液晶顯示裝置用基板的製造方法

2023-05-26 10:41:16 2

專利名稱：：液晶顯示裝置用基板的製造方法
技術領域：
：本發明涉及液晶顯示裝置用基板的製造方法，特別是涉及含有具有圖案狀的延遲的光學各向異向性層的液晶顯示裝置用基板的製造方法。本發明還涉及通過該製造方法得到的液晶顯示裝置用基板。
背景技術：
：作為文字處理機、筆記本電腦、個人電腦用顯示器等OA設備、可攜式終端機、電視機等中使用的顯示裝置，迄今為止主要使用CRT(陰極射線管)。近年來，液晶顯示裝置由於薄、重量輕且耗電少，從而逐漸取代CRT而被廣泛使用。液晶顯示裝置(LCD)具有液晶單元和偏振片。偏振片由保護膜和偏振膜構成，其是將由聚乙烯醇膜構成的偏振膜用碘染色，進行拉伸，並且其兩面用保護膜層疊來製得的。例如在透射型液晶顯示裝置中，將該偏振片安裝在液晶單元的兩側，有時也進一步配置1塊以上的光學補償片。另一方面，在反射型液晶顯示裝置中，按照反射板、液晶單元、1塊以上的光學補償片以及偏振片的順序進行配置。液晶單元由液晶分子、用於將該液晶分子封入的兩塊基板以及用於向液晶分子施加電壓的電極層構成。液晶單元根據液晶分子取向狀態的不同，進行ON、OFF顯示，可適用於透射型、反射型和半透射型中的任一種，提出了如TN(扭曲向列)、VA(垂直取向)、IPS(面內切換)、FFS(邊緣場切換)、OCB(光學補償彎曲)、ECB(電控雙折射)、STN(超扭曲向列)之類的顯示模式。但是，可以由以前的液晶顯示裝置顯示得到的顏色或對比度，隨著看LCD時的角度不同而變化。因此，液晶顯示裝置的視角特性達不到超越CRT性能的程度。為了改善該視角特性，可以使用視角補償用的光學補償膜。一直以來通過針對上述各種顯示模式使用具有各種光學特性的光學補償膜，具有優良的對比度視角特性的LTD被提出。特別是OCB、VA、IPS三種模式，作為寬視角模式具有覆蓋全方位的寬對比度視角特性，近年來，超過30英寸的大尺寸顯示器也已經開始作為電視用途在家庭中普及。VA模式從正面看時的顯示特性不僅與TN模式同樣優良，而且通過使用視角補償用光學補償膜，有時也可以顯現出寬視角特性，成為現在最普及的LCD模式。在VA模式中，通過使用在膜面的方向上具有正的折射率各向異性的單軸取向性相位差板(正的a-plate)以及在垂直於膜面的方向上具有光學軸的負的單軸性相位差板(負的c-pate)，可以實現更寬的視角特性(參照專利文獻l)。但是，使用光學補償膜進行的方法可以有效改善對比度視角特性，但對色視角特性的改善效果不充分，改善色視角特性成為LCD的重要課題。LCD的色視角特性的來源是由於R、G、B代表的3種顏色中波長不同，因此即使是相同的相位差，由偏振的相位差引起的變化也不同。為了將其進行最優化，將光學各向異性材料的雙折射的波長依賴性即雙折射波長分散相對R、G、B進行最優化。現在的LCD中，ON、OFF顯示中使用的液晶分子的雙折射波長分散或光學補償膜的雙折射波長分散不容易控制，因此還不能充分改善色視角特性。為了改善色視角特性，通過使用主要在液晶單元內與濾色器等一起形成圖案的方法等，針對R、G、B三色獨立地補償光學補償的方式(參照專利文獻2)已經被提出。通過將它們用於反射型液晶顯示裝置中的入/4板或各種模式的LCD，可以改善色視角特性。但是，在液晶單元內可以形成圖案的材料，與針對R、G、B形成圖案了的濾色器的上方位置重合，同時又形成具有光學均一性的相位差特性的光學各向異性層是非常困難的。現在，作為在液晶單元內將光學各向異性層對各個R、G、B的濾色器形成圖案的方式，提出了通過光蝕刻法等分別用三次形成RGB的光學各向異性層的方式(參照專利文獻3)，但由工序數增多引起的成本增加成為一個大問題。專利文獻l:日本特開平10-153802號公報(第12-13頁、圖54)專利文獻2:日本特開2004-37837號公報專利文獻3:日本特開2004-240102號公報
發明內容本發明的目的在於提供簡便地製造液晶顯示裝置用基板的方法，該液晶顯示裝置用基板使液晶顯示裝置的顏色視角改善。本發明提供下述(1)(20)。(1)含有光學各向異性層的液晶顯示裝置用基板的製造方法，該製造方法包含通過含有下述步驟[1][3]的方法來形成光學各向異性層準備具有光學各向異性層形成用材料層的基板；在前述光學各向異性層形成用材料層上進行曝光條件互不相同的兩種以上的圖案曝光；以及對前錄曝光後的基板進行80'C40(TC下的熱處理。(2)根據(1)所述的方法，其中所述步驟[l]通過將光學各向異性層形成用材料層由轉印材料轉印到基板上來進行。(3)根據(2)所述的製造方法，其中在光學各向異性層形成用材料層與基板之間存在有粘合層、或者感光性、感壓性或感熱性的樹脂層。(4)根據(1)所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層直接形成在基板上。(5)根據(1)所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層直接形成在將形成在基板上的取向層磨擦後的上面。(6)根據(1)~(5)任一項所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層的面內延遲為40550mn。(7)根據(1)(6)任一項所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料含有高分子。(8)根據(7)所述的製造方法，其中所述高分子具有選自丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基醚基、氧雜環丁垸基以及環氧基中的至少一種聚合性基團。(9)根據(1)~(8)任一項所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層是將含有具有至少一個反應性基團的液晶性化合物的溶液進行塗布乾燥而形成液晶相後，加熱或照射電離放射線來固化而形成的層。(10)根據(9)所述的製造方法，其中所述液晶性化合物具有至少一個自由基聚合反應性基團和至少一個陽離子聚合反應性基團。(11)根據(10)所述的製造方法，其中自由基聚合反應性基團是丙烯醯基或甲基丙烯醯基，且陽離子聚合反應性基團是乙烯基醚基、氧雜環丁垸基或環氧基。(12)根據(9)~(11)任一項所述的製造方法，其中所述液晶性化合物為棒狀液晶性化合物。(13)根據(1)~(8)任一項所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層為包含具有至少一個反應性基團的化合物的拉伸膜。(14)根據(13)所述的製造方法，其中拉伸膜直接或隔著其它的層通過粘合劑與基板貼合。(15)根據(1)~(14)任一項所述的製造方法，其中基板具有濾色層。(16)—種液晶顯示裝置用基板，其是通過(1)(15)任一項所述的方法製造的，且包含光學各向異性層，該光學各向異性層以圖案狀具有互不相同的三個以上的延遲。(17)根據(16)所述的液晶顯示裝置用基板，其具有濾色層，且所述延遲的圖案對應於濾色層顯示的顏色。(18)—種液晶顯示裝置，其具有(16)或(17)所述的液晶顯示裝置用基板。(19)根據(18)所述的液晶顯示裝置，其中所述液晶層的取向模式為TN模式、VA模式、IPS模式、FFS模式或OCB模式。(20)具有延遲互不相同的兩個以上區域的光學各向異性層的形成方法，該方法包含下述步驟[1]和[2]:對膜狀的光學各向異性層形成用材料進行曝光條件互不相同的兩種以上的圖案曝光；以及對所述曝光後的材料進行8(TC40(TC下的熱處理。通過使用本發明的製造方法，可以用簡單的工序以及減少工序數目來抑制成本，且還可以得到使液晶顯示裝置的顏色視角改善的液晶顯示裝置用基板。圖l是表示由轉印材料製作光學各向異性層形成用材料層的概略的圖。圖2是表示本發明的製造方法的概略的圖。圖3是液晶顯示裝置用基板的例子的概略剖面圖。圖4是液晶顯示裝置的例子的概略剖面圖。符號說明11轉印材料12圖案形成前的液晶顯示裝置用基板13臨時支撐體14基板15光學各向異性層或光學各向異性層形成用材料層16光學各向異性層用取向層17轉印用粘接層18力學特性控制層19液晶顯示裝置用基板15A光學各向異性層中的通過曝光條件A形成的區域15B光學各向異性層中的通過曝光條件B形成的區域15C光學各向異性層中的通過曝光條件C形成的區域21濾色層21R紅色的濾色層21G綠色的濾色層21B藍色的濾色層15r對應於紅色的光學各向異性層的圖案15g對應於綠色的光學各向異性層的圖案15b對應於藍色的光學各向異性層的圖案22黑色矩陣31透明電極層32液晶層用取向層33液晶層34TFT陣列35液晶單元36偏振層37保護膜偏振片具體實施方式下面，詳細說明本發明。另外，本說明書中""是指包含其前後記載的數值作為下限值和上限值。本說明書中，Re表示面內的延遲。作為波長入nm的Re的Re(入)通過在KOBRA21ADH或WR(王子計測機器株式會社制)中沿膜法線方向射入波長入nm的光來測定。本說明書中的Re表示對R、G、B分別在611士5nm、545土5nm、435士5nm的波長下測定的值，如果沒有關於顏色的特別說明，則表示在545士5nm或5卯士5nm的波長下測定的值。本說明書中，關於角度，"實質上"是指與嚴密的角度之間的誤差在低於±5°的範圍內。而且，與嚴密的角度之間的誤差優選低於4°，更優選低於3°。關於延遲，"實質上"是指延遲具有±5%以內的差。而且，Re實質上不為0是指Re在5nm以上。另外，只要對摺射率的測定波長沒有特別說明，則是指可見光區的任意波長。另夕卜，在本說明書中，"可見光"是指波長為400700nm的光。根據本發明的製造方法得到的液晶顯示裝置用基板是具有圖案狀的延遲的液晶顯示裝置用基板，包含基板和至少一層具有圖案狀的延遲的光學各向異性層。本說明書中"具有圖案狀的延遲的光學各向異性層"或者"以圖案狀具有延遲的光學各向異性層"是指"以圖案狀具有延遲不同的區域的光學各向異性層"。此外，在本說明書中，在無特別說明的情況下，"液晶顯示裝置用基板"和"基板"是區別使用的。[轉印材料和圖案形成前的液晶顯示裝置用基板]圖1(d)表示圖案形成前的液晶顯示裝置用基板的一個例子的概略剖面圖。圖l(d)的液晶顯示裝置用基板中，在基板14上隔著取向層16形成光學各向異性形成材料層15。圖1(c)表示使用轉印材料形成的圖案形成前的液晶顯示裝置用基板的一個例子的概略剖面圖。圖l(a)、(b)是光學各向異性層形成材料層通過由轉印材料轉印至基板上而形成時使用的轉印材料的一個例子的概略剖面圖。圖1(a)的轉印材料11是隔著取向層16按照光學各向異性形成材料層15和轉印用粘接層17的順序而形成在臨時支撐體13上。通過隔著轉印用粘接層17將轉印材料11層合轉印在基板14上，可以製作圖1(c)的圖案形成前的液晶顯示裝置用基板12。