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一種漆霧處理房的製作方法

2023-11-06 15:35:33 2


本發明涉及漆霧處理應用技術領域,尤其是一種漆霧處理房。



背景技術:

現有技術中,仍然存在很多處理問題:洗滌效果不徹底,漆霧粉塵顆粒祛除率底;對漆霧中的有機物作用有限,排除的氣體異味重;處理流程設備龐大,噪音大佔用廠房面積大。



技術實現要素:

現有技術難以滿足人們的需要,為了解決上述存在的問題,本發明提出了一種漆霧處理房。

為實現該技術目的,本發明採用的技術方案是:一種漆霧處理房,包括噴漆房、風機、過濾層、螺旋風管A、導電收集箱、漆霧洗滌池和集氣室;所述漆房的內部上面設有過濾層,下面設有工作檯,在所述的漆房的外表面上部設有風機,下部與漆霧洗滌池的入口連接;在和所述的漆霧洗滌池依次連接的有集氣室、導電收集箱、螺旋風管A、光解倉和排氣管;所述集氣室內部設有離子發生器,底部設有接地件;所述的導電收集箱內部設有導電收集面,所述的導電收集面上套設有絕緣套。

進一步,在所述的光解倉包括過濾燈架和UV燈,UV燈均勻的固定在過濾燈架上,並且光解倉與排氣管相連。

進一步,所述漆霧洗滌池和集氣室、導電收集箱和光解倉分別通過螺旋風管B和螺旋風管A連接,在所述的集氣室和導電收集箱通過管道連接。

進一步,在所述的排氣管內設有排氣扇,出口處設有網狀的消音石棉,消音石棉內部設有活性炭。

與現有技術相比,本發明漆霧處理房具有以下有益效果:氣流中分離微粒裝置,其方法是氣流通過集氣室,集氣室的外壁接地,其中高壓電加到設置在集氣室內的離子發生器上,這樣從離子發生器向收集表面提供離子氣,從氣流中分離想要分離的物質;本發明的特徵在於導電收集面與外殼電絕緣;和與加到離子發生器上的高電壓相比具有直流電壓的相反符號的高電壓加到收集表面上;根據本發明的實施例,電絕緣材料層由ABS構成,和導電錶面包括設置在絕緣材料層上薄鉻層;該漆霧處理房漆霧處理效率高,避免造成二次汙染,處理流程設備安裝緊湊,佔用工作面積小,工作噪音小;真正做到節能環保,既環保又經濟實惠,操作簡單,實用性強,易於推廣使用。

附圖說明

圖1為本發明的整體結構示意圖;

圖2為本發明集氣室結構示意圖;

圖3為本發明導電收集箱結構示意圖;

附圖標記中:1-噴漆房、2-風機、3-過濾層、4-工作檯、5-螺旋風管A、6-導電收集箱、7-光解倉、8-漆霧洗滌池、9-集氣室、10-螺旋風管B、61-絕緣套、62-導電收集面、71-排氣管、91-離子發生器、92-接地件。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬於本發明保護的範圍。

請參閱說明書附圖1-3,在本發明實施例中,一種漆霧處理房,包括噴漆房1、風機2、過濾層3、螺旋風管A5、導電收集箱6、漆霧洗滌池8和集氣室9;所述漆房1的內部上面設有過濾層3,下面設有工作檯4,在所述的漆房1的外表面上部設有風機2,下部與漆霧洗滌池8的入口連接;在所述的漆霧洗滌池8依次連接的有集氣室9、導電收集箱6、螺旋風管A5、光解倉7和排氣管71,在所述的光解倉7包括過濾燈架和UV燈,UV燈均勻的固定在過濾燈架上,在所述的排氣管71內設有排氣扇,出口處設有網狀的消音石棉,消音石棉內部設有活性炭;所述的導電收集箱6內部設有導電收集面62,所述的導電收集面62上套設有絕緣套;所述集氣室9內部設有離子發生器91,底部設有接地件92;所述漆霧洗滌池8和集氣室9、導電收集箱6和光解倉7分別通過螺旋風管B10和螺旋風管A5連接,在所述的集氣室9和導電收集箱6通過管道連接。

工作原理:

本發明漆霧處理房本包括所述的風機2過濾層3,所述的過濾層3能夠過濾掉風機2吹就來的氣流中的雜誌;然後夾有油漆粒子的氣流進入所述的漆霧洗滌池8;進一步洗滌的氣流進入到集氣室9;所述的離子發生器91和導電收集面62,它們是用於分離氣流中油漆微粒的裝置,其方法是氣流通過集氣室9,集氣室9的外壁有接地件92,其中高壓電加到設置在集氣室內的離子發生器91上,這樣從離子發生器91向收集表面提供離子氣,從氣流中分離帶電油漆粒子。本發明的特徵在於導電收集面62、絕緣套61和與加到離子發生器91上的高電壓相比具有直流電壓的相反符號的高電壓加到導電收集面62上。根據本發明的實施例,電絕緣材料層由ABS構成,和導電收集面62包括設置在絕緣材料層上薄鉻層。光解倉7包括過濾燈架和UV燈,UV燈均勻的固定在過濾燈架上;排氣管71內設有排氣扇,出口處設有網狀的消音石棉,消音石棉內部設有活性炭。

以上所述,僅為本發明的較佳實施例,並不用以限制本發明,凡是依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何細微修改、等同替換和改進,均應包含在本發明技術方案的保護範圍之內。

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