480nm的光下的反射率。光源使用滷燈,將光源和檢測器裝備的光纖纜的前端設置在垂直方向距底塗層表面2mm處,向底塗層表面射入垂直方向的光,檢測反射到同軸反向的光。測定未塗布底塗層的鋁削切管表面的該反射光,以其值為100%,測定底塗層表面的反射光,以其所佔比例為正反射率(%)。表2底塗層形成用塗布液的物理性質tableseeoriginaldocumentpage43一無值或未測定表3底塗層形成用塗布液的吸光度tableseeoriginaldocumentpage43表4底塗層的正反射率(%)tableseeoriginaldocumentpage43通過本發明的方法製作的底塗層形成用塗布液中,平均粒徑小,並且粒徑分布寬度小,所以液體穩定性高,能形成均勻的底塗層,並且,即使長期保存,粘度的變化也小,穩定性高。另外,塗布該底塗層形成用塗布液而形成的底塗層的均勻性高,不易使光散射,正反射率高。力7千,一A"井6000C)、253份1,2-二甲氧基乙烷、85份4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮混合,並進一步混合234份l,2-二甲氧基乙烷,用超聲分散機處理。其後,用孔徑為5pm的PTFE制膜過濾器(7卜-">亍'7夕社生產的7<亍、乂夕^LC)過濾,製作電荷產生層用塗布液。通過浸漬塗布,將乾燥後的膜厚為0.4pm的量的該電荷產生層用塗布液塗布在上述底塗層上,乾燥後形成電荷產生層。接著,在該電荷產生層上塗布乾燥後膜厚為17pm的量的電荷輸送層用塗布液,然後在室溫風乾25分鐘。進一步在125'C乾燥20分鐘,製作設置有電荷輸送層的電子照相感光體。將該電子照相感光體記作感光體Pl。所述電荷輸送層用塗布液是在640份四氫呋喃/甲苯(8/2)混合溶劑中溶解有56份如下所示的腙化合物、14份如下所示的腙化合物、100份具有下述重複結構的聚碳酸酯、以及0.05份矽油而成的電荷輸送層用塗布液。如下測定該感光體P1的絕緣破壞強度。即,在溫度25"C、相對溼度50%的環境下固定該感光體,壓上體積電阻率為約2MQ*cm的兩端比鼓長各短約2cm的充電輥,施加-3kV直流電壓,測定到達絕緣破壞的時間。其結果見表5。另外,將該感光體裝在根據電子照相學會測定標準製作的電子照相特性評價裝置(續電子照相技術的基礎和應用,電子照相學會編,3口於社,404405頁)上,充電至表面電位為-700V後,以5.0^J/cm2的強度照射780nm的雷射。在25。C、50%(以下有時稱作NN環境)環境下,以及在溫度5°C、相對溼度10%(以下有時稱作LL環境)測定曝光後100秒後的表面電位。其結果見表5。<實施例11〉除了將底塗層設置成底塗層的膜厚為3|am之外,與實施例10同樣地製作感光體P2。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。與實施例10同樣地對感光體P2進行評價,其結果見表5。<實施例12〉將氧化鈦和共聚聚醯胺的重量比設定為氧化鈦/共聚聚醯胺=2/1,除此以外與實施例1同樣地製作底塗層形成用塗布液A2。使用上述塗布液A2作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例10同樣地製作感光體P3。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。與實施例10同樣地對感光體P3進行評價,其結果見表5。<實施例13〉使用上述實施例2記載的底塗層形成用塗布液B作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例10同樣地製作感光體Q1。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。通過株式會社菱化'〉^於A的Micromap以波動模式測定該底塗層的表面形狀,測定時,測定波長為552nm、目鏡倍率為40倍、測定面為19(HimX148nm,以背景的形狀校正(Term)圓柱進行測定,此時的面內均方根粗度(RMS)的值為43.2nm,面內算術平均粗度(Ra)的值為30.7nm,面內最大粗度(P-V)的值為744nm。