作為基板14隻要是透明即可，無特別限定，優選折射率小的支撐體，可以使用玻璃或低雙折射性聚合物等。作為轉印用粘接層17，只要具有充分的轉印性即可，無特別限定，可以列舉出由粘合劑形成的粘合層、感光性(光敏性)樹脂層、感壓性(壓敏性)樹脂層、感熱性(熱敏性)樹脂層等，在需要耐熱性時優選感光性或感熱性樹脂層。另外，圖1(b)的例子是在(a)的臨時支撐體13和取向層16之間形成力學特性控制層18而得到的轉印材料。為了具有良好的轉印性，優選光學各向異性形成材料層15與取向層16之間的剝離性高，為了在轉印工序中防止混入氣泡或液晶顯示裝置用基板上的凹凸吸收，優選具有力學特性控制層18。作為力學特性控制層，優選具有柔軟的彈性的層、因熱而軟化的層、因熱而呈現流動性的層等。除了轉印後剝離的臨時支撐體13以外，在液晶顯示裝置用基板中通常不需要圖1(a)的取向層16，圖1(b)的取向層16和力學特性控制層18，它們在由於經熱和光引起的劣化等而對光學特性產生影響時需要除去。一般來說，優選使用溶液處理方法進行的處理，更優選使用弱鹼溶液進行的處理。另外，臨時支撐體剝離時在臨時支撐體上粘附取向層16等不需要的層也因為削減了使用溶液處理進行的工序，所以是優選的。通過本發明的製造方法，液晶顯示裝置用基板形成有至少一層形成圖案的光學各向異性層，該形成圖案的光學各向異性層以圖案狀具有兩個以上不同的延遲。圖2表示具有形成圖案的光學各向異性層的液晶顯示裝置用基板的製造工序的一個例子的概略剖面圖。如圖2(a)所示，對於圖案形成前的液晶顯示裝置用基板12，在不同的三種曝光條件A、曝光條件B、曝光條件C下曝光後進行熱處理。這樣形成如圖2(b)所示的具有對應於各種曝光條件的15A、15B、15C的區域的形成圖案的光學各向異性基板19，作為各自的延遲ReA、ReB、ReC可以獲得實質上不同的值。曝光條件如後所述可以通過改變曝光量等來設定不同的條件，在進行三次以上圖案曝光時，也可以將幾種曝光條件中的一種不進行曝光(未曝光)。此外，圖案曝光是指一部分的區域的曝光，例如說"對光學各向異性層形成用材料層進行圖案曝光"時，是指對光學各向異性層形成用材料層的一部分區域進行曝光。該區域只要是通過與層的法線方向平行的面分割的區域即可，各個區域可以是連續的形狀，也可以是非連續的形狀。作為圖案曝光方法，只要是需要的析像度即可，可以用市售的雷射掃描裝置等直接曝光，也可以藉助光掩模進行曝光。這樣得到的形成圖案的光學各向異性層有助於液晶顯示裝置的單元的光學補償，即有助於擴大對比度視角，消除液晶顯示裝置的圖像著色。此外，本發明的製造方法適於製造作為液晶顯示裝置的構成部材的液晶顯示裝置用基板，但本製造方法還可以應用於液晶顯示裝置用基板的製造以外的具有光學各向異性層的物品的製造。通過進行上述曝光條件的最優化，可以製作以圖案狀具有需要的延遲的光學各向異性層。通過具有這種光學各向異性層的液晶顯示裝置用基板，對液晶單元內各色的濾色器可以達成不同的光學補償。圖3(a)、(b)、(c)表示通過本發明的製造方法得到的液晶顯示裝置用基板的一個例子的概略剖面圖。首先對圖3(a)的例子進行說明，液晶顯示裝置用基板19是在基板14上按照黑色矩陣22、濾色層21、轉印用粘接層17、形成圖案的光學各向異性層15的順序形成。濾色層21隻要具有至少紅色的21R、綠色的21G、藍色的21B的圖案即可。另夕卜，也可以進一步使用具有白色(W)圖案的濾色層。形成圖案的光學各向異性層15包含對於21R、21G、21B分別具有最優延遲的15r、15g、15b的圖案。在濾色層上存在有相當於21W的圖案時，形成圖案的光學各向異性層中對於21W具有最優延遲的15w的圖案，只要存在於對應於21W的位置上即可。通過就每種濾色層的顏色將光學各向異性層形成圖案，可以獲得最優的光學補償，因此與使用不具有圖案狀的延遲的光學各向異性層時相比，可以改善視角。圖3(b)是使濾色層和形成圖案的光學各向異性層的製作順序相反而形成的液晶顯示裝置用基板。圖3(c)是使用圖l(d)所示的圖案形成前的液晶顯示裝置用基板12並按同樣方法製作的液晶顯示裝置用基板的例子。通過本發明的製造方法得到的液晶顯示裝置用基板也可以用於形成液晶單元的兩塊液晶顯示裝置用基板中的任一個，但TFT陣列工序在矽形成時需要30(TC以上的高溫工序，因此優選用作與具有TFT層的一側的液晶顯示裝置用基板對向的一側的液晶顯示裝置用基板。當用作具有TFT層的一側的液晶顯示裝置用基板時，優選的是通過將具有形成後的TFT的矽層的基板用作本發明的製造方法中的基板，由此在矽層的上方設置光學各向異性層。通過使用本發明的製造方法得到的液晶顯示裝置用基板，可以在液晶單元內設置光學各向異性層，因此與將在溫溼度下尺寸容易變化的光學各向異性膜粘合的情況相比，可以通過牢固地保持在玻璃基板上而不易發生角落不穩。[液晶顯示裝置]圖4(a)、(b)和(c)是含有本發明的液晶顯示裝置用基板的液晶顯示裝置的一個例子的概略剖面圖。圖4(a)、(b)禾B(c)的例子是分別將圖3(a)、(b)和(c)所示的液晶顯示裝置用基板用於顯示側的液晶顯示裝置，該液晶顯示裝置是在具有濾色層和形成圖案的光學各向異性層的液晶顯示裝置用基板19與具有其對向基板即TFT34的液晶顯示裝置用基板的兩個基板之間，形成透明電極層31、取向層32後，形成具有夾有液晶層33的液晶單元35。在液晶單元35的兩側，通過夾在醋酸纖維素膜等保護膜37上的偏振層36形成的偏振片38通過粘合劑貼合在液晶單元35上。通過改變施加在上下透明電極層31之間的電壓，來改變液晶層的取向狀態，從而進行液晶顯示裝置的開關。為了調節液晶層33中的液晶分子的取向，取向層32—般被進行磨擦處理。夾持有偏振層的兩片保護膜37中，也可以使用光學補償片作為液晶單元側的保護膜。而且，通過製成使液晶層33的單元間隙隨各RGB變化的多間隙(multi-gap),可以進行自由度高的液晶單元設計。這種方式特別是在VA模式或IPS模式中可以達成優良的視角特性，因此是優選的。下面，針對本發明的製造方法，詳細說明材料、製作步驟等。但是，本發明不限於該形態，對於其它形態，也可以參考以下的記載內容和以往公知的方法來實施，本發明不限於以下說明的形態。[基板]本發明的液晶顯示裝置用基板的製造中使用的基板只要是透明的即可，沒有特別的限定，可以是表面上具有二氧化矽被覆膜的鈉玻璃、低膨脹玻璃、無鹼玻璃、石英玻璃等公知的玻璃板，也可以是由聚合物構成的透明基板。液晶顯示裝置用的情況下，在液晶顯示裝置用基板製作工序中，為了進行濾色器或取向膜的烘烤，需要18(TC以上的高溫工藝，因此優選具有耐熱性。作為這樣的耐熱性基板，優選玻璃板或聚醯亞胺、聚醚碸、耐熱性聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯，特別是從價格、透明性、耐熱性的觀點出發，優選玻璃板。另外，基板可以通過預先實施偶聯處理，使其與轉印粘接層的粘附力良好。作為該偶聯處理，優選使用日本特開2000-3卯33號公報中記載的方法。另外，雖然並沒有特別限定，但作為基板的膜厚，通常優選為1001200nm，特別優選為3001000pm。另外，作為在本發明的液晶顯示裝置用基板的製造中使用的基板，也可以使用在上述玻璃基板上具有濾色層等其它層的基板。[濾色層]濾色層沒有特別的限定，可以使用市售的濾色器，也可以使用由以往公知的任意方法製作的濾色器。另外，也可以使用在後述的感光性樹脂層形成用組合物中添加下述的著色劑而得到的著色感光性樹脂層形成用組合物，按照日本特開平11-248921號公報、日本專利3255107號公報中記載的方法進行製作。(4)著色劑在前述著色樹脂組合物中可以添加公知的著色劑(染料、顏料)。在使用該公知的著色劑中的顏料時，優選被均勻分散在著色樹脂組合物中，因此優選粒徑為O.lum以下，特別優選為0.08um以下。作為上述公知的染料或顏料，可以列舉出特開2004-302015號公報的段落編號、美國專利第6,790,568號說明書第14欄中記載的顏料等。作為本發明中的著色劑，在上述的著色劑中，(i)R(紅色)的著色樹脂組合物優選可以列舉出C丄顏料*紅色254，(ii)G(綠色)的著色樹脂組合物優選可以列舉出C.I顏料綠色36，(iii)B(藍色)的著色樹脂組合物優選可以列舉出C丄顏料'藍色15:6。而且上述顏料也可以組合使用。本發明中，關於優選並用的上述記載的顏料的組合，對C.L顏料'紅色254可以列舉出與C丄顏料紅色177、C.I.顏料紅色224、C丄顏料黃色139或CI.顏料紫色23的組合；對C.I顏料綠色36可以列舉出與C.I.顏料'黃色150、C.I.顏料'黃色139、C丄顏料'黃色185、C丄顏料'黃色138或C丄顏料黃色180的組合；對C丄顏料藍色15:6可以列舉出與C丄顏料紫色23或C丄顏料藍色60的組合。關於這樣並用時顏料中的C丄顏料'紅色254、CI顏料'綠色36、C丄顏料藍色15:6的含量，C.I.顏料紅色254優選為80質量％以上，特別優選為90質量％以上。C.I顏料綠色36優選為50質量％以上，特別優選為60質量％以上。C.I.顏料藍色15:6優選為80質量％以上，特別優選為90質量％以上。上述顏料優選的是作為分散液使用。該分散液可以通過將前述顏料和顏料分散劑預先混合而得到的組合物加入後述的有機溶劑(或載色料)中使其分散來製得。前述載色料是指塗料在液體狀態時使顏料分散的介質的部分，包含液態的與前述顏料結合而固定塗膜的部分(粘合劑)，和將其溶解稀釋的成分(有機溶劑)。作為使前述顏料分散時使用的分散機，沒有特別的限定，例如可以列舉出朝倉邦造著《顏料的事典》，第一版，朝倉書店，2000年，438項記載的捏合機、滾磨機、磨碎機、超級磨(SuperMill)、溶解器、均質攪拌機、砂磨機等公知的分散機。而且也可以通過該文獻310項記載的機械性磨碎，利用磨擦力來進行微粉碎。本發明中使用的著色劑(顏料)的數均粒徑優選為0.0010.1um，進一步優選為0.010.08um。若顏料數均粒徑低於0.001um，則粒子表面能變大，容易聚集，顏料不易分散，同時也難以保持穩定的分散狀態，因此不是優選的。另外，若由顏料數均粒徑超過O.lum，則由顏料引起的偏振光消失，對比度降低，因此不是優選的。此外，在本說明書中，"粒徑"是指將粒子的電子顯微鏡照片圖像製成同面積的圓時的直徑，而"數均粒徑"是指對大量粒子求出的上述粒徑的IOO個的平均值。在濾色器的製造中，如日本特開平11-248921號公報、日本專利第3255107號公報中記載的那樣，通過將形成濾色器的著色樹脂組合物進行重疊而形成基底，在其上形成透明電極，進而根據需要通過將分割取向用的突起重疊而形成間隔，這從降低成本的觀點來看是優選的。[臨時支撐體]光學各向異性層形成用材料層通過從轉印材料轉印至基板上而形成時使用的轉印材料中使用的臨時支撐體可以透明也可以不透明，並無特別限定。