酚聚合物以及包含該酚聚合物的光刻膠的製作方法

2023-10-27 17:12:17 2

酚聚合物以及包含該酚聚合物的光刻膠的製作方法
【專利摘要】本發明涉及一種酚聚合物以及包含該酚聚合物的光刻膠。本發明涉及新的聚合物，其包含與聚合物骨架間隔開的酚基團和光酸不穩定基團。本發明優選的聚合物可用作化學增強型正性光刻膠的組分。
【專利說明】酚聚合物以及包含該酚聚合物的光刻膠
[0001]本申請是申請號為200810109247.1，申請日為2008年3月12日，發明名稱為「酚聚合物以及包含該酚聚合物的光刻膠」的發明專利申請的分案申請。
【技術領域】
[0002]本發明涉及新的酹共聚物,其包含光酸不穩定基團(photoacid-liable group)和不同的酚，該酚通過例如聚合丙烯酸酯部分與所述共聚物分隔開。本發明的聚合物作為化學增強型正性光刻膠的組分是特別有用的。
【背景技術】
[0003]光刻膠是用來將影像轉印到基材上的光敏膜。在基材上形成光刻膠塗層，然後將該光刻膠層通過光掩膜曝光於活化輻射源中。所述光掩膜具有對活化輻射不透明的區域以及其它對活化輻射透明的區域。對活化輻射的曝光提供光刻膠塗層的光誘導化學轉變，由此將所述光掩膜上的圖案轉印到所述光刻膠覆蓋的基材上。曝光後，將所述光刻膠顯影從而提供允許選擇性處理基材的浮雕影像。
[0004]化學增強型光刻膠已經使用得越來越多，特別是用於形成亞微米影像以及其它高性能應用。這樣的光刻膠可以是負性的或正性的，並且每單元光生成酸通常包括許多交聯情況(在負性光刻膠情況下)或脫保護反應(在正性光刻膠情況下)。在正性化學增強型光刻膠情況下，某種陽離子光引發劑已經被用於誘導某種「阻斷」基團側鏈從光刻膠粘合劑上解離，或包含光刻膠粘合劑骨架的某種基團的解離。
[0005]雖然現有的光刻膠適用於許多用途，但是現有的光刻膠也顯示了重大的缺陷，特別是在高性能應用例如高解析度的亞半微米和亞四分之一微米特徵的形成等應用中。
[0006]因此，那些能夠以短波 輻射光成像的光刻膠引起人們的注意，所述短波輻射包括270nm或更低的曝光輻射，例如248nm的波長(由KrF雷射提供)。參見JP1996044063，其報導了使用KrF分檔器進行曝光的某種光刻膠。使用這種短曝光波長能夠形成更小的特徵。所以，那些在248nm曝光獲得良好解析度影像的光刻膠能夠形成極小(例如，低於0.25 μ m)的特徵，這也對應於對於更小尺寸電路圖形的穩定工業需要，例如，提供更大的電路密度以及經提高的裝置性能。
[0007]因此，新的光刻膠組合物是合乎需要的，特別是能夠在短波例如248nm成像的光刻膠組合物。

【發明內容】

[0008]我們現在已經發現新的酚聚合物，其包含光酸不穩定單元以及至少被碳或其它原子從所述聚合物骨架間隔開的酚基團。
[0009]本發明特別優選的聚合物包含聚合的丙烯酸酯基團，其包含與所述聚合物骨架間隔開的酹部分。
[0010]在一個方面，提供聚合物以及包含這種聚合物的光刻膠，其中所述聚合物包含含有下式I結構的重複單元:
[0011]
【權利要求】
1.一種包含光活性組分和樹脂的光刻膠組合物，所述樹脂包含下式的結構:
2.權利要求1的光刻膠，其中所述樹脂包含下式的結構:
3.一種形成正性光刻膠浮雕影像的方法，包括: (a)在基材上施用權利要求1或2的光刻膠的塗層；以及 (b)將所述光刻膠層曝光並顯影從而獲得浮雕影像。
4.權利要求3的方法，其中在所述光刻膠浮雕影像形成後將離子施用於所述基材。
5.一種製品，其包含在其上塗有權利要求1或2的光刻膠組合物的層的微電子晶片基材。
【文檔編號】C08F220/14GK103694404SQ201310531053
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2008年3月12日 優先權日:2007年3月12日
【發明者】J·F·卡梅隆 申請人:羅門哈斯電子材料有限公司