與實施例10同樣地對感光體Ql進行評價,其結果見表5。<實施例14〉除了將底塗層設置成底塗層的膜厚為3pm之外,與實施例13同樣地製作感光體Q2。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。與實施例10同樣地對感光體Q2進行評價,其結果見表5。使用上述塗布液E作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例13同樣地製作感光體Q3。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。與實施例10同樣地對感光體Q3進行評價,其結果見表5。使用上述實施例3記載的底塗層形成用塗布液C作為底塗層形成用同樣地製作感光體R1。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。與實施例10同樣地對感光體R1進行評價,其結果見表5。<實施例17〉除了將底塗層設置成底塗層的膜厚為3(im以外,與實施例16同樣地製作感光體R2。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。與實施例10同樣地對感光體R2進行評價,其結果見表5。<實施例18〉將氧化鈦和共聚聚醯胺的重量比設定為氧化鈦/共聚聚醯胺=2/1,除此以外與實施例3同樣地製作底塗層形成用塗布液C2。使用上述塗布液C2作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例16同樣地製作感光體R3。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。與實施例10同樣地對感光體R3進行評價,其結果見表5。<實施例19〉使用上述實施例4記載的底塗層形成用塗布液D作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例10同樣地製作感光體S1。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。另外,與實施例13同樣地測定底塗層的表面形狀,此時面內均方根粗度(RMS)的值為25.5nm,面內算術平均粗度(Ra)的值為17.7nm,面內最大粗度(P-V)的值為510nm。與實施例10同樣地對感光體Sl進行評價,其結果見表5。<實施例20〉除了將底塗層設置成底塗層的膜厚為3pm以外,與實施例19同樣地製作感光體S2。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。與實施例10同樣地對感光體S2進行評價,其結果見表5。將氧化鈦和共聚聚醯胺的重量比設定為氧化鈦/共聚聚醯胺=2/1,除此以外與實施例4同樣地製作底塗層形成用塗布液D2。使用上述塗布液D2作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例19同樣地製作感光體S3。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。與實施例10同樣地對感光體S3進行評價,其結果見表5。<比較例6〉使用上述比較例1記載的底塗層形成用塗布液H作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例10同樣地製作感光體T1。與實施例10同樣,通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,觀察到大量的氧化鈦凝聚物。另外,與實施例13同樣地測定此時的底塗層的表面形狀,此時面內均方根粗度(RMS)的值為148.4nm、面內算術平均粗度(Ra)的值為95.3nm、面內最大粗度(P-V)的值為2565nm。與實施例10同樣地對感光體T1進行評價,其結果見表5。除了將底塗層設置成底塗層的膜厚為3pm之外,與比較例6同樣地製作感光體T2。