構成臨時支撐體的聚合物的例子包括纖維素酯(例如乙酸纖維素、丙酸纖維素、丁酸纖維素)、聚烯烴(例如降冰片烯類聚合物)、聚(甲基)丙烯酸酯(例如聚甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、聚酯以及聚碸、降冰片烯類聚合物。為了在製造工序中檢查光學特性，透明支撐體優選為透明且低雙折射的材料，從低雙折射性的觀點出發，優選為纖維素酯以及降冰片烯類。作為市售的降冰片烯類聚合物，可以使用Arton(JSR株式會社制)、Zeonex、Zeonor(以上均由日本Zeon株式會社制)等。另外也優選使用廉價的聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯等。[光學各向異性層]光學各向異性層只要是具有至少有1個在測定相位差時Re實質上不為0的入射方向，即具有非各向同性的光學特性即可，沒有特別的限定。根據本發明的方法，通過光學各向異性層形成用材料層經過規定的工序，可以形成特別是具有兩個以上Re不同的區域的光學各向異性層。如上所述，光學各向異性層通過組裝入液晶單元中，作為補償液晶顯示裝置的視角的光學各向異性層而發揮作用。光學各向異性層單獨就具有充分的光學補償功能的形態當然包含在本發明的範圍內，而與其它層(例如設置在液晶單元外的光學各向異性層等)組合來滿足光學補償所需要的光學特性的形態也包含在本發明的範圍內。另外，圖案曝光前的光學各向異性層不必滿足對光學補償能力來說足夠的光學特性，只要是例如通過曝光工序，光學特性顯現出來或發生變化，最終顯示光學補償所需要的光學特性即可。[圖案曝光前的光學各向異性層]本發明的製造方法中的曝光前的光學各向異性層可以具有光學各向異性，也可以不具有光學各向異性，在本說明書中，有時稱為"光學各向異性形成材料層"。光學各向異性形成材料層優選Re為40550nm。[光學各向異性層形成用材料]光學各向異性層形成用材料可以通過塗布或拉伸等形成膜狀的層，只要是可以通過條件不同的曝光而得到不同的Re的材料即可，沒有特別的限定。作為光學各向異性層形成用材料的一個例子，可以列舉出含有高分子的材料。高分子優選具有選自丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基醚基、氧雜環丁烷基以及環氧基中的至少一種聚合性基團。例如，光學各向異性層形成用材料可以是包含具有至少一種反應性基團的化合物的拉伸膜。拉伸膜只要是直接或隔著其它層通過粘合劑與基板貼合使用即可。另外，作為光學各向異性層形成用材料的優選的一個例子，可以列舉出含有液晶性化合物的材料。特別是光學各向異性層形成用材料層優選通過以下方法得到的層將含有液晶性化合物的溶液進行塗布，在液晶相形成溫度下熟成、取向後，以這種狀態直接進行加熱或照射電離放射線進行固化而得到的層。對該形態，以下進行詳細說明。[液晶性化合物]通常來說，液晶性化合物從其形狀來看，可分為棒狀型和圓盤狀型。進一步分別有低分子型和高分子型。所謂的高分子通常是指聚合度為100以上的分子(高分子物理和相轉變動力學，土井正男著，2頁，巖波書店，1992)。在本發明中，可以使用任一液晶性化合物，但優選使用棒狀液晶性化合物或圓盤狀液晶性化合物。也可以使用2種以上的棒狀液晶性化合物、2種以上的圓盤狀液晶性化合物、或棒狀液晶性化合物和圓盤狀液晶性化合物的混合物。從可以減小溫度變化或溼度變化的角度出發，更優選使用具有反應性基團的棒狀液晶性化合物或圓盤狀液晶性化合物來形成，進一步優選至少一個是1個液晶分子中具有2個以上的反應性基團。液晶性化合物也可以是兩種以上的混合物，此時，優選至少一個具有2個以上反應性基團。前述光學各向異性層的厚度優選為0.1~20um，進一步優選為0.510ym。作為棒狀液晶性化合物，優選使用甲亞胺類、氧化偶氮類、氰基聯苯類、氰基苯基酯類、苯甲酸酯類、環己烷羧酸苯基酯類、氰基苯基環己烷類、氰基取代苯基嘧啶類、烷氧基取代苯基嘧啶類、苯基二噁垸類、二苯乙炔類以及鏈烯基環己基苄腈類。除上述低分子液晶性化合物外，還可以使用高分子液晶性化合物。上述高分子液晶性化合物是低分子的具有反應性基團的棒狀液晶性化合物聚合而成的高分子化合物。作為特別優選使用的上述低分子的具有反應性基團的棒狀液晶性化合物，為下述通式(I)表示的棒狀液晶性化合物。通式(I):Q!-L'-A!-L3畫M-L4-A2-L2-Q2式中，(^和(^分別獨立地表示反應性基團，L1、L2、！^和"分別獨立地表示單鍵或二價的連接基團。A^Q八2分別獨立地表示碳原子數220的間隔基。M表示內消旋配合基。下面，進一步對由通式(I)表示的具有反應性基團的棒狀液晶性化合物進行詳細說明。式中，(^和(^2分別獨立地表示反應性基團。反應性基團的聚合反應優選加聚(包括開環聚合)或縮聚。換言之，反應性基團優選為能進行加聚反應或縮聚反應的反應性基團。另外，液晶性化合物優選具有至少一種丙烯醯基或甲基丙烯醯基等自由基聚合反應性基團，以及至少一種乙烯基醚基、氧雜環丁烷基或環氧基等陽離子聚合反應性基團。以下所示為反應性基團的例子。formulaseeoriginaldocumentpage18作為l1、l2、1^和"表示的二價的連接基團，優選為選自-o-、-s-、-co-、-nr2-、-co-o-、-o-co-o-、-co-nr2-、-nr2-co-、-o-co-、-o-co-nr2-、^112-(:0-0-以及-皿2-(:0-^12-中的二價的連接基團。上述r2是碳原子數為17的烷基或氫原子。前述式(i)中，q1-"以及q、l、優選為ch2=ch-co-0-、ch2=c(ch3)-co-o-以及ch2=c(ci)-co-o-co-o-，最優選為ch2=ch-co-0-。a1和az表示具有220個碳原子數的間隔基。優選碳原子數為212的亞烷基、亞烯基和亞炔基，特別優選亞烷基。間隔基優選為鏈狀，也可以含有不相鄰的氧原子或硫原子。另外，前述間隔基還可以具有取代基，可以是滷原子(氟、氯、溴)、氰基、甲基、乙基取代。作為由M表示的內消旋配合基，可以列舉出所有公知的內消旋配合基。特別優選由下述通式(II)表示的基團。通式(II):-(-W'-L5)n-W2-式中，W'和\￥2各自獨立地表示二價的環狀亞烷基或環狀亞烯基、二價的芳基或二價的雜環基，LS表示單鍵或連接基團；作為連接基團的具體例子，可以列舉出上述式(I)中由1^"表示的基團的具體例子、-0^2-0-以及-0-CH2-。n表示l、2或3。作為W^和W2，可以列舉出1，4-環己二基、1，4-亞苯基、嘧啶-2，5-二基、敗啶-2,5-二基、1，3，4-噻二唑-2，5-二基、1，3，4-噁二唑-2，5-二基、萘-2，6-二基、萘-1，5-二基、噻吩-2，5-二基、噠嗪-3，6-二基。當是l，4-環己二基時，存在反式和順式的結構異構體，但任一異構體均可使用，也可以是任意比例的混合物。更優選反式異構體。W'和X^可以分別具有取代基。作為取代基，可以列舉出滷原子(氟、氯、溴、碘)、氰基、碳原子數為110的烷基(甲基、乙基、丙基等)、碳原子數為110的垸氧基(甲氧基、乙氧基等)、碳原子數為110的醯基(甲醯基、乙醯基等)、碳原子數為110的垸氧基羰基(甲氧基羰基、乙氧基羰基等)、碳原子數為110的醯氧基(乙醯氧基、丙醯氧基等)、硝基、三氟甲基、二氟甲基等。由前述通式(II)表示的內消旋配合基的基本骨架的優選例子如下所示。它們可被上述取代基取代。formulaseeoriginaldocumentpage20以下表示由上述通式(I)表示的化合物的例子，但不限於這些。另外，由通式(I)表示的化合物可用特表平11-513019號公報中記載的方法來合成。formulaseeoriginaldocumentpage21formulaseeoriginaldocumentpage22formulaseeoriginaldocumentpage23formulaseeoriginaldocumentpage241-21I-22廣Cucoo-Of0I-23〇--cooI-24o-、o-1-25ID-COO'OCO液晶性化合物也可以是盤狀化合物。作為盤狀(圓盤狀)化合物的例子，可以列舉出C.Destmde等人的研究報告、Mo1.Cryst.71巻，lll頁(腦年)中記載的苯衍生物；C.Destmde等人的研究報告、Mol.Cryst.122巻，141頁(1985年)、Physicslett，A，78巻，82頁(1990)中記載的三亞茚衍生物；B.Kohne等人的研究報告、Angew.Chem.96巻，70頁(1984年)中記載的環己垸衍生物以及J.M.Lehn等人的研究報告、J.Chem.Commun.，1794頁(1985年)、J.Zhang等人的研究報告，J.Am.Chem.Soc.116巻，2655頁(1994年)中記載的氮雜冠醚類或苯乙炔類大環化合物等。上述盤狀(圓盤狀)化合物包含下述的顯示出液晶性且通常被稱為盤狀液晶的化合物，該化合物一般是以它們作為分子中心的圓盤狀的母核，且直鏈的垸基、垸氧基、取代苯醯氧基等基團(L)被呈放射狀取代的結構。但是，這種分子的集合體取向一致時，顯示負的單軸性，但並不局限於這些記載。另外，在本發明中，所謂的由圓盤狀化合物形成，也包括最終形成的物質不必一定是上述化合物，例如，上述低分子盤狀液晶具有在熱、光等存在下反應的基團，結果因熱、光等發生反應而發生聚合或交聯，高分子量化而失去液晶性的化合物。在本發明中，優選使用由下述通式(III)表示的盤狀液晶性化合物。通式(III):D(陽L-P)n式中，D為圓盤狀芯，L為二價的連接基團，P為聚合性基團，n為412的整數。上述式(III)中，圓盤狀芯(D)、二價的連接基團(L)以及聚合性基團(P)的優選的具體例子分別可以列舉出特開2001-4837號公報中記載的(Dl)(D15)、(Ll)(L25)、(Pl)(P18)，在此可以優選使用該公報中記載的關於圓盤狀芯(D)、二價的連接基團(L)以及聚合性基團(P)的內容。上述盤狀化合物的優選的例子如下所示。Rformulaseeoriginaldocumentpage26formulaseeoriginaldocumentpage27formulaseeoriginaldocumentpage28formulaseeoriginaldocumentpage29由含有液晶性化合物的組合物形成光學各向異性層形成用材料層時，優選按照以下方式來製作將含有液晶性化合物的組合物(例如塗布液)塗布於後述取向層的表面上，製成顯示所希望的液晶相的取向狀態後，加熱或照射電離放射線從而將該取向狀態固定。作為液晶性化合物，當使用具有反應性基團的圓盤狀液晶性化合物時，可以在水平取向、垂直取向、傾斜取向以及扭曲取向等任一取向狀態下被固定。水平取向是指圓盤狀液晶性化合物的核的圓盤面與支撐體的水平面平行，但並不要求嚴格平行，在本說明書中是指與水平面所成的傾斜角低於io度的取向。光學各向異性層也可以由兩層以上的層構成，將2層以上的由液晶性化合物構成的層進行層疊時，對液晶性化合物的組合沒有特別限定，可以是全部由圓盤狀液晶性化合構成的層的層疊體、全部由棒狀性液晶性化合物構成的層的層疊體、由圓盤狀液晶性化合構成的層和由棒狀性液晶性化合物構成的層的層疊體。另外，各層的取向狀態的組合也沒有特別限定，可以將相同取向狀態的光學各向異性層層疊，也可以將不同取向狀態的層層疊。含有液晶性化合物的組合物優選作為含有液晶性化合物以及下述聚合引發劑和其它添加劑的塗布液的形式塗布在後述的規定的取向層的上面來形成。作為塗布液的調製中使用的溶劑，優選使用有機溶劑。有機溶劑的例子包括醯胺(例如N，N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如二甲基亞碸)、雜環化合物(例如吡啶)、烴(例如苯、己烷)、滷代垸(例如氯仿、二氯甲烷)、酉旨(例如乙酸甲酯、乙酸丁酯)、酮(例如丙酮、丁酮)、醚(例如四氫呋喃、1，2-二甲氧基乙烷)。優選滷代烷和酮。也可以將兩種以上的有機溶劑並用。[液晶性化合物的取向狀態的固定化]取向後的液晶性化合物優選維持取向狀態並固定。固定化優選通過引入到液晶性化合物中的反應性基團的聚合反應來實施。聚合反應包括使用熱聚合引發劑的熱聚合反應和使用光聚合引發劑的光聚合反應，更優選光聚合反應。作為光聚合反應，可以是自由基聚合、陽離子聚合中的任一種。自由基光聚合引發劑的例子包括a-羰基化合物(美國專利2367661號、美國專利2367670號的各說明書記載)、偶姻醚(美國專利2448828號說明書記載)、a-烴取代芳香族偶姻化合物(美國專利2722512號說明書記載)、多核醌化合物(美國專利3046127號、美國專利2951758號的各說明書記載)、三芳基咪唑二聚物和p-氨基苯基酮的組合(美國專利3549367號說明書記載)、吖啶和吩嗪化合物(特開昭60-105667號公報、美國專利4239850號說明書記載)以及噁二唑化合物(美國專利4212970號說明書記載)。陽離子光聚合引發劑的例子可以例示出有機鋶鹽類、碘錄鹽類、鱗鐵鹽類等。作為這些化合物的平衡離子，優選使用銻酸鹽、磷酸鹽等。光聚合引發劑的使用量優選為塗布液的固體成分的0.0120質量％，進一步優選為0.55質量％。為了使液晶性化合物聚合而進行的光照射，優選使用紫外線。照射能量優選為10mJ/cm210J/cm2，進一步優選為25800mJ/cm2。照度優選為101000mW/cm2，更優選為20500mW/cm2，進一步優選為40350mW/cm2。作為照射波長，優選在250450nm具有峰，進一步優選在300410nm具有峰。為了促進光聚合反應，可以在氮氣氛下或加熱條件下實施光照射。[由偏振光照射所引起的光取向]前述光學各向異性層也可以是通過由偏振光照射所引起的光取向而使面內延遲表現出來的層。該偏振光照射可以與上述取向固定化中的光聚合工藝同時進行，也可以先進行偏振光照射，然後通過非偏振光照射進一步進行固定化，也可以通過非偏振光照射來先固定化，然後通過偏振光照射來進行光取向。為了獲得大的面內延遲，偏振光照射優選在液晶化合物塗布、取向後最初進行。偏振光照射優選在氧濃度為0.5%以下的惰性氣體氣氛下進行。照射能量優選為20mJ/cm210J/cm2，更優選為100800mJ/cm2。照度優選為201000mW/cm2，更優選為50500mW/cm2，進一步優選為100350mW/cm2。對於通過偏振光照射而固化的液晶性化合物的種類，沒有特別限制，優選具有烯鍵式不飽和基團作為反應性基團的液晶性化合物。作為照射波長，優選在300450nm具有峰，進一步優選在350400nm具有峰。顯示出通過由偏振光照射所引起的光取向產生的面內延遲的光學各向異性層，特別適用於VA模式的液晶顯示裝置的光學補償。[在偏振光照射後通過紫外線照射進行的後固化]前述光學各向異性層可以在最初的偏振光照射(為了光取向而進行的照射)後，通過進一步照射偏振光或非偏振光紫外線來提高反應性基團的反應率(後固化)，改善粘附性等，同時能以較大的搬送速度進行生產。後固化可以使用偏振光也可以使用非偏振光，優選偏振光。另外，優選進行2次以上的後固化，可以只用偏振光，也可以只用非偏振光，也可以組合偏振光與非偏振光；在組合時，優選先照射偏振光後照射非偏振光。在紫外線照射時，可以進行惰性氣體置換，也可以不進行惰性氣體置換，但優選在氧濃度為0.5%以下的惰性氣體氣氛中進行。照射能量優選為20mJ/cm210J/cm2，進一步優選為100800mJ/cm2。照度優選為201000mW/cm2，.更優選為50500mW/cm2，進一步優選為100350mW/cm2。作為照射波長，在偏振光照射時，優選在300450nm具有峰，進一步優選在350400nm具有峰。在非偏振光照射時，優選在200450nm具有峰，更優選在250400nm具有峰。含有液晶化合物的溶液等光學各向異性層形成用組合物中，通過含有由下述通式(1)(3)表示的化合物以及使用通式(4)的單體的含氟均聚物或共聚物中的至少一種，可以使液晶性化合物的分子實質上水平取向。此外，在本說明書中，"水平取向"是指，在為棒狀液晶時分子長軸和透明支撐體的水平面平行，在為圓盤狀液晶時圓盤狀液晶性化合物的芯的圓盤面與透明支撐體的水平面平行，但並不要求嚴格地平行，在本說明書中是指與水平面所成的傾斜角低於10度的取向。傾斜角優選為05度，更優選為03度，進一步優選為02度，最優選為01度。下面，對下述通式(1)(4)依次進行說明。通式(1)R1、，N人NR3、3人人2,r2X3NX2式中，R1、尺2和113各自獨立地表示氫原子或取代基，X1、X^PXS表示單鍵或二價的連接基團。作為由RiW各自表示的取代基，優選取代或未取代的垸基(其中更優選未取代的垸基或氟代烷基)、芳基(其中優選具有氟代垸基的芳基)、取代或未取代的氨基、垸氧基、垸硫基、滷原子。由x1、x^nxs各自表示的二價的連接基團優選為選自亞烷基、亞烯基、二價的芳香族基、二價的雜環殘基、-CO-、-NRa-(Ra表示碳原子數為15的烷基或氫原子)、-O-、-S-、-SO-、-S02-以及它們的組合中的二價的連接基團。二價的連接基團更優選為選自亞垸基、亞苯基、-CO-、-NRa-、-O-、-S-以及-S02中的二價的連接基團或從其中選擇的至少兩種的基團組合而成的二價的連接基團。亞垸基的碳原子數優選為112。亞烯基的碳原子數優選為212。二價的芳香族基的碳原子數優選為610。式中，R表示取代基，m表示05的整數。當m表示2以上的整數時，多個R可以相同也可以不同。作為R優選的取代基與作為由R1、W和R2表示的取代基的優選範圍而列舉的取代基相同。m優選表示13的整數，特別優選2或3。通式(3)R90OR4式中，R4、R5、R6、R7、RS以及W各自獨立地表示氫原子或取代基。由R4、R5、R6、R7、RS以及W各自所表示的取代基優選為作為通式(1)中的由R1、112和W表示的取代基的優選例子而列舉的那些基團。關於本發明中使用的水平取向劑，可以使用特開2005-99248號公報的段落編號中記載的化合物，這些化合物的合成方法也記載在該說明書中。通式(2)通式(4)式中，R表示氫原子或甲基，X表示氧原子、硫原子，Z表示氫原子或氟原子，m表示l6的整數，n表示l12的整數。除了含有通式(4)的含氟聚合物以外，作為改善塗布時的不均現象的聚合物，可以使用特開2005-206638號公報以及特開2006-91205號公報中記載的化合物作為水平取向劑，這些化合物的合成方法也記載在該說明書中。作為水平取向劑的添加量，優選為液晶性化合物的質量的0.0120質量％，更優選為0.0110質量％，特別優選為0.021質量％。另外，由上述通式(1)(4)表示的化合物可以單獨使用，也可以並用兩種以上。[取向層]如上所述，光學各向異性層的形成也可以利用取向層。取向層通常設置在基板或透明臨時支撐體上、或者設置在塗設在該基板或透明臨時支撐體上的下塗層上。取向層具有對其上設置的液晶性化合物的取向方向進行規定的功能。取向層只要能對光學各向異性層賦予取向性即可，可以使用各種取向層。作為取向層的優選例子，可以列舉出有機化合物(優選聚合物)經磨擦處理後得到的層、無機化合物的斜方蒸鍍層、以及具有細微紋溝的層、還有"-二十三烷酸、雙十八烷基甲基氯化銨以及硬脂酸甲酯等通過Langmuir-Blogett法(LB膜)形成的累積膜、或通過施加電場或磁場使電介體取向的層。作為取向層用的有機化合物的例子，可以列舉出聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/馬來醯亞胺共聚物、聚乙烯醇、聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、苯乙烯/乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝化纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚醯亞胺、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纖維素、聚乙烯、聚丙烯以及聚碳酸酯等聚合物以及矽烷偶聯劑等化合物。作為優選的聚合物的例子，可以列舉出聚醯亞胺、聚苯乙烯、苯乙烯衍生物的聚合物、明膠、聚乙烯醇以及具有烷基(優選碳原子數為6以上)的烷基改性聚乙烯醇。取向層的形成優選使用聚合物。關於可利用的聚合物的種類，可根據液晶性化合物的取向(特別是平均傾斜角)來決定。例如，為了使液晶性化合物水平地取向，使用不降低取向層的表面能的聚合物(通常的取向用聚合物)。關於具體的聚合物的種類，在關於液晶單元或光學補償片的各種文獻中有記載。例如，優選使用聚乙烯醇或改性聚乙烯醇、聚丙烯酸或聚丙烯酸酯的共聚物、聚乙烯吡咯烷酮、纖維素或改性纖維素等。取向層用原材料中可以具有能與液晶性化合物的反應性基團反應的官能團。關於反應性基團，可以在側鏈上引入具有反應性基團的重複單元或者作為環狀基的取代基引入。更優選使用在界面上與液晶性化合物形成化學鍵的取向層，作為該取向層，在特開平9-152509號公報中有記載，特別優選使用醯氯或KarenzMOI(昭和電工株式會社制)來在側鏈上引入了丙烯醯基的改性聚乙烯醇。取向層的厚度優選為0.015iam，進一步優選為0.052pm。取向層還可以具有起著氧阻隔膜的功能。另外，還優選作為LCD的取向層被廣泛使用的聚醯亞胺膜(優選含有氟原子的聚醯亞胺)作為有機取向層。