與實施例10同樣地通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,觀察到大量的氧化鈦凝聚物。與實施例10同樣地對感光體T2進行評價,其結果見表5。使用上述塗布液J作為底塗層形成用塗布液,除此以外與比較例6同樣地製作感光體T3。與實施例10同樣地通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,觀察到大量的氧化鈦凝聚物。與實施例10同樣地對感光體T3進行評價,其結果見表5。使用上述比較例2記載的底塗層形成用塗布液I作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例10同樣地製作感光體U1。與實施例10同樣地通過掃描型電子顯微鏡觀察此時的底塗層的表面時,觀察到大量的氧化鈦凝聚物。感光體U1的底塗層的成分和厚度分布非常不均勻,不能評價電子特性。表5感光體的電特性和到達絕緣破壞的時間tableseeoriginaldocumentpage49本發明的電子照相感光體具有沒有凝聚、分布均勻的底塗層,不同環境下電位的變動小,並且耐絕緣破壞性能優異。<實施例22〉使用上述實施例2記載的底塗層形成用塗布液B作為底塗層形成用塗布液,通過浸漬塗布,在外徑30mm、長285mm、壁厚0.8mm的鋁削切管上進行塗布,並使乾燥後的膜厚為2.4pm,使其乾燥後形成底塗層。通過掃面型顯微鏡觀察底塗層的表面時,基本沒有觀察到凝聚物。將94.2cm2該底塗層浸泡在70cm3甲醇、30cmh-丙醇的混合溶液中,通過功率為600W的超聲振蕩器進行5分鐘超聲處理,得到底塗層分散液,採用與實施例1同樣的方法對該分散液中的金屬氧化物凝聚體二次粒子的粒度分布進行測定時,體積平均粒徑為0.078pm,累積90%粒徑為0.108fim。通過浸漬塗布,將與實施例10同樣製作的電荷產生層用塗布液塗布在上述底塗層上,使乾燥後的膜厚為0.4pm,乾燥後形成電荷產生層。接著,在該電荷產生層上,塗布塗布液,使乾燥後的膜厚為10pm,並進行乾燥,從而設置電荷輸送層,製作電子照相感光體。所述塗布液為在640份四氫呋喃/甲苯(8/2)的混合溶劑中溶解有60份作為電荷輸送物質的以如下所示的結構為主體的特開2002-080432公報記載的化合物(A)、(m:n=7:3)和0.05份矽油而成的塗布液。將94.2cm2該電子照相感光體的感光層浸泡在100cm3四氫呋喃中,通過功率為600W的超聲振蕩器進行5分鐘超聲處理,溶解除去感光層後,將同一部分浸泡在70ci^甲醇、30cmh-丙醇的混合溶液中,通過功率為600W的超聲振蕩器進行5分鐘超聲處理,得到底塗層分散液。採用與實施例1同樣的方法對該分散液中的金屬氧化物凝聚體二次粒子的粒度分布進行測定時,體積平均粒徑為0.079pm,累積90%粒徑為0.124,。將製作的感光體安在精工愛普生株式會社生產的彩色印表機(產品名InterColorLP-1500C)的盒上,形成全色圖像時,能得到良好的圖像。將得到的圖像1.6cm四方中觀察到的微小色點的個數示於表6。<實施例23〉使用上述實施例3記載的底塗層形成用塗布液C作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例22同樣地形成全色圖像時,能形成良好的圖像。將得到的圖像1.6cm四方中觀察到的微小色點的個數示於表6。<實施例24〉使用上述實施例4記載的底塗層形成用塗布液D作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例22同樣地形成全色圖像時,能形成良好的圖像。將得到的圖像1.6cm四方中觀察到的微小色點的個數示於表6。<比較例10〉使用上述比較例1記載的底塗層形成用塗布液H作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例22同樣地製作電子照相感光體。將94.2cmH亥電子照相感光體的底塗層浸泡在70cm3甲醇、30cm3l-丙醇的混合溶液中,通過功率為600W的超聲振蕩器進行5分鐘超聲處理,得到底塗層分散液。