這可通過將聚醯胺酸(例如，日立化成工業株式會社制的LQ/LX系列，日產化學株式會社制的SE系列等)塗布於支撐體表面，在10030(TC下燒成0.51小時後，進行磨擦而製得。另外，上述磨擦處理可以利用作為LCD的液晶取向處理工序被廣泛採用的處理方法。即，可以使用如下方法將取向層的表面用紙、紗布、氈子、橡膠或尼龍、聚酯纖維等沿一定方向磨擦來得到取向。通常，用均勻地接植有長度和粗細均一的纖維而得到的布等進行大約數次磨擦來實施。另外，作為無機斜方蒸鍍膜的蒸鍍物質，可以列舉出以Si02為代表、Ti02、Zn02等金屬氧化物，或MgF2等氟化物，以及Au、Al等金屬。此外，金屬氧化物只要具有高介電常數即可作為斜方蒸鍍物質使用，並不限於上述化合物。無機斜方蒸鍍膜可用蒸鍍裝置來形成。通過將膜(支撐體)固定並進行蒸鍍，或使長條狀膜移動並連續地進行蒸鍍來形成無機斜方蒸鍍膜。[轉印用粘接層]對使用轉印材料進行本發明的方法時使用的轉印用粘接層進行說明。作為轉印用粘接層，只要是透明、無著色、具有充分的轉印性即可，沒有特別限制，可以列舉出由粘合劑形成的粘合層、其中感光性樹脂層、感壓性樹脂層、感熱性樹脂層等。在液晶顯示裝置用基板中，從所需的耐烘烤性的觀點出發，優選感光性或感熱性樹脂層。作為粘合劑，例如優選光學透明性優良、具有適度的潤溼性、凝聚性和粘接性的粘合特性的粘合劑。作為具體例子，可以列舉出將丙烯酸類聚合物、矽氧垸類聚合物、聚酯、聚氨酯、聚醚、合成橡膠等聚合物作為適當的基礎聚合物而調製成的粘合劑等。關於粘合劑層的粘合特性的控制，可通過以往公知的方法適當地進行，例如利用形成粘合劑層的基礎聚合物的組成、分子量、交聯方式、交聯性官能團的含有比例、交聯劑的配合比例等來調節其交聯度和分子量。作為感壓性樹脂層，只要通過施加壓力來表現出粘接性即可，並無特別限制，感壓性粘接劑可使用橡膠類、丙烯酸類、乙烯基醚類、矽氧烷類等各粘合劑。就粘合劑在製造階段、塗布階段的形態而言，可以使用溶劑型粘合劑、非水系乳液型粘合劑、水系乳液型粘合劑、水溶性型粘合劑、熱熔型粘合劑、液狀固化型粘合劑、延遲性粘合型粘合劑等。橡膠類粘合劑在新高分子文庫13"粘合技術"株式會社高分子刊行會P.41(1987)中有記載。乙烯基醚類粘合劑有以碳原子數為24的烷基乙烯基醚聚合物為主劑的粘合劑；在氯乙烯/乙酸乙烯基酯共聚物、乙酸乙烯基酯聚合物、聚乙烯醇縮丁醛等中加入增塑劑混合而成的粘合劑。至於矽氧烷類粘合劑，使用橡膠狀矽氧烷以使膜形成並賦予膜凝縮力，使用樹脂狀矽氧烷以賦予粘合性或粘接性。作為感熱性樹脂層，只要通過加熱來表現出粘接性即可，沒有特別限制，作為感熱性粘接劑，可以列舉出熱熔融性化合物、熱塑性樹脂等。作為上述熱熔融性化合物，例如可以列舉出聚苯乙烯樹脂、丙烯酸樹脂、苯乙烯-丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂等熱塑性樹脂的低分子量物，巴西棕櫚蠟、木蠟、小燭樹蠟、米蠟、以及牛角瓜蠟(auricurywax)等植物類蠟，蜂蠟、蟲蠟、紫膠蠟、以及鯨蠟等動物類蠟，石蠟、微晶蠟、聚乙烯蠟、費託蠟、酯蠟、以及氧化蠟等石油類蠟，褐煤蠟、地蠟以及純地蠟等礦物類蠟等各種蠟類。此外，還可以列舉出松香、氫化松香、聚合松香、松香改性甘油、松香改性馬來酸樹脂、松香改性聚酯樹脂、松香改性酚醛樹脂以及酯膠等松香衍生物，酚醛樹脂、萜烯樹脂、酮類樹脂、環戊二烯樹脂、芳香烴樹脂、脂肪烴族系樹脂以及脂環族系烴樹脂等。另外，這些熱熔融性化合物優選分子量通常在10000以下、特別是在5000以下且熔點或軟化點在5015(TC的範圍內。這些熱熔融性化合物可以單獨使用1種，也可以2種以上並用。另外，作為上述熱塑性樹脂，例如可以列舉出乙烯類共聚物、聚醯胺樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、聚烯烴類樹脂、丙烯酸類樹脂、以及纖維素類樹脂等。其中，特別優選使用乙烯類共聚物等。感光性樹脂層由感光性樹脂組合物構成，可以是正型也可以是負型，沒有特別限定，也可以使用市售的抗蝕劑材料。作為轉印用粘接層使用的感光性樹脂層，因為在本發明的製造方法中的曝光工序中進行固化，所以可以通過該曝光使基板和光學各向異性層粘接。從液晶顯示裝置用基板的形成工序中存在的環境方面和防爆方面的問題出發，顯影優選是有機溶劑為5%以下的水系顯影，特別優選是鹼性顯影。另夕卜，感光性樹脂層優選由至少含有(1)聚合物、(2)單體或低聚物和(3)光聚合引發劑或光聚合引發劑體系的樹脂組合物構成。下面，對上述(1)(3)的成分進行說明。(1)聚合物作為聚合物(下面有時簡稱為"粘合劑")，優選由在側鏈上具有羧酸基或羧酸鹽基等極性基團的聚合物構成的鹼溶性樹脂。作為其例子，可以列舉出特開昭59-44615號公報、特公昭54-34327號公報、特公昭58-12577號公報、特公昭54-25957號公報、特開昭59-53836號公報以及特開昭59-71048號公報中記載的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物等。另外還可以列舉出在側鏈上具有羧酸基的纖維素衍生物。此外其它還可以優選使用在具有羥基的聚合物上加成環狀酸酐所形成的物質。另外，作為特別優選的例子，可以列舉出美國專利第4139391號說明書中記載的(甲基)丙烯酸苄酯和(甲基)丙烯酸的共聚物，(甲基)丙烯酸苄酯和(甲基)丙烯酸和其它單體的多元共聚物。這些具有極性基團的粘合劑聚合物可以單獨使用，或者也可以與通常的膜形成性聚合物並用的組合物狀態使用。聚合物相對於總固體成分的含量一般為2050質量％，優選為2545質量％。(2)單體或低聚物作為上述感光性樹脂層中使用的單體或低聚物，優選具有2個以上的烯鍵式不飽和雙鍵，且通過光的照射而發生加聚的單體或低聚物。作為這樣的單體和低聚物，可以列舉出在分子中具有至少1個可加聚的烯鍵式不飽和基團，且沸點在常壓下為IO(TC以上的化合物。作為其例子，可以列舉出聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯以及(甲基)丙烯酸苯氧乙酯等單官能丙烯酸酯或單官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙垸三丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三(丙烯醯氧基乙基)異氰脲酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)氰脲酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯；使三羥甲基丙烷或甘油等多官能醇加成環氧乙烷或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化而得到的物質等多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。進一步還可以列舉出特公昭48-41708號公報、特公昭50-6034號公報以及特開昭51-37193號公報中記載的氨酯丙烯酸酯類；特開昭48-64183號公報、特公昭49-43191號公報以及特公昭52-30490號公報中記載的聚酯丙烯酸酯類；作為環氧樹脂和(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。其中，優選三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。此外，其它還可以列舉出特開平11-133600號公報中記載的"聚合性化合物B"作為優選的例子。這些單體或低聚物可以單獨使用，也可以2種以上混合使用，它們相對於著色樹脂組合物的總固體成分的含量一般為550質量％，優選為1040質量％。(3)光聚合引發劑或光聚合引發劑體系作為上述感光性樹脂層中使用的光聚合弓I發劑或光聚合引發劑體系，可以列舉出美國專利第2367660號說明書中公開的vicinalpolyketaldonyl化合物、美國專利第2448828號說明書中記載的偶姻醚化合物、美國專利第2722512號說明書中記載的a-烴取代的芳香族偶姻化合物、美國專利第3046127號說明書以及美國專利第2951758號說明書中記載的多核醌化合物、美國專利第3549367號說明書中記載的三芳基咪唑二聚體和p-氨基酮的組合、特公昭51-48516號公報中記載的苯並噻唑化合物和三滷甲基-s-三嗪化合物、美國專利第4239850號說明書中記載的三滷甲基-三嗪化合物、美國專利第4212976號說明書中記載的三滷甲基噁二唑化合物等。特別優選為三滷甲基-S-三嗪、三滷甲基噁二唑以及三芳基咪唑二聚體。此外，其它還可以列舉出特開平11-133600號公報中記載的"聚合引發劑c"作為優選的例子。這些光聚合引發劑或光聚合引發劑體系可以單獨使用，也可以2種以上混合使用，特別優選使用2種以上。若使用至少2種光聚合引發劑，則可以改善顯示特性、特別是顯示不均可以減少。光聚合引發劑或光聚合引發劑體系相對於著色樹脂組合物的總固體成分的含量一般為0.520質量％，優選為115質量％。從有效防止不均的觀點出發，感光性樹脂層優選含有合適的表面活性劑。上述表面活性劑只要是能夠與感光性樹脂組合物混合即可使用。作為本發明使用的優選的表面活性劑，可以優選列舉出特開2003-337424號公報、特開2003-177522號公報、特開2003-177523號公報、特開2003-177521號公報、特開2003-177519號公報、特開2003-177520號公報、特開平11-133600號公報的、特開平6-16684號公報中的作為發明所公開的表面活性劑。為了取得更好的效果，優選含有氟系表面活性劑和/或矽系表面活性劑(氟系表面活性劑或矽系表面活性劑、同時含有氟原子和矽原子兩者的表面活性劑)中的任一種，或含有2種以上，最優選氟系表面活性劑。使用氟系表面活性劑時，該表面活性劑分子中的含氟取代基的氟原子數優選為138，更優選為525，最優選為720。若氟原子數過多，則對於不含氟的通常的溶劑的溶解性下降，因而從這方面來看不是優選的。若氟原子數過少，則無法獲得不均的改善效果，因而從這方面來看不是優選的。作為特別優選的表面活性劑，可以列舉出含有共聚物的表面活性劑，該共聚物含有由下述通式(a)以及通式(b)表示的單體，且通式(a)/通式(b)的質量比為20/8060/40。通式(a)H2C=，CO〇(CH2)nCmF2m+1通式(b)H2C=CJ—COO(CH2ipHC^(CH2CH20VF^式中，R1、f以及RS分別獨立地表示氫原子或甲基，W表示氫原子或碳原子數為15的烷基。n表示118的整數，m表示214的整數。p、q表示018的整數，但不包括p、q同時為O的情況。將特別優選的表面活性劑的由通式(a)表示的單體記為單體(a)，將由通式(b)表示的單體記為單體(b)。通式(a)中所示的CmF2一可以是直鏈也可以是支鏈。m表示214的整數，優選為412的整數。CmF2m+1的含量相對於單體(a)優選為2070質量％，特別優選為4060質量°/。。R'表示氫原子或甲基。另外，n表示l18，其中優選為210。通式(b)中所示的W和W分別獨立地表示氫原子或甲基，R"表示氫原子或碳原子數為15的烷基。p和q表示018的整數，但不包括p、q同時為0的情況。p和q優選為28。另外，作為特別優選的表面活性劑1分子中所含有的單體(a)，可以使用相互具有相同結構的單體，也可以使用在上述定義範圍內的結構不同的單體。這一點對單體(b)也同樣。特別優選的表面活性劑的重均分子量Mw優選為100040000，進一步更優選為500020000。表面活性劑的特徵在於含有共聚物，該共聚物含有由上述通式(a)和由通式(b)表示的單體，且通式(a)/通式(b)的質量比為20/8060/40。特別優選的表面活性劑IOO質量份，優選由單體(a)為2060質量份、單體(b)為8040質量份、以及其它任意單體為剩餘質量份所構成，進一步優選由單體(a)為2560質量份、單體(b)為6040質量份、以及其它任意單體為剩餘質量份所構成。作為單體(a)和(b)以外的可共聚的單體，可以列舉出苯乙烯、乙烯基甲苯、a-甲基苯乙烯、2-甲基苯乙烯、氯苯乙烯、苯甲酸乙烯基酯、乙烯基苯磺酸鈉、氨基苯乙烯等苯乙烯及其衍生物、取代體，丁二烯、異戊二烯等二烯類，丙烯腈，乙烯基醚類、甲基丙烯酸、丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、馬來酸、部分酯化馬來酸、苯乙烯磺酸馬來酸酐、桂皮酸、氯乙烯、乙酸乙烯基酯等乙烯基類單體等。特別優選的表面活性劑是單體(a)、單體(b)等的共聚物，其單體排列沒有特別限制，可以是無規的，也可以是有規則的，例如可以是嵌段型，也可以是接枝型。而且，特別優選的表面活性劑可以將2種以上分子結構和/或單體組成不同的表面活性劑混合使用。作為上述表面活性劑的含量，相對於感光性樹脂層的層總固體成分優選為0.0110質量％，特別優選為0.17質量％。表面活性劑是以規定量含有特定結構的表面活性劑和環氧乙烷基以及聚環氧丙垸基的物質，通過以特定範圍包含在感光性樹脂層中，具備該感光性樹脂層的液晶顯示裝置的顯示不均得以改善。若相對於總固體成分低於0.01質量％，則顯示不均無法改善，若超過10質量％，則顯示不均改善效果不太明顯。當上述感光性樹脂層中含有上述特別優選的表面活性劑時，從顯示不均得到改善的觀點出發是優選的。作為優選的氟系表面活性劑的具體例子，可以列舉出特開2004-163610號公報的段落編號中記載的化合物。另外，也可以直接使用下述市售的表面活性劑。作為可以使用的市售的表面活性劑，例如可以列舉出EftopEF301、EF303(新秋田化成株式會社制)、FloradeFC430、431(住友3M株式會社制)、MegafacF171、F173、F176、F189、R08(大日本油墨株式會社制)、SurflonS-382、SCIOI、102、103、104、105、106(旭硝子株式會社制)等氟系表面活性劑或矽系表面活性劑。另外，聚矽氧烷聚合物KP-341(信越化學工業株式會社制)、TroysolS-366(TroyChemical株式會社制)也可以作為矽系表面活性劑使用。在本發明中，還可以優選使用不含由通式(a)表示的單體的氟系表面活性劑，在特開2004-331812號公報的段落編號中記載的化合物。[其它的層]在轉印材料的臨時支撐體和光學各向異性層之間，為了控制力學特性和凹凸追隨性，優選形成力學特性控制層。作為力學特性控制層，優選具有柔軟彈性的層、因熱而軟化的層、因熱而呈現流動性的層等，特別優選熱塑性樹脂層。作為熱塑性樹脂層中使用的成分，優選特開平5-72724號公報中記載的有機高分子物質，特別優選選自從維卡(Vicat法)(具體而言是利用美國材料試驗法ASTMD1235的聚合物軟化點測定法)測定的軟化點約在80。C以下的有機高分子物質。具體可以列舉出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴、乙烯和乙酸乙烯基酯或其皂化物之類的乙烯共聚物、乙烯和丙烯酸酯或其皂化物、聚氯乙烯、氯乙烯和乙酸乙烯基酯及其皂化物之類的氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物之類的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物之類的乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯和乙酸乙烯基酯等(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯基酯共聚物尼龍、共聚尼龍、N-烷氧基甲基化尼龍、N-二甲基氨基化尼龍之類的聚醯胺樹脂等有機高分子。在轉印材料中，為了防止塗布多層塗布層時以及塗布後保存時成分的混合，優選設置中間層。作為該中間層，優選使用特開平5-72724號公報中作為"分離層"記載的具有氧阻隔功能的氧阻隔膜，或上述光學各向異性形成用的取向層。其中，特別優選的是將聚乙烯醇或聚乙烯吡咯垸酮和它們的改性物之一或多個混合而成的層。也可以同時用作上述熱塑性樹脂層、上述氧阻隔膜、上述取向層。為了在IC藏時保護免受汙染和損傷，在樹脂層上優選設置薄的保護膜。保護膜可以由與臨時支撐體相同或類似的材料構成，但必須容易從樹脂層分離。作為保護膜的材料，例如以矽紙、聚烯烴或聚四氟乙烯片為宜。光學各向異性層、以及根據需要形成的感光性樹脂層、轉印粘接層、取向層、熱塑性樹脂層以及中間層等各層，可採用浸漬塗布法、氣刀塗布法、簾式塗布法、輥式塗布法、繞線棒塗布法、凹版塗布法或擠壓接布法(美國專利2681294號說明書)通過塗布來形成。也可以同時塗布兩個以上的層。關於同時塗布的方法，在美國專利2761791號、美國專利2941898號、美國專利3508947號、美國專利3526528號的各說明書及原崎勇次著、塗布工學、253頁、朝倉書店(1973)中有記載。[將轉印材料轉印到基板上的方法]在本發明的製造方法中，使用轉印材料時，對於將轉印材料轉印到基板上的方法，沒有特別限定，只要能在基板上轉印上述光學各向異性層即可，方法沒有限定。例如，以轉印粘接層表面作為基板表面側，將形成為膜狀的本發明的轉印材料用層合機通過加熱和/或加壓後的輥或平板進行壓接或加熱壓接來進行貼合。具體可列舉出特開平7-110575號公報、特開平11-77942號公報、特開2000-334836號公報、特開2002-148794號公報中記載的層合機和層合方法，但從雜質和異物含量低的觀點出發，優選使用特開平7-110575號公報中記載的方法。之後也可以剝離支撐體，在通過剝離而露出的光學各向異性層表面上也可以形成其它的層，例如電極層等。[以圖案狀具有兩個以上的不同延遲的光學各向異性層]以圖案狀具有延遲的光學各向異性層，可以將通過對各圖案改變曝光條件而形成的光學各向異性層經過80'C40(TC的加熱工序來形成。作為改變曝光條件的方法沒有特別的限定，可以列舉出對各圖案分別進行曝光量等曝光條件不同的掩模曝光的方法、對各圖案使用曝光照度或曝光量等曝光條件變化的掩模的方法。另外，也可以通過使用雷射或電子線等在沒有掩模的情況下聚焦於預定的位置來進行直接掃描，從而進行曝光條件不同的圖案曝光。作為上述曝光的光源，優選選擇可以照射使感光性樹脂層可固化的波長範圍的光(例如365nm、405nm等)。具體地可以列舉出超高壓汞燈、高壓汞燈、金滷燈等。作為曝光量，通常為5200mJ/cr^左右，優選為10100mJ/cm2左右。作為兩種以上的互不相同的曝光條件下的圖案曝光的方法，例如可以考慮從曝光量為5100mJ/cn^的曝光條件中選擇任意兩種以上的曝光量，以這兩種以上的曝光量對各圖案進行掩模曝光的方法。另外，可以列舉出使用以圖案狀進行光吸收或光反射的掩模的方法，或對各圖案改變曝光時的溫度、氧濃度等進行掩模曝光的方法等。另外，例如在製作圖3(b)或(c)所示的液晶顯示用裝置吋等，上述曝光也可以從設置在圖案形成前的光學各向異性層上的濾色層上開始進行。這種情況下，濾色器自身變成一種光掩模，濾色器顯示的顏色可以實現不同條件的曝光。上述光學各向異性層顯示雙軸性時，由於可以正確地對液晶單元、特別是VA模式的液晶單元進行光學補償，因此是優選的。作為液晶性化合物，當使用具有反應性基團的棒狀液晶性化合物時，為了呈現雙軸性，必須使膽甾醇型取向或傾斜角在厚度方向逐漸變化的同時，通過照射偏振光使扭曲的混合膽甾醇型取向變形。作為通過照射偏振光使取向變形的方法，可以列舉出使用雙色性液晶性聚合引發劑的方法(EP1389199A1)、使用在分子內具有肉桂醯基等光取向性官能團的棒狀液晶性化合物的方法(特開2002-6138號公報)。上述任一方法在本發明中均可以使用。當上述光學各向異性層為正的a-板(a-plate)時，由於可以正確地對VA模式或半透射型液晶單元進行光學補償，因而是優選的。另外，當上述光學各向異性層為正的c-板(c-plate)時，由於可以正確地對IPS模式進行光學補償，因而是優選的。在VA模式、IPS模式的任一種情況下，也優選將偏振片保護膜之一作為光學補償片。在VA模式下，作為偏振片保護膜的光學各向異性層優選為負的c-板；對於IPS模式，優選為厚度方向的折射率最小的雙軸性。本發明的轉印材料中使用的單軸性的光學各向異性層可通過使單軸性的棒狀液晶性化合物按照使液晶的指向矢一致朝一個方向的方式取向來製得。這種單軸性取向可通過以下方法實現使沒有手性的液晶層在磨擦取向層或光取向層上取向的方法、在磁場或電場下使其取向的方法、施加拉伸或剪切之類的外力使其取向的方法等。下面，列舉實施例進一步具體說明本發明。以下實施例中所示的材料、試劑、物質量及其比例、操作等可以進行適當變更，只要不脫離本發明的主旨即可。因此，本發明的範圍不限於以下的具體例子。(熱塑性樹脂層用塗布液CU-1的製備)製備下述組合物，用孔徑為30pm的聚丙烯制過濾器過濾，用作熱塑性樹脂層用塗布液CU-1。熱塑性樹脂層用塗布液組成(％)_甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚組成比(摩爾比)-55/30/10/5、重均分子量=10萬，Tg^70。C)5.89苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚組成比(摩爾比)=65/35、重均分子量=1萬、tableseeoriginaldocumentpage44(取向層用塗布液AL-1的製備)製備下述組合物，用孔徑為30pm的聚丙烯制過濾器過濾，用作中間層/取向層用塗布液AL-1。