採用與實施例1同樣的方法對該分散液中的金屬氧化物凝聚體二次粒子的粒度分布進行測定時,體積平均粒徑為0.113,,累積90%粒徑為0.196pm。將94.2cmH亥電子照相感光體的感光層浸泡在100cm3四氫呋喃中,通過功率為600W的超聲振蕩器進行5分鐘超聲處理,溶解除去感光層後,將同一部分浸泡在70cm3甲醇、30cmSl-丙醇的混合溶液中,通過功率為600W的超聲振蕩器進行5分鐘超聲處理,得到底塗層分散液。採用與實施例1同樣的方法對該分散液中的金屬氧化物凝聚體二次粒子的粒度分布進行測定時,體積平均粒徑為0.123pm,累積90%粒徑為0.193(xm。使用該電子照相感光體形成全色圖像時,觀察到大量的色點,不能得到良好的圖像。將得到的圖像1.6cm四方中觀察到的微小色點的個數示於表6。表6對圖像形成裝置形成的圖像的評價tableseeoriginaldocumentpage51本發明的電子照相感光體具有非常優異的性能,其感光體特性好、抗絕緣破壞性強,並且色點等圖像缺陷少。<實施例25〉將實施例13製作的感光體Q1在25。C、50%環境下進行固定,壓上體積電阻率為約2MQ,cm的兩端比鼓長各短約2cm的充電輥,施加1分鐘-lkV直流電壓,然後施加1分鐘-1.5kV直流電壓,同樣地重複這個操作,每施加l分鐘直流電壓,將電壓值降低-0.5kV,在施加-4.5kV直流電壓時,發生絕緣破壞。<實施例26〉使用底塗層形成用塗布液D代替實施例13使用的底塗層形成用塗布液B,除此以外與實施例13同樣地製作感光體,利用與實施例25同樣的方法對該感光體施加直流電壓時,施加-4.5kV直流電壓時發生絕緣破壞。<比較例11〉使用比較例6製作的感光體T1代替實施例13製作的感光體Q1,除此以外與實施例25同樣地製作感光體,對該感光體施加直流電壓,施加-3.5kV的直流電壓時,發生絕緣破壞。<實施例27〉將實施例13製作的感光體Ql裝在Samsung社生產的印表機ML1430上,在列印濃度5%的條件下反覆形成圖像,直至觀察到絕緣破壞引起的圖像缺陷,結果形成50000頁圖像也沒有觀察到圖像缺陷。<比較例12〉將比較例6製作的感光體Tl裝在Samsung社生產的印表機ML1430上,在列印濃度5%的條件下反覆形成圖像,直至觀察到絕緣破壞引起的圖像缺陷,結果在形成第35000頁圖像時,觀察到了圖像缺陷。力y千,一A"弁6000C)、0.75份苯氧基樹脂(二二才>力一"、卜"社產品,PKHH)的粘合劑溶液混合,最後,加入13.5份1,2-二甲氧基乙垸和4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮的任意比例的混合液,製備固體成分(顔料+樹脂)濃度為4.0重量%的電荷產生層形成用塗布液。將該電荷產生層形成用塗布液浸漬塗布在上述底塗層上,使乾燥後的膜厚為0.6pm,乾燥後形成電荷產生層。接著,在該電荷產生層上塗布電荷輸送層用塗布液,使乾燥後的膜厚為25pm,然後在室溫風乾25分鐘,進一步在125'C乾燥20分鐘,設置電荷輸送層,從而製作電子照相感光體。所述電荷輸送層用塗布液是在640份四氫呋喃/甲苯(8/2)混合溶劑中溶解有67份如下所示的三苯基胺化合物、100份具有下述重複結構的聚碳酸酉i0.5份下述結構的化合物、imageseeoriginaldocumentpage540.02份矽油的電荷輸送層用塗布液。將以上得到的電子照相感光體裝在根據電子照相學會測定標準製作的電子照相特性評價裝置(續電子照相技術的基礎和應用,電子照相學會編,-口於社,404405頁)上,按下述順序通過充電、曝光、電位測定、除電的循環進行電特性評價。在暗處以scorotron充電器的柵極電壓-800V進行充電而使不進行放電的感光體帶電後,測定感光體初期表面電位。接著,以幹涉濾光器使滷燈的光形成450nm的單色光,照射該單色光,測定表面電位達到-350V時的照射能量0J/cm2),以該值作為靈敏度E1/2,此時,初期充電電位為-708V、靈敏度El/2為3.288(iJ/cm2。初期充電電位的數值越高(電位的絕對值大),充電性越好,靈敏度的數值越小,表明靈敏度越高。