中間層/取向層用塗布液組成(％)聚乙烯醇(PVA205、Kuraray株式會社制)3.21聚乙烯吡咯烷酮(LuvitecK30、BASF公司制)1.48蒸餾水52.10甲醇43.21(光學各向異性層用塗布液LC-1的製備)製備下述組合物，然後用孔徑為0.2pm的聚丙烯制過濾器過濾，用作光學各向異性層用塗布液LC-1。LC-1-1基於特開2004-123882號公報中記載的方法來合成。LC-l-2根據TetrahedronLett.志、第43巻、6793頁(2002)中記載的方法來合成。光學各向異性層用塗布液組成(％)棒狀液晶(LC-1-1)19.57水平取向劑(LC-l-2)0.01陽離子類光聚合引發劑(CyracureUVI6974、DowChemical公司制)0.40聚合f空製劑(IRGANOX1076、CibaSpecialtyChemicals株式會社)0.02丁酮80.0(轉印用粘接層用塗布液AD-1的製備)製備下述組合物後，用孔徑為0.2pm的聚丙烯制過濾器過濾，用作轉印用粘接層(感光性樹脂層)用塗布液AD-1。感光性轉印粘接/樹脂層用塗布液組成(質量％)_甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯=35,9/22.4/41.7摩爾比的無規共聚物(重均分子量為3.8萬)8.05KAYARADDPHA(日本化藥株式會社制)4.83自由基光聚合引發劑(2-三氯甲基-5-(p-苯乙烯基苯乙烯基)-1，3，4-噁二唑)0.12氫醌單甲基醚0.002MegafacF-176PF(大日本油墨化學工業株式會社制)0.05丙二醇單甲基醚乙酸酯34.80丁酮50.538甲醇1.61(感光性樹脂層用塗布液PP-K的製備)[表l]tableseeoriginaldocumentpage47表l中的組合物如下所示。_K顏料分散物組成(％)炭黑(德固賽公司制，SpecialBlack250)13.15-[3-氧代-2-[4-[3，5-雙(3-二乙基氨基丙基氨基羰基)苯基]氨基羰基]苯偶氮基]-丁醯基氨基苯並咪唑0.65甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28摩爾比的無規共聚物(重均分子量3.7萬)6.72丙二醇單甲基醚乙酸酯79.53_粘合劑組成(％)甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=78/22摩爾比的無規共聚物(重均分子量4萬)27.0丙二醇單甲基醚乙酸酯73.0[DPHA組成]DPHA溶液組成(％)KAYARADDPHA(日本化藥株式會社制)76.0丙二醇單甲基醚乙酸酯24.0(感光性樹脂層用塗布液PP-K的製備)感光性樹脂層用塗布液PP-K通過以下方法製得首先量取表1中記載的量的K顏料分散物1、丙二醇單甲基醚乙酸酯，在溫度24。C(±2°C)下混合，以150rpm攪拌10分鐘，然後量取表1中記載的量的丁酮、粘合劑1、氫醌單甲基醚、DPHA溶液、2-三氯甲基-5-(p-苯乙烯基苯乙烯基)-1，3,4-噁二唑、MegafacF-176PF，並在溫度25°C(士2。C)下按照前述順序進行添加，在溫度4(TC(±2°C)下以150rpm攪拌30分鐘。(RGB用感光性樹脂用塗布液的製作)下面對感光性樹脂層用塗布液的製作方法進行說明。表2中示出了各種感光性樹脂層用塗布液的組成。tableseeoriginaldocumentpage48表2中的組合物如下所示,[R顏料分散物-l組成]R顏料分散物-l組成(％)C.I.顏料紅色2548.05-[3-氧代-2-[4-[3，5-雙(3-二乙基氨基丙基氨基羰基)苯基]氨基羰基]苯偶氮基]-丁醯基氨基苯並咪唑0.8甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28摩爾比的無規共聚物(重均分子量3.7萬)8.0丙二醇單甲基醚乙酸酯83.2R顏料分散物-2組成(％)C丄顏料紅色17718.0甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28摩爾比的無規共聚物(重均分子:萬)12.0丙二醇單甲基醚乙酸酯70.03.7G顏料分散物組成(％)C丄顏料綠色36甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯環己酮丙二醇單甲基醚乙酸酯18.0:72/28摩爾比的無規共聚物(重均分子量3.7萬)12.035.035.0粘合劑2組成(％)甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/E戸基丙烯酸甲酯=38/25/37摩爾比的無規共聚物(重均分子量3萬)27.0丙二醇單甲基醚乙酸酯73.0[粘合劑3組成]_粘合劑3組成(％)甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯=36/22/42摩爾比的無規共聚物(重均分子量3萬)27.0丙二醇單甲基醚乙酸酯73.0(感光性樹脂層用塗布液PP-R的製備)感光性樹脂層用塗布液PP-R通過以下方法製得首先量取表2中記載的量的R顏料分散物-1、R顏料分散物-2、丙二醇單甲基醚乙酸酯，在溫度24°C(±2°C)下混合，以150rpm攪拌IO分鐘，然後量取表1中記載的量的丁酮、粘合劑2、DPHA溶液、2-三氯甲基-5-(p-苯乙烯基甲基)-1,3,4-噁二唑、2,4-雙(三氯甲基)-6-[4-(N,N-二乙氧基羰基甲基)3-溴苯基]-s-三嗪、噻吩嗪，並在溫度24。C(±2°C)下按照上述順序添加，以150rpm攪拌10分鐘，然後量取表2中記載的量的ED152，在溫度24°。(±2°C)下混合，以150rpm攪拌20分鐘，進而量取表1中記載的量的MegafacF-176PF，在溫度24。C(±2°C)下添加，以30rpm攪拌30分鐘，用#200尼龍篩過濾而得到。(感光性樹脂層用塗布液PP-G的製備)感光性樹脂層用塗布液PP-G通過以下方法製得首先量取表2中記載的量的G顏料分散物、CFYellow-EX3393、丙二醇單甲基醚乙酸酯，在溫度24"(士2。C)下混合，以150rpm攪拌IO分鐘，然後量取表2中記載的量的丁酮、環己酮、粘合劑l、DPHA溶液、2-三氯甲基-5-(p-苯乙烯基甲基)-l,3，4-噁二唑、2，4-雙(三氯甲基)-6-[4-(N，N-二乙氧基羰基甲基)-3-溴苯基]-s-三嗪、噻吩嗪，並在溫度24。C(±2°C)下按照上述順序添加，以150rpm攪拌30分鐘，進而量取表1中記載的量的MegafacF-176PF，在溫度24。C(土2'C)下添加，以30rpm攪拌5分鐘，用#200尼龍篩過濾而得到。(感光性樹脂層用塗布液PP-B的製備)感光性樹脂層用塗布液PP-B通過以下方法製得首先量取表2中記載的量的CFBlue-EX3357、CFBlue-EX3383、丙二醇單甲基醚乙酸酯，在溫度24。C(土2。C)下混合，以150rpm攪拌10分鐘，然後量取表2中記載的量的丁酮、粘合劑3、0^溶液、2-三氯甲基-5-(^苯乙烯基甲基)-1,3，4-噁二唑、噻吩嗪，並在溫度25°C(±2°C)下按照上述順序添加，在溫度40。C(士2匸)下以150rpm攪拌30分鐘，進而量取表l中記載的量的MegafacF-176PF，在溫度24°C(±2°C)下添加，以30rpm攪拌5分鐘，用#200尼龍篩過濾得到。(實施例l的轉印材料的製作)在厚度為100nm的易粘接聚對苯二甲酸乙二酯膜(COSMOSHINEA4100、東洋紡織株式會社制)的臨時支撐體上，用繞線棒依次塗布熱塑性樹脂層用塗布液CU-1、取向層用塗布液AL-1，並進行乾燥。乾燥膜厚分別為14.6pm、1.6pni。然後，用繞線棒塗布LC-1，在膜面溫度105。C下乾燥2分鐘，製成液晶相狀態後，在空氣下用160W/cm的空冷式金滷燈(Eyegraphics株式會社制)照射照度為240mW/cm2、照射量為600mJ/cm2的紫外線，將其取向狀態固定化，從而形成厚度為1.8pm的光學各向異性層。最後，塗布感光性轉印粘接層用塗布液AD-1，進行乾燥而形成l.(Him的感光性樹脂層，由此製成實施例1的轉印材料。(相位差測定)通過使用了纖維型分光光度計的平行尼科耳稜鏡法，測定了波長入時的正面延遲Re以及以慢軸作為旋轉軸使樣品傾斜土40度時在590nm下傾斜40°的延遲、傾斜-4(T的延遲。相位差測定結果如表3所示。此處，傾斜40°的延遲表示使波長590nm的光從以面內的慢軸作為傾斜軸(旋轉軸)相對於面內的法線方向傾斜+40°的方向入射而測定的延遲。表3tableseeoriginaldocumentpage51(實施例2的液晶顯示裝置用基板的製作)用小林駿介編著、彩色液晶顯示器、240頁、產業圖書(1994)中記載的一般方法，製作在玻璃基板上具有黑色矩陣以及RGB的三色濾色器的濾色基板。在其上，將實施例1的轉印材料使用層合機(株式會社日立Industries制(LamicII型))，在橡膠輥溫度為130°C、線壓為100N/cm、搬送速度為2.2m/分鐘的條件下，層合在上述在IOCTC下加熱了2分鐘的基板上，將臨時支撐體剝離後，用具有超高壓汞燈的接近式曝光機(日立電子Engineering株式會社制)，在基板和掩模(具有圖像圖案的石英曝光掩模)垂直豎立的狀態下，將曝光掩模面與該感光性樹脂層之間的距離設定在200pm，在R圖案形成部的曝光量為25mJ/cm2，G圖案形成部的曝光量為22mJ/cm2，B圖案形成部的曝光量為16mJ/cn^下進行UV曝光。然後，通過在23(TC的馬弗爐中烘烤1小時，從而製得具有延遲圖案的圖3(a)的方案的實施例2的液晶顯示裝置用基板。另外，除了在曝光量22mJ/cr^下進行整面曝光以外，其餘均與實施例2同樣地操作，由此製得比較例1的液晶顯示裝置用基板。由於液晶顯示裝置用基板中的R、G、B圖案非常細微，因此測定各自的圖案部的Re非常困難。所以通過以下方法求出各自的圖案部的Re。用與製作上述具有RGB的三色濾色器的濾色基板同樣的方法，製作整面的R、G、B濾色基板。通過使用與前述同樣的轉印方法將實施例1的轉印材料分別轉印到這些濾色基板上，並在實施例2和比較例1的液晶顯示裝置用基板製作時使用的曝光條件下進行曝光，求出實施例2和比較例1的液晶顯示裝置用基板中的R、G、B圖案部的Re^[直。即為了求出實施例2的R、G、B圖案部的Re，分別測定下述Re值使用了整面的R、G、B濾色基板者分別在曝光量為25mJ/cm2、22mJ/cm2、16mJ/cm2下曝光製成的液晶顯示裝置用基板的Re值。為了求出比較例1的R、G、B圖案部的Re，分別測定下述Re值使用了整面的R、G、B濾色基板者在曝光量為22mJ/cm2下曝光製成的液晶顯示裝置用基板的Re值。結果示於表4。表4樣品R圖案部正面G圖案部正面B圖案部正面Re(611)Re(545)Re(435)實施例2152.8136.4跳l比較例1134.2136.0147.1(實施例3的液晶顯示裝置用基板的製作)通過噴淋器對無鹼玻璃基板噴塗調整到25°C的玻璃洗滌劑液20秒，同時用具有尼龍毛的旋轉刷洗滌，用純水噴淋洗滌後，通過噴淋器噴塗矽烷偶聯劑溶液(N-P-(氨乙基)-氨丙基三甲氧基矽烷的0.3%水溶液，商品名KBM-603,信越化學)20秒，用純水噴淋洗滌。將該玻璃基板用基板預加熱裝置在IO(TC下加熱2分鐘。在上述玻璃基板上塗布取向層用塗布液AL-2(RN1199A、日產化學工業株式會社制)，進行乾燥，在22(TC燒成1小時，從而製作成取向層。燒成後的基板的膜厚為60nm。然後，對上述取向層進行磨擦處理，在該取向層上塗布光學各向異性層用塗布液LC-1。將其在膜面溫度為105X:下乾燥2分鐘，製成液晶相狀態後，在空氣下使用160W/cm的空冷式金滷燈(Eyegmphics株式會社制)，照射照度為240mW/cm2、照射量為600mJ/cm2的紫外線，將其取向狀態固定化，從而形成厚度為1.8jLim的圖1(d)的方案的圖案形成前的液晶顯示裝置用基板。在得到的圖案形成前的液晶顯示裝置用基板上塗布感光性樹脂組合物PP-K，使其乾燥，設置乾燥膜厚為2.0ixm的感光性樹脂層，用具有超高壓汞燈的接近式曝光機(日立電子Engineering株式會社制)，在基板和掩模(具有圖像圖案的石英曝光掩模)垂直豎立的狀態下，將曝光掩模表面與該感光性樹脂層之間的距離設定在200nm，在曝光量為500mJ/cn^下進行圖案曝光。用碳酸鈉類顯影液(含有0.06mol/L的碳酸氫鈉、同濃度的碳酸鈉、1%的二丁基萘磺酸鈉、陰離子表面活性劑、消泡劑、穩定劑，商品名:T-CD1，富士膠片株式會社制)與2-丙醇的混合液，在錐形噴嘴壓力為0.15MPa的條件下噴淋顯影，進行聚酯刷淨，使感光性樹脂層顯影，形成黑色矩陣，由此製作黑色矩陣基板。用具有超高壓汞燈的接近式曝光機(日立電子Engineering株式會社制)，在基板和掩模(具有圖像圖案的石英曝光掩模)垂直豎立的狀態下，將曝光掩模表面與該感光性樹脂層之間的距離設定在200pm，在R圖案形成部的曝光量為63mJ/cm2，G圖案形成部的曝光量為55mJ/cm2，B圖案形成部的曝光量為40mJ/cn^下進行UV曝光。最後，通過在230'C下烘烤1小時，形成具有延遲圖案的光學各向異性層。在其上塗布感光性樹脂組合物PP-R，使其乾燥，設置乾燥膜厚為2.0um的感光性樹脂層，通過與黑色矩陣同樣的工序形成R像素的圖案。但曝光量為100mJ/cm2。將形成了該R像素的基板用預加熱裝置在IO(TC下加熱2分鐘。然後塗布感光性樹脂組合物PP-G，使其乾燥，設置乾燥膜厚為2.0txm的感光性樹脂層，通過與R像素同樣的工序形成G像素。進而塗布感光性樹脂組合物PP-B，使其乾燥，設置乾燥膜厚為2.0um的感光性樹脂層，通過與R像素和G像素同樣的工序形成B像素。通過將該形成了R、G、B像素的基板在23(TC下烘烤1小時，得到圖3(c)的方案的實施例3的液晶顯示裝置用基板。另外，除了代替光學各向異性層的各RGB圖案形成部的圖案曝光，在曝光量為55mJ/cr^下進行整面曝光以外，其餘均與實施例3同樣地操作，由此製得比較例2的液晶顯示裝置用基板。(實施例4的液晶顯示裝置用基板的製作)對於通過與實施例3同樣的方法製作的黑色矩陣基板，在未進行實施例3中的光學各向異性層的各RGB圖案形成部的圖案曝光的情況下，按照與實施例3同樣的方法製作濾色器，得到圖3(c)的方案的實施例4的液晶顯示裝置用基板。但作為各像素的曝光量，分別使用以下曝光量來代替100mJ/cm2:對R像素使用212mJ/cm2、對G像素使用155mJ/cm2、對B像素使用107mJ/cm2。(相位差測定)對於上述圖案形成前的液晶顯示裝置用基板，在實施例3、實施例4和比較例2的液晶顯示裝置用基板製作時使用的曝光條件下進行曝光，製作光學各向異性基板。然後在該光學各向異性基板上，用使用與製作具有RGB的三色濾色器的濾色基板相同的方法，製作整面的R、G、B濾色基板，由此求出實施例3、實施例4和比較例2的液晶顯示裝置用基板中的R、G、B圖案部的Re值。即為了求出實施例3的R、G、B部的Re，對於以63mJ/cm2、55mJ/cm2、40mJ/cm2進行整面曝光而製成的光學各向異性基板，分別依次形成整面的R、G、B濾色器。另外，為了求出比較例2的R、G、B部的Re，對於使用了整面的R、G、B濾色基板者，對以55mJ/ci^進行整面曝光而製成的光學各向異性基板，分別形成了整面的R、G、B濾色器。這些液晶顯示裝置用基板的Re值的測定結果示於表5。表5tableseeoriginaldocumentpage55(各實施例的VA模式液晶顯示裝置的製作)分別對實施例2、實施例3、實施例4、比較例1和比較例2的液晶顯示用基板，在設置有作為其對向基板的TFT層的玻璃基板上，通過ITO的濺射來形成透明電極膜，在其上設置聚醯亞胺的取向膜，在相當於設置在濾色器的像素群周圍的黑色矩陣的外框的位置上，印刷含有間隔粒子的環氧樹脂的密封劑，將各液晶顯示用基板和對向基板在10kg/cm的壓力下貼合。然後在15(TC進行90分鐘的熱處理，使密封劑固化，得到兩片玻璃基板的層疊體。將該玻璃基板層疊體在真空下脫氣，之後恢復至大氣壓，在兩片玻璃基板的間隙中注入液晶，得到VA模式液晶單元。在該VA模式液晶單元的兩面，貼附SANRITZ株式會社制的偏振片HLC2-2518。作為彩色液晶顯示裝置用冷陰極管背光燈，將BaMg2Al,6027:Eu,Mn與LaP04:Ce,Tb以質量比50:50混合而成的螢光體作為綠色(G)，將￥203:Eu作為紅色(R)，BaMgAlH)017:Eu作為藍色(B)，製作具有任意色調的白色的三波長螢光燈。在該背光燈上設置具有該偏振片的VA模式液晶單元，製成VA模式液晶顯示裝置。由各個液晶顯示用基板得到的VA模式液晶顯示裝置的目視評價結果示於表6。[表6]樣品目視評價結果實施例2對比度視角特性良好，在黑顯示時的顏色偏差幾乎沒有發現實施例3對比度視角特性良好，在黑顯示時的顏色偏差幾乎沒有發現實施例4對比度視角特性良好，在黑顯示時的顏色偏差幾乎沒有發現比較例1對比度視角特性不好，在黑顯示時發現較少的顏色偏差比較例2對比度視角特性不好，在黑顯示時發現較少的顏色偏差權利要求1.含有光學各向異性層的液晶顯示裝置用基板的製造方法，該製造方法包含通過含有下述步驟[1]～[3]的方法來形成光學各向異性層[1]準備具有光學各向異性層形成用材料層的基板；[2]在所述光學各向異性層形成用材料層上進行曝光條件互不相同的兩種以上的圖案曝光；以及[3]對所述曝光後的基板進行80℃～400℃下的熱處理。2.根據權利要求1所述的方法，其中所述步驟[l]通過將光學各向異性層形成用材料層由轉印材料轉印到基板上來進行。3.根據權利要求2所述的製造方法，其中在光學各向異性層形成用材料層與基板之間存在有粘合層、或者感光性、感壓性或感熱性的樹脂層。4.根據權利要求1所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層直接形成在基板上。5.根據權利要求1所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層直接形成在將形成在基板上的取向層磨擦後的上面。6.根據權利要求1~5任一項所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層的面內延遲為40550nrn。7.根據權利要求16任一項所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料含有高分子。8.根據權利要求7所述的製造方法，其中所述高分子具有選自丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基醚基、氧雜環丁垸基以及環氧基中的至少一種聚合性基團。9.根據權利要求18任一項所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層是將含有具有至少一個反應性基團的液晶性化合物的溶液進行塗布乾燥而形成液晶相後，加熱或照射電離放射線來固化而形成的層。10.根據權利要求9所述的製造方法，其中所述液晶性化合物具有至少一個自由基聚合反應性基團和至少一個陽離子聚合反應性基團。11.根據權利要求10所述的製造方法，其中自由基聚合反應性基團是丙烯醯基或甲基丙烯醯基，且陽離子聚合反應性基團是乙烯基醚基、氧雜環丁烷基或環氧基。12.根據權利要求9~11任一項所述的製造方法，其中所述液晶性化合物為棒狀液晶性化合物。13.根據權利要求18任一項所述的製造方法，其中光學各向異性層形成用材料層是包含具有至少一個反應性基團的化合物的拉伸膜。14.根據權利要求13所述的製造方法，其中拉伸膜直接或隔著其它的層通過粘合劑與基板貼合。15.根據權利要求114任一項所述的製造方法，其中基板具有濾色層。16.—種液晶顯示裝置用基板，其是通過權利要求1~15任一項所述的方法製造的，且其包含光學各向異性層，該光學各向異性層以圖案狀具有互不相同的三個以上的延遲。17.根據權利要求16所述的液晶顯示裝置用基板，其具有濾色層，且所述延遲的圖案對應於濾色層顯示的顏色。18.—種液晶顯示裝置，其具有權利要求16或17所述的液晶顯示裝置用基板。19.根據權利要求18所述的液晶顯示裝置，其中所述液晶層的取向模式為TN模式、VA模式、IPS模式、FFS模式或OCB模式。20.具有延遲互不相同的兩個以上區域的光學各向異性層的形成方法，該方法包含下述步驟[1]和[2]:[l]對膜狀的光學各向異性層形成用材料進行曝光條件互不相同的兩種以上的圖案曝光；以及[2]對所述曝光後的材料進行8(TC400。C下的熱處理。全文摘要本發明提供簡便地製造液晶顯示裝置用基板的方法，該液晶顯示裝置用基板使液晶顯示裝置的顏色視角改善。本發明的液晶顯示裝置用基板的製造方法包含下述步驟[1]～[3][1]準備具有光學各向異性層形成用材料層的基板；[2]在前述光學各向異性層形成用材料層上進行曝光條件互不相同的兩種以上的圖案曝光；以及[3]對前述曝光後的基板進行80℃～400℃下的熱處理。文檔編號G02F1/139GK101285965SQ20081008708公開日2008年10月15日申請日期2008年4月11日優先權日2007年4月12日發明者中島正雄,兼巖秀樹,富田秀敏,森島慎一,網盛一郎申請人:富士膠片株式會社