<比較例13〉使用上述比較例1記載的底塗層形成用塗布液H作為底塗層形成用塗布液,除此以外與實施例28同樣地製作電子照相感光體,與實施例28同樣地進行電特性的評價,此時,初期充電電位為-696V、靈敏度E1/2為3.304|iJ/cm2。根據實施例28和比較例13的結果可知,本發明的電子照相感光體特別是在以曝光波長為350nm600nm的單色光進行曝光時,靈敏度優異。產業上的可利用性本發明的底塗層形成用塗布液的保存穩定性高,能夠高效製作高品質的具有塗布該塗布液形成的底塗層的電子照相感光體,該電子照相感光體的耐久穩定性優異,不易發生圖像缺陷等,所以利用使用該感光體的圖像形成裝置,能形成高品質的圖像。另外,根據塗布液的製造方法,不僅能高效生產所述底塗層形成用塗布液,還能得到保存穩定性更高的底塗層形成用塗布液,並能得到品質更高的電子照相感光體。因此,能很好地用於使用電子照相感光體的各種領域,例如複印機、印表機、印刷機等領域。另夕卜,此處引用2004年11月19日提出的日本特許申請2004-336424號說明書、權利要求書、附圖和摘要的全部內容,作為本發明說明書的公開內容。權利要求1、一種電子照相感光體,其具有底塗層和感光層,所述底塗層形成於導電性支持體上且含有粘合劑樹脂和折射率為2.0以上的金屬氧化物粒子,所述感光層形成於所述底塗層上,該電子照相感光體的特徵在於,將所述底塗層換算為2μm時,所述底塗層對波長為480nm的光的正反射與所述導電性支持體對波長為480nm的光的正反射的比為50%以上。2、一種電子照相感光體,其具有底塗層和感光層,所述底塗層形成於導電性支持體上且該底塗層含有粘合劑樹脂和折射率為2.0以下的金屬氧化物粒子,所述感光層形成於所述底塗層上,該電子照相感光體的特徵在於,將所述底塗層換算為2pm時,所述底塗層對波長為400nm的光的正反射與所述導電性支持體對波長為400nm的光的正反射的比為50%以上。3、一種圖像形成裝置,其是以具有電子照相感光體、使所述感光體帶電的充電單元、對帶電的該感光體進行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、用調色劑對該靜電潛像進行顯影的顯影單元和將調色劑轉印到被轉印體的轉印單元為特徵的圖像形成裝置;該圖像形成裝置的特徵在於,所述感光體是上述權利要求1或2所述的電子照相感光體。4、如權利要求3所述的圖像形成裝置,其特徵在於,所述充電單元與所述電子照相感光體接觸配置。5、如權利要求3或4所述的圖像形成裝置,其特徵在於,所述像曝光單元所用的光的波長為350nm600nm。6、一種電子照相盒,其是以具有電子照相感光體、使所述感光體帶電的充電單元、對帶電的該感光體進行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、用調色劑對該靜電潛像進行顯影的顯影單元和將調色劑轉印到被轉印體的轉印單元中的至少一種單元為特徵的電子照相盒;該電子照相盒的特徵在於,其使用的感光體是上述權利要求1或2所述的電子照相感光體。7、如權利要求6所述的電子照相盒,其特徵在於,所述充電單元與所述電子照相感光體接觸配置。全文摘要本發明涉及底塗層形成用塗布液以及具有塗布該塗布液形成的底塗層的電子照相感光體,本發明提供具有高穩定性的底塗層形成用塗布液、長壽命的電子照相感光體、圖像形成裝置以及電子照相盒。所述電子照相感光體性能高,能在各種使用環境下形成圖像品質高的圖像,並且不易產生黑點或色點等圖像缺陷,所述圖像形成裝置使用了上述感光體,所述電子照相盒使用了上述的感光體。所述塗布液是電子照相感光體的底塗層形成用塗布液,所述塗布液含有氧化鈦粒子和粘合劑樹脂,該塗布液中的氧化鈦凝聚體二次粒子的體積平均粒徑為0.1μm以下,並且累積90%粒徑為0.3μm以下。文檔編號G03G5/14GK101592878SQ20091013984公開日2009年12月2日申請日期2005年10月3日優先權日2004年11月19日發明者渕上宏惠申請人:三菱